智慧財產法院民事判決
100年度民專上字第5號上 訴 人 即反訴被上訴人 美商應用材料股份有限公司
（Applied Materials,Inc.）法 定代理 人 Stephen N. Adams訴 訟代理 人 林怡芳律師（僅受本訴之委任）
李貞儀律師（僅受本訴之委任）童啟哲（僅受本訴之委任）反訴被上訴人 美商業凱科技股份有限公司法 定代理 人 Thomas Edman上列二人共同訴 訟代理 人 陳彥希律師
林哲誠律師被 上訴人 即反 訴上訴 人 韓商周星工程股份有限公司
（Jusung Engineering CO., Ltd）
設大韓民國京畿道廣州市五浦邑陵坪里四十九（＃49,Neungpyeong-Ri, Opo-eup,Gwangju-Si,Gyunggi-Do,Korea)法定代理人 黃喆周（Hwang Chul Joo）
住同上被上訴人即反訴被上訴人 英屬蓋曼群島商周星科技股份有限公司
設新竹縣竹北市○○○街○○號3樓之2法定代理人 金憲度 住同上上列二人共同訴訟代理人 樓穎智 住臺北市○○區○○○路○○○ 號7樓
黃章典律師張哲倫律師複代理人 湯舒涵律師
朱仙莉律師上列當事人間侵害專利權有關財產權爭議等事件，上訴人即反訴被上訴人對於中華民國99年12月31日臺灣新竹地方法院93年度重智字第3 號第一審判決提起上訴，本院於中華民國102 年6 月28日言詞辯論終結，判決如下：
主 文兩造上訴均駁回。
第二審訴訟費用各自負擔。
事實及理由
壹、程序部分：
一、本件乃涉外民事事件，且我國法院有國際裁判管轄權：㈠按國際私法上關於國際管轄權之決定，係依各國司法實務之
發展及準用或類推適用內國民事訴訟法上關於定管轄權之原則而定。本件本訴上訴人即反訴被上訴人美商應用材料股份有限公司（Applied Materials, Inc. 下稱美商應用公司）係美商、本訴被上訴人即反訴上訴人韓商周星工程股份有限公司（Jusung Engineering C0., Ltd.下稱韓商周星公司）係韓商、英屬蓋曼群島商周星科技股份有限公司（下稱英屬蓋曼群島商周星公司）係英屬蓋曼群島商、反訴被上訴人美商業凱科技股份有限公司（下稱美商業凱公司）係美商，均為外國法人，具有涉外因素，為涉外民事事件。又中華民國涉外民事法律適用法雖於民國100 年5 月26日修正施行，惟無論修正前後之涉外民事法律適用法均無關於國際管轄權之規定，而依據修正前第30條及修正後第1 條之規定：「涉外民事，本法未規定者，適用其他法律之規定，其他法律無規定者，依法理」。又按民事事件涉及外國人或外國地者，為涉外民事事件，內國法院應先確定有國際管轄權，始得受理，次依內國法之規定或概念，就爭執之法律關係予以定性後，決定應適用之法律（即準據法），而涉外民事法律適用法並無明文規定國際管轄權，應類推適用民事訴訟法之規定（最高法院98年度台上字第2259號判決意旨參照）。故中華民國法院對本件有無國際管轄權之認定，應類推適用中華民國民事訴訟法之規定。
㈡復按涉外民事訴訟事件，管轄法院須以原告起訴主張之事實
為基礎，先依法庭地法或其他相關國家之法律為「國際私法上之定性」，以確定原告起訴事實究屬何種法律類型，再依涉外民事法律適用法定其準據法（最高法院92年度臺再字第22號民事判決參照）。另按涉外民事法律適用法規定「實體」法律關係所應適用之「準據法」，與因「程序上」所定「法院管轄權」之誰屬係屬二事（最高法院83年度臺上字第1179號民事判決參照）。又管轄權之有無，固應依原告主張之事實為據，然管轄權之有無，為受訴法院應依職權調查之事項，與當事人之請求是否成立無涉（最高法院98年度台抗字第709 號判決意旨參照）。依法理，此於國際管轄權之認定上，亦應類推適用。再按訴訟，由被告住所地之法院管轄；被告住所地之法院不能行使職權者，由其居所地之法院管轄；訴之原因事實發生於被告居所地者，亦得由其居所地之法院管轄；民事訴訟法第1 條第1 項定有明文。對於私法人或其他得為訴訟當事人之團體之訴訟，由其主事務所或主營業所所在地之法院管轄，同法第2 條第2 項亦有明文。又因侵權行為涉訟者，得由行為地之法院管轄，為同法第15條第1項所明定。本件美商應用公司主張韓商周星公司侵害其專利權應負擔損害賠償責任，韓商周星公司則主張美商應用公司違反公平交易法、侵權行為，應負損害賠償責任，且上述侵權行為之結果，及美國應用公司所受之損害亦發生於臺灣境內，揆諸前開說明及規定，中華民國法院就本件涉外事件有國際管轄權。
㈢再按專利法所生之第一、二審民事訴訟事件，智慧財產法院
有管轄權，智慧財產法院組織法第3 條第1 款、智慧財產案件審理法第7 條定有明文。是本院對本件涉外事件有管轄權。又關於由侵權行為而生之債，依侵權行為地法，修正前涉外民事法律適用法第9 條第1 項本文定有明文。而以智慧財產為標的之權利，依該權利應受保護地之法律，涉外民事法律適用法第42條第1 項亦定有明文。準此，本件涉外民事事件之準據法，無論依修正前後之涉外民事法律適用法之規定，均應依中華民國之法律。
二、本件美商業凱公司於100 年6 月3 日向經濟部申請撤回認許，經經濟部100 年6 月7 日經授商字第10001116670 號函同意撤回認許（見本院卷四第61頁），故美商業凱公司在臺訴訟及非訟代理人郭怡之已喪失代理權限。美商業凱公司乃依民事訴訟法第175 條規定，於101 年5 月22日具狀聲明由新任之法定代理人Thomas Edman承受本件訴訟（見本院卷四第54頁），並提出委任狀正本（見本院卷四第62頁）。經核並無不合，應予准許，併此敘明。
貳、實體部分：
一、本訴部分：㈠美商應用公司主張：
⒈美商應用公司於原審起訴主張：
⑴美商應用公司為全球知名之半導體、平面顯示器與液晶顯示
器製程設備與服務供應商，在臺灣擁有數百項與半導體、平面顯示器與液晶顯示器製程及設備相關之物品及方法專利。美商應用公司為中華民國經濟部智慧財產局專利證書發明第152996號「電漿室中以可彎曲方式懸固之氣體散流組件」專利（下稱系爭專利）之專利權人，專利期間自西元2002年3月1 日起至2021年1 月15日止。韓商周星公司為一韓國之半導體、平面顯示器與液晶顯示器製程設備製造商，而主營業所設於臺灣新竹縣之英屬開曼群島商周星公司係韓商周星公司之關係企業，共同為半導體、平面顯示器與液晶顯示器製程設備之經銷、客戶服務及其他業務提供者。詎韓商周星公司製造並在臺灣銷售之用於液晶顯示器（LCD ），即「型號
EUR EKA 6000」之「供液晶顯示器用之電漿輔助化學氣相沈積設備」（下稱系爭產品），已侵害系爭專利。
⑵爭點一：關於申請專利範圍解釋①系爭專利申請專利範圍第1 項所謂之「連接」係表示懸置機
構與氣體散流盤係處於連接之狀態而非分離，並無限制「懸置機構與氣體散流盤必須先是兩個獨立構件，再予以連接」之意，亦即系爭專利申請專利範圍並未要求或限制懸置機構與氣體散流盤須為兩個獨立之構件，此經經濟部智慧財產局舉發不成立審定、臺北高等行政法院97年度訴字第739 號判決及最高行政法院99年度判字第945 號判決所肯認。②依經濟部智慧財產局所公布之「專利侵害鑑定要點」第三章
第一節第四段「解釋申請專利範圍之原則」可知，解釋申請專利範圍時，應以申請專利範圍本身之文字意義為其主要認定依據，不得以說明書中對於「實施例」之說明限縮解釋申請專利範圍。
③系爭專利申請專利範圍第1 項之主要技術特徵在於有一「至
少一可彎曲部分『位於氣體散流盤之上』之懸置機構」，韓商周星公司將系爭專利申請專利範圍第1 項之技術特徵曲解並限縮為「一可彎曲之懸置機構」，顯然錯誤。且最高行政法院99年度判字第945 號判決已認定系爭專利之特徵從系爭專利申請專利範圍之文字本身即明顯可知，係在於具有至少一可彎曲部分位於氣體散流盤之上之懸置機構，並藉此可彎曲部分解決氣體散流盤因為熱膨脹所造成之扭曲及破裂問題並施予實質熱阻抗。
④一般金屬延展性與可彎曲係兩種不同概念，金屬具有一般延
展性並不代表其必然可彎曲，美商應用公司與經濟部智慧財產局之見解均同，此經臺北高等行政法院97年度訴字第739號判決及最高行政法院99年度判字第945 號判決所肯認。
⑤最高行政法院99年度判字第945 號判決已認定懸置機構並非
必需有「間隙分隔」或需由「四片」構成才可彎曲，且「間隙」或「四片」並非系爭專利之必要技術特徵、縱算懸置機構為「完整而不中斷」皆可據以實施而仍可達到系爭專利發明之目的。
⑥系爭專利申請專利範圍之揭示已屬明確，無須限制懸置機構
之可彎曲部分應為某特定長度，亦無須限定可彎曲之程度，此經臺北高等行政法院97年度訴字第739 號判決及最高行政法院99年度判字第945 號判決所肯認。
⑶爭點二：關於專利有效性①最高行政法院99年度判字第945 號判決已認定系爭專利申請
專利範圍之技術特徵為「具有一位於氣體散流盤之上至少一可彎曲部份之懸置機構」，且證據3 並未揭露或教示此項特徵，故證據3 無法作為使系爭專利無效之先前技術。又證據
2 未揭露或教示「一位於氣體散流盤之上至少一可彎曲部份之懸置機構」之特徵，不論證據3 或證據3 與證據2 之結合，均無法認定系爭專利無效。
②系爭專利第一次舉發案之舉發不成立審定係以證據3 之固定
懸掛壁及可彎曲的薄壁，與系爭專利之懸置機構比對，並參考證據3 之薄壁之可彎曲性，仍認為系爭專利具有新穎性及進步性，此經最高行政法院99年度判字第945 號判決所肯認。
③系爭專利申請專利範圍第1 項之多項技術特徵未為證據2 所
揭露，且證據2 並未揭露位於氣體散流盤之上可彎曲部分之懸置機構，故系爭專利相較於證據2 具有新穎性與進步性。
又系爭專利申請專利範圍第1 項之多項技術特徵未為證據2所揭露。
④證據2 與證據3 欲解決之問題不相同，且兩者之技術內容並
未促使該發明所屬技術領域中具有通常知識者將其所揭露之技術內容組合在一起，故證據2 與證據3 之組合並非明顯。
又證據2 已說明其與證據3 之結合並不恰當，兩者技術內容所揭露之必要技術特徵先天即不相容，故其技術內容組合並非明顯。又證據3 揭露其已欲解決散流盤熱膨脹之問題，故於發明所屬技術領域中具有通常知識之人並無動機去結合證據2 與證據3 。
⑤系爭專利申請專利範圍第1 項相對於證據2 與證據3 之組合
，具有不可預期之功效，而具有進步性。縱將證據2 與證據
3 組合，僅能得出可彎曲之懸置機構位於氣體散流盤下方之結果，亦無法產生系爭專利之發明。證據2 所教示者，係為分離板彎曲部需在分離板本體之下，分離板彎曲部之一端連接於分離板本體，而另一端連接於反應室腔體之側壁。且因證據3 設置懸掛裝置之位置並未提供任何供懸掛裝置彎曲之空間，自不能在證據3 以證據2 之分離板彎曲部替換懸掛裝置。若強行組合證據2 與證據3 ，所產生之系統中具有之可彎曲懸置機構將會在氣體散流盤下方，仍未揭露系爭專利在氣體散流盤上方有可彎曲之懸置機構之特徵，故系爭專利相對於證據2 與證據3 之組合仍具有進步性。
⑷爭點三：關於侵權分析：請見密封附件之說明。
⑸爭點四：關於損害賠償①韓商周星公司等分別於92年5 月30日及同年10月28日與訴外
人奇美電子股份有限公司（下稱奇美公司）簽訂1 台第5 代系爭產品之買賣合約，復於92年12月1 日於其網站上發布訊息表示追加簽訂2 台第5 代系爭產品及1 台第5.5 代系爭產品之買賣合約，足見韓商周星公司等確實銷售予奇美公司至少4 台第5 代系爭機器。況據美商業凱公司臺灣分公司前派駐於奇美公司之客服工程師王善標於94年1 月20日所出具之聲明書可知，韓商周星公司至94年1 月20日前至少銷售並交付奇美公司共4 台之系爭機器。
②由韓國財務監督服務（Financial SupervisoryService）網
站於2003年6 月2 日、2003年10月28日、2003年12月1 日及2004年8 月18日所公布韓商周星公司揭露之公開資訊可知，韓商周星公司分別於2003年5 月30日、2003年10月28日、2003年11月28日及2004年8 月18日獲得奇美公司共5 台第五代氣相沈積設備訂單；另依韓國財務監督服務網站於2003年11月14日及2004年9 月1 日之資料可知，韓商周星公司於2003年11月交付1 台第五代氣相沈積設備，並於2004年6 月交付
2 台第五代氣相沈積設備；復依據韓國財務監督服務網站於2005年3 月30日之資料可知，韓商周星公司於2004年8 月18日已交付設備予奇美公司。是韓商周星公司等至少已銷售並交付奇美公司共4 台之系爭機器，故就其造成美商應用公司之損害，應負損害賠償責任。
③系爭專利產品為氣相沈積設備銷售及使用上不可分離之重要
設備，故計算本件侵權損害賠償金額時，應以韓商周星公司等銷售整台氣相沈積設備所獲得之利潤計算，美商應用公司請求韓商周星公司等賠償因其侵害行為所得利益，符合專利法第85條第1 項第2 款規定。又韓商周星公司等無法舉證證明美商應用公司於94年12月23日2 年前（即於92年12月23日前），已知悉韓商周星公司等有侵權行為之事實，是韓商周星公司主張美商應用公司之擴張請求已經罹於時效，自無可採。
⑹爭點五：關於請求權基礎與韓商周星公司等之侵權行為態樣①韓商周星公司等在臺灣境內至少從事「販賣」、「使用」及
「販賣之要約」此三種行為態樣之任何一者，侵害系爭專利。韓商周星公司等在臺灣針對系爭產品為「販賣之要約」之行為，亦屬侵害系爭專利之行為。
②韓商周星公司等過去及目前所繼續進行之行為，包括系爭產
品之安裝、設定、測試、技術指導、操作訓練或維修等行為確實已構成侵害專利之行為，渠等行為亦屬我國專利法第56條所規範之「使用」行為。
⑺爭點六：美商應用公司撤回系爭專利申請專利範圍第16項及
第18項之主張非屬訴之變更，無須韓商周星公司等同意。美商應用公司於起訴時主張系爭專利申請專利範圍第1 項、第16項及第28項，惟為簡化本件訴訟之爭點，已於民事準備書26狀撤回系爭專利申請專利範圍第16項及第28項之主張，此項撤回乃屬攻擊防禦方法之減縮，並無涉及訴之變更或撤回，故無須韓商周星公司等人之同意。
⑻爰聲明：①被上訴人即反訴上訴人不得製造、為販賣之要約
、販賣、使用或為上述目的而進口「型號EUREKA 6000 」之「供液晶顯示器用之電漿輔助化學氣相沈積設備」及其他侵害上訴人即反訴被上訴人所有中華民國發明第152996號專利之電漿輔助化學氣相沈積設備。②被上訴人即反訴上訴人應連帶給付上訴人即反訴被上訴人新台幣（下同）178,200,00
0 元，及自起訴狀繕本送達之翌日起至清償日止，按週年利率5%計算之利息。③訴訟費用由被上訴人即反訴上訴人負擔。④上訴人即反訴被上訴人願供擔保，請准宣告假執行。
⒉原審為美商應用公司敗訴之判決，美商應用公司據此提起上訴，並主張：
⑴程序部分：韓商周星公司等人於臺灣境內為「販賣」、「使
用」及「為販賣之要約」系爭產品等至少三種侵權行為，且上述侵權行為之結果，及美商應用公司所受之損害亦發生於臺灣境內，臺灣法院自有管轄權。
⑵原審以界定系爭專利申請專利範圍第1 項懸置機構與氣體散
流盤應為「獨立」構件之解釋作為形成其判決理由之基礎，然原審所界定之技術特徵不僅並未記載於系爭專利申請專利範圍第1 項，亦非與先前技術區別之技術特徵。又原審認為懸置機構與氣體散流盤應屬「獨立」構件或非一體成型之認定，係將系爭專利申請專利範圍解讀為係在描述製造懸置機構及氣體散流盤之特定方式，進而認定韓商周星公司之系爭產品並未侵害系爭專利申請專利範圍第1 項，顯然違反解釋申請專利範圍之原則，且與經濟部智慧財產局舉發不成立審定及最高行政法院99年度判字第945 號判決意旨相違背。
⑶有關申請專利範圍解釋部分：
①系爭專利申請專利範圍第1 項所謂之「連接」係表示懸置機
構與氣體散流盤係處於連接之狀態而非分離，並無限制「懸置機構與氣體散流盤必須先是兩個獨立構件，再予以連接」之意，亦即系爭專利申請專利範圍並未要求或限制懸置機構與氣體散流盤須為兩個獨立之構件，此業經經濟部智慧財產局舉發不成立審定、臺北高等行政法院97年度訴字第739 號判決及最高行政法院99年度判字第945 號判決所肯認。
②系爭專利說明書所舉之實施例，亦明確以「連接」一詞，同
時描述兩構件為「一體成型」式的連結及兩構件為「分離構件」式連結的結構關係，故所謂「連接」顯然並非僅限於用以描述原本為分離構件然後相連接之情況，而亦包括一體成型之情況。又韓商周星公司於其申請之中華民國第00000000號之發明專利申請案中，亦使用「連接」一詞來描述「懸置機構」與「氣體散流盤」為一體成型之情況下兩者之結構關係，顯見本領域中具有通常知識者均知「連接」亦包含一體成型式之結構。詎韓商周星公司於本件訴訟中抗辯「連接」一詞之解釋，竟與其於申請專利所使用與認知之解釋相違背，其抗辯顯無可採。
③系爭專利申請專利範圍之元件命名係依其技術特徵為之，縱
以韓商周星公司自稱為一體成型設計之產品，亦可清楚讀出懸置機構之第一端、第二端及該第一端及第二端之間之可彎曲部分，是不論懸置機構與氣體散流盤為一體成型或分離構件，第二端及該第一端及第二端之間之可彎曲部分等申請專利範圍之元件均可被明確讀出。
④由系爭專利說明書第3 頁至第4 頁之系爭專利發明目的可知
，系爭專利申請專利範圍第1 項所謂之「可彎曲」應係指其彎曲程度足以容納氣體散流盤的因熱所產生之膨脹應力，亦即藉由可彎曲之懸置機構而降低氣體散流盤上之機械應力。⑤以一般熟習此項技藝之人士皆知，「延展性」與「可彎曲性
」係為不相同但亦不互斥之兩個性質概念。蓋「延展性」係為材料先天之基礎性質，每種材質之延展性均為固定，無法以人力改變；而「可彎曲性」則為在最終裝置上之力學特徵，係可以後天人為之設計調整，自與「延展性」之概念完全不同，故金屬具有一般延展性，並不代表其必然可彎曲。
⑥於解釋申請專利範圍時，應以申請專利範圍本身之文字意義
為其主要認定依據。系爭專利申請專利範圍第1 項並無任何「間隙」或「四片」之字眼，故顯並未限定懸置機構必須有間隙分隔或必須為四片，亦即，懸置機構並非必需有「間隙分隔」或需由「四片」構成才可彎曲，縱懸置機構為「完整而不中斷」皆可據以實施而仍可達到系爭專利發明之目的，此業經臺北高等行政法院97年度訴字第739 號判決及最高行政法院99年度判字第945 號判決所肯認。系爭專利說明書中關於實施例之說明，不得用以限定系爭專利之權利範圍，且並無任何排除或限縮申請專利範圍之意思或效果。韓商周星公司主張若為完整而不中斷的設計，則懸置機構將因角區應力過大導致破裂並不可採，且與系爭專利申請專利範圍之解釋無關。
⑦最高行政法院99年度判字第945 號判決肯認系爭專利申請專
利範圍第1 項之主要技術特徵在於有一「至少一可彎曲部分『位於氣體散流盤之上』之懸置機構」，故原審認為「系爭專利有別於先前技術之技術特徵在於其為獨立構件可採用不同的材質應用於懸置機構」並無根據，且違背經濟部智慧財產局公告之專利侵害鑑定要點所揭示之解釋申請專利範圍之原則。
⑷有關韓商周星公司等所製造、販賣之系爭產品是否落入系爭專利申請專利範圍第1項之文義或均等範圍部分：
①韓商周星公司所提出之94年7 月21日台大嚴慶齡工業研究中
心「專利技術鑑定報告」所檢附之「附件B 」之B2頁圖示可知，系爭產品之技術內容對應於系爭專利編號A 至E 之技術特徵，亦可分析為編號a 至e 共五個要件。而系爭產品之技術特徵為：a.一種用於電漿室的進氣歧管，該歧管至少包含；b. 一 背壁，且該背壁有一進氣穿孔（orifice ）；c.一氣體散流盤(gas distribution plate)，且該氣體散流盤有數個出氣穿孔，而該氣體散流盤與該背壁有分隔且位於該背壁下；d.一懸置裝置（suspension）有一第一端、一第二端、及該第一端與該第二端之間且位於該氣體散流盤之上的至少一可彎曲部分；該第一端連接於該背壁；該第二端連接於該氣體散流盤；e.該懸置機構圍繞著該進氣歧管中的區域，該區域延伸至該背壁與該氣體散流盤之間，且其中之該進氣穿孔與該出氣穿孔為該區域的流體傳遞（fluid communicat
ion ）。②系爭產品技術內容中之要件a 、b 、c 、d 等四個要件，已
為系爭專利申請專利範圍第1 項之技術特徵A 、B 、C 、E等四項要件之文義所讀取。又系爭產品之設計乃根據系爭專利之技術特徵所設計，且因此得到系爭專利之有益功效，因系爭產品採用一位於氣體散流盤之上之可彎曲的薄懸置機構，以達到減少因電漿室運作時之高溫而造成氣體散流盤變形的程度。亦即，系爭產品係採用與系爭專利相同具有可彎曲部分之懸置機構，來達成分散氣體散流盤橫向應力，進而產生減少氣體散流盤之變形而使氣體沈積均勻之效果，故系爭產品具有系爭專利之申請專利範圍第1 項之全部相同之要件與技術特徵，而構成文義侵害。
③韓商周星公司僅爭執系爭產品技術內容中的要件d 部分。惟
由美商應用公司所提出原證93之電腦模擬分析結果與原證99號之補充分析報告，均能證明系爭產品之懸置機構具有位於氣體散流盤之上至少一可彎曲部分（即要件d 部分）。又韓商周星公司主張系爭產品之懸置機構與氣體散流盤為「一體成型式的連接」，但系爭專利之懸置機構與氣體散流盤應為兩個「分離構件再予以連接」，然不論是「分離構件再予以連接」或「一體成型式的連接」，系爭專利與系爭產品均以採用具有「可彎曲」部分之懸置機構作為技術手段，來達成「分散氣體散流盤橫向應力」之功能，進而產生「減少氣體散流盤之變形達到氣體散流盤沈積均勻」之效果，故系爭產品「一體成型」之設計相對於系爭專利，並未產生實質差異，有均等論之適用，而構成均等侵害。
④原審就均等論之分析錯誤，係源自於其對於申請專利範圍解
釋之錯誤（即將懸置機構與氣體散流盤解釋為分離構件），並以該錯誤之解釋作為其認定系爭專利與系爭產品不均等之主要理由。系爭產品與系爭專利申請專利範圍第1 項在技術手段、功能及結果上均實質相同，且無先前技術阻卻之狀況，因此兩者確為均等，適用均等論。
⑤系爭產品具有系爭專利更正後申請專利範圍第1 項之全部技
術特徵，即系爭產品完全落入系爭專利更正後之申請專利範圍第1 項之權利範圍，故構成文義侵害，縱認不構成文義侵害，亦構成均等侵害。
⑸有關專利有效性部分：
①最高行政法院99年度判字第945 號判決已確認系爭專利申請
專利範之技術特徵「具有一位於氣體散流盤之上至少一可彎曲部份之懸置機構」且證據3 並未揭露或教示此項特徵，故證據3 並無法作為使系爭專利無效之先前技術。又證據2 未揭露或教示「一位於氣體散流盤之上至少一可彎曲部份之懸置機構」之特徵，不論證據3 或證據3 與證據2 之結合，均無法認定系爭專利無效。
②系爭專利第一次舉發案之舉發不成立審定係以證據3 之固定
懸掛壁及可彎曲的薄壁，與系爭專利之懸置機構比對，並參考證據3 之薄壁之可彎曲性，仍認為系爭專利具有新穎性及進步性，此經最高行政法院99年度判字第945 號判決所肯認。又系爭專利申請專利範圍第1 項之多項技術特徵未為證據
2 所揭露，且證據2 並未揭露位於氣體散流盤之上可彎曲部分之懸置機構，故系爭專利相較於證據2 具有新穎性與進步性。又系爭專利申請專利範圍第1 項之多項技術特徵未為證據2 所揭露。
③證據2 與證據3 欲解決之問題不相同，且兩者之技術內容並
未促使該發明所屬技術領域中具有通常知識者將其所揭露之技術內容組合在一起，故證據2 與證據3 之組合並非明顯。
證據2 已說明證據3 採用之「非降流型」電漿處理裝置有問題，而改採用「降流型」之設計，足見證據2 與證據3 之結合並不恰當，因此兩者技術內容所揭露之必要技術特徵先天即不相容，故其技術內容的組合並非明顯。又證據3 揭露其已欲解決散流盤熱膨脹之問題，故於發明所屬技術領域中具有通常知識之人並無動機去結合證據2 與證據3 。
④系爭專利申請專利範圍第1 項相對於證據2 與證據3 之組合
，具有不可預期之功效，而具有進步性。縱將證據2 與證據
3 組合，僅能得出可彎曲之懸置機構位於氣體散流盤下方之結果，亦無法產生系爭專利之發明證據2 所教示者，係為分離板彎曲部需在分離板本體之下，分離板彎曲部之一端連接於分離板本體，而另一端連接於反應室腔體之側壁。且因證據3 設置懸掛裝置之位置並未提供任何供懸掛裝置彎曲之空間，自不能在證據3 以證據2 之分離板彎曲部替換懸掛裝置。若強行組合證據2 與證據3 所產生之系統中具有之可彎曲懸置機構將會在氣體散流盤下方，故仍未揭露系爭專利在氣體散流盤上方有可彎曲之懸置機構之特徵，故系爭專利相對於證據2 與證據3 之組合仍具有進步性。再者，更正後之系爭專利申請專利範圍第1 項相對於證據2 與證據3 ，具有可專利性。
⑹有關損害賠償部分：
①韓商周星公司等至少已銷售並交付奇美公司共4 台之系爭機
器，故就其造成美商應用公司之損害，應負損害賠償責任。系爭專利產品為氣相沈積設備銷售及使用上不可分離之重要設備，故計算本件侵權損害賠償金額時，應以韓商周星公司銷售整台氣相沈積設備所獲得之利潤計算，美商應用公司請求韓商周星公司賠償因其侵害行為所得利益，符合專利法專利法第85條第1項第2款規定。
②韓商周星公司無法舉證證明美商應用公司於94年12月23 日2
年前（即於92年12月23日前），已知悉韓商周星公司有侵權行為之事實，是韓商周星公司主張美商應用公司之擴張請求已經罹於時效，自無可採。
⑺爰上訴聲明：①原判決關於本訴部分廢棄。②被上訴人即反
訴上訴人不得製造、為販賣之要約、販賣、使用或為上述目的而進口「型號EUREKA6000」之「供液晶顯示器用之電漿輔助化學氣相沈積設備」及其他侵害上訴人所有中華民國發明第152996號專利之電漿輔助化學氣相沈積設備。③被上訴人即反訴上訴人應連帶給付上訴人即反訴被上訴人178,200,00
0 元，及自起訴狀繕本送達之翌日起至清償日止，按週年利率5%計算之利息。④第一、二審訴訟費用由被上訴人即反訴上訴人負擔。⑤上訴人即反訴被上訴人願供擔保，請准宣告假執行。
㈡韓商周星公司則以：
⒈程序部分：
韓商周星公司於中華民國領域並無進口、製造、為販賣之要約或銷售系爭機器之行為，韓商周星公司所有與系爭設備有關之行為均發生在韓國，與本件有關之所有聯繫因素俱指向韓國，唯一一件事實上之聯繫因素（而非法律上之聯繫因素）即為購買之客戶在臺灣（即奇美公司），美商應用公司為藉由本件訴訟之提起而影響客戶購買設備之商業決定，仍不惜執意於我國起訴，益證其明知本件自始欠缺審判權及管轄權。美商應用公司刻意選擇於臺灣起訴，而非至聯繫因素較密切之韓國進行訴訟之另一重要原因，即為系爭專利之韓國對應案，其經核准之申請專利範圍遠遠小於系爭專利之權利範圍，致其難於基於韓國之對應專利主張任何權利，故美商應用公司如未能舉證證明韓商周星公司於我國領域內確有前述行為，本件即無進一步審理之必要。
⒉有關申請專利範圍解釋部分：
⑴系爭專利之發明重點：系爭專利所界定之懸置機構本身為習
知，而系爭專利發明之重點在於其懸置機構有一「可彎曲部分」以容納散流盤熱膨脹，以避免散流盤產生扭曲或破裂。
⑵系爭專利之「連接」應限兩以上不同物件之接合：
①由於系爭專利申請專利範圍所有界定「連接」之文義內容，
俱為描述兩不同、獨立構件之情狀，而「連接」之解釋在系爭專利全部請求項中應該一致，故系爭專利申請專利範圍第
1 項中懸置機構與散流盤之「連接」應解釋為兩獨立構件之結合。由原審於99年10月15日之審判筆錄、原審技術審查官於98年12月30日當庭提出之問題並當庭歸於原審卷內及原審判決之意見（原判決第78至79頁）已確認系爭專利申請專利範圍第1 項、第16項及第28項之「連接」要件，必須解讀為兩個獨立構件相互連接，不包括「懸置機構」及「散流盤」為一體成型之結構。
②美商應用公司自行揭露US5,844,205 及US4,854,263 兩件美
國專利前案，足見美商應用公司已自承且明知之先前技藝水準及內容。而被上證4 之US5, 844,205之發明係關於基板支撐座之加熱器，其散流盤與懸置機構（包括懸置機構連接背壁之端點）顯為一體成型（詳說明書Column 4, Lines10-11；另US4,854, 263之發明重點係關於散流盤的孔洞形狀，其散流盤並非懸置，並無懸置機構）。參酌系爭專利揭露之習知結構（一體成型）可知，系爭專利申請專利範圍第1 項之懸置機構解釋應為屬獨立構件，而不包含一體成型之情況，況美商應用公司已自承「氣體散流盤及懸置機構間之連結關係」很重要。
③美商應用公司主張原審僅以系爭專利以依序排列之元件結構
順序撰寫，即認定系爭專利之懸置機構與氣體散流盤屬獨立之構件。惟原審係參酌美商應用公司於系爭專利申請專利範圍與說明書自行作成之限制，始認定系爭專利之懸置機構與氣體散流盤屬獨立之構件，並非僅參考系爭專利以依序排列之元件結構順序撰寫。
④美商應用公司主張原審對系爭專利說明書第3 頁所載「電漿
室側壁」之解讀錯誤，故其關於懸置機構與氣體散流盤屬獨立構件之解釋，亦屬錯誤。惟懸置機構與氣體散流盤屬獨立構件以及其連接型態對系爭專利之主要技術係屬重要，應為不爭之事實。美商應用公司一方面自承兩者之連接關係與結構關係至為重要、將影響本件侵權之判斷，另方面卻又辯稱其連接關係與系爭專利之主要技術特徵無關，其主張自相矛盾。
⑤美商應用公司主張原審認定系爭專利懸置機構與氣體散流盤
屬獨立之構件，係不當以說明書所載之實施例限制申請專利範圍，有悖於侵害鑑定要點及我國法院判決實務之見解。惟原審係參酌系爭專利申請專利範圍關於「懸置構與氣體散流盤連接型態之界定」、系爭專利說明書中關於「如何利用材質及長寬比例來設計懸置機構以使其得具有可彎曲性」之敘述，以及美商應用公司於系爭專利之韓國對應案所檢附之產品設計圖說等事實，始認定系爭專利懸置機構與氣體散流盤屬獨立之構件，原審非僅依據系爭專利實施例即認定懸置機構與氣體散流盤屬獨立之構件。
⑶系爭專利之「可彎曲」：
①系爭專利所定義之「可彎曲」之「懸置機構」，應包含：A.
避免「散流器的扭曲或裂痕」；B.「懸置機構」應盡可能的長，且不包括長度受限於散流盤之設計；C.不包括單獨之一般金屬延展性；D.應限於「結構＋材料」之特性；以及E.不包括「完整而不中斷」之設計等必要前提。系爭專利申請專利範圍第1 項所謂「可彎曲」，於美商應用公司論證韓商周星公司構成侵害其系爭專利所定義「可彎曲」時，必須證明已達所謂「盡可能的長」，以致於足以產生「視其尺寸長厚比例及承受之外力」，且懸置機構之長度「受限於氣體散流盤厚度者」，不在系爭專利之權利範圍內。
②美商應用公司主張侵權之系爭專利申請專利範圍第1 項、第
16項及第28項等無效與專利無效抗辯有關之申請專利範圍解釋即經濟部智慧財產局N01 審定書認為系爭專利具可專利性之理由在於系爭專利第1 項、第16項及第28項申請專利範圍所稱「可彎曲部分」之範圍，不包括一般金屬之延展性，與美商應用公司自承之解釋相左，依美商應用公司之意見，系爭專利顯已包含習知技藝（金屬一般延展性），而不具可專利性。
⑷應限於「結構與材料」之特性：經濟部智慧財產局N01 舉發
審定書認為「材料上」之可彎曲係屬「眾所皆知」，且系爭專利必須仰賴「特定之設計」始能達成發明之承受熱膨脹應力之目的，所謂「特定之設計」當係指「結構上」之設計而言，然美商應用公司竟仍欲將習知技藝囊括於其私權範圍之內，則單以此而言，一個將「眾所皆知」之習知技藝納為申請專利範圍之專利，即難謂其為有效，乃刻意不當擴大「可彎曲」文義範圍之必然結果。
⑸不包括「完整而不中斷」之設計：系爭專利除申請專利範圍
第28項之文字將懸置機構定義為「四片」之外，系爭專利申請專利範圍第1 項及第16項皆因欠缺「四片」之定義，鑑於系爭專利之說明書已明確排除「完整而不中斷的設計」，且系爭專利申請專利範圍第1 項及第16項因欠缺記載「四片」之要件，而涵蓋其說明書所稱不希望之設計，明顯未為說明書所支持，則解釋後之系爭專利申請專利範圍第1 項及第16項，自應包含「四片」之要件，否則超過此範圍者俱屬說明書所未支持事項。
⒊有關專利有效性部分：
⑴實施不可能或困難：美商應用公司於系爭專利申請專利範圍
更正時加入「之上」之限制，其本身已造成實施不可能或困難。且美商應用公司一面稱「之上」很重要，又稱「之上」不重要，復又稱系爭專利申請專利範圍第1 項更正前（即加入「之上」之前）即得與證據3 區別，忽而謂系爭專利申請專利範圍第1 項更正後始得與證據三區分，其說詞前後矛盾。嗣於韓商周星公司提出證據2 向經濟部智慧財產局提出N0
2 之舉發案後，美商應用公司重新主張「之上」很重要，足見「之上」已成為美商應用公司目前防禦專利有效性攻擊最重要之基礎及理由，系爭專利若欠缺「之上」之特徵，將不足捍衛系爭專利之有效性，遑論更正後之系爭專利除系爭專利申請專利範圍第1 項之外，系爭專利申請專利範圍第16項及第28項並無「之上」之要件。
⑵不具「截角」之系爭專利申請專利範圍第1 項違反說明書之
教示及實施困難：系爭專利第1 項包含「方形」散流盤，但說明書排除方形散流盤懸置機構完整而不中斷之設計。又經濟部智慧財產局認定之事實（一般金屬延展性屬眾所皆知之習知技藝）及美商應用公司之主張（系爭案申請專利範圍所指之「可彎曲」包括一般金屬延展性），既然美商應用公司自承系爭專利之技術內容包含經濟部智慧財產局認定之「眾所皆知」習知技藝，系爭專利已無進步性可言。
⑶系爭專利相較於前案證據不具進步性：
①證據2 、證據3 與系爭專利均屬相同之技術領域，以及解決
相同之問題（如何容忍氣體散流盤的熱擴張），並揭示相同之技術手段，技藝人士欲解決系爭專利之問題時，可以輕易參照證據2 與證據3 。美商應用公司雖主張證據3 之可彎曲部分長度受限於氣體散流盤之厚度，惟於韓商周星公司提出證據2 後，足證系爭專利不具進步性。且證據2 與證據3 具有共通之技術特徵，技藝人士可輕易參考轉用其技術特徵，復以證據2 與證據3 之差異與系爭專利之發明欲解決之問題並不相關。
②證據2 之技術內容適用於各種電漿處理裝置，其不限於降流
型電漿處理裝置。而懸置機構可設置於證據2 之分離板之上方或下方，並不影響證據2 之發明之效果。又技藝人士係在遭遇到系爭專利欲解決之問題後，才搜尋先前技術之證據2與證據3 尋求解決問題之方法。再者，證據2 及證據3 可輕易結合，系爭專利之發明屬技藝人士能輕易完成者。
⑷美商應用公司系爭專利更正不合法，縱認更正准許，系爭專利更正後之內容亦為前案證據所揭露：
①美商應用公司於更正說明中僅說明界定「氣體散流盤作為陽
極電極」，卻未說明「氣體散流盤作為陽極電極」之用途為「以在該氣體散流盤下方形成電漿」，與更正本不符。
②依專利法及專利審查基準規定，僅在敘述或用語不充分或不
一致而導致文意不明確或界定不明確之情況，始得以認定為「不明瞭記載」。然系爭專利申請專利範圍第1 項、第16項及第28項在更正前之文意並非不明確，並無更正之必要，且美商應用公司提出之更正均並非針對文意或用語不明確而進行釋明，故不符「不明瞭記載之釋明」之規定。況美商應用公司所為更正事實上均非屬「不明瞭記載之釋明」，故美商應用公司以不明瞭記載之釋明為由新增更正1 「氣體散流盤位於進氣歧管背壁下方」、更正2 之「可彎曲部分是在氣體散流盤上方」及更正5 之「藉此該懸置機構之可彎曲部分容納該氣體散流盤之熱擴張」，不符專利法第64條第1 項第3款規定，應不准更正。
③更正3 之「該氣體散流盤作為一陽極電極以在該氣體散流盤
下方形成電漿」已改變申請專利之發明所欲解決之問題，導致實質變更申請專利範圍。又更正3 之「氣體散流盤作為陽極電極以在該氣體散流盤下方形成電漿」及更正4 之「該可彎曲部份明顯較氣體散流盤的厚度薄許多」非屬「置換為發明說明中就該技術特徵本身所記載之整體詳細描述」。至更正4 之「該可彎曲部分明顯較該氣體散流盤的厚度薄」不明確，不符專利法第26條第3 項規定，該更正應不予核准。
④縱認美商應用公司之更正經准許，惟更正3 之「氣體散流盤
作為陽極電極以在該氣體散流盤下方形成電漿」為證據3 所揭露，而更正4 之「該可彎曲部分明顯較該氣體散流盤的厚度薄」為證據2 與證據3 所揭露，至更正5 之「藉此該懸置機構之可彎曲部份容納該氣體散流盤之熱擴張」為證據2 與證據3 所揭露，足見更正後之系爭專利申請專利範圍第1 項業經前案證據所揭露而不具進步性。是美商應用公司於更正後申請專利範圍所提出之抗辯，自不可採。
⑸有關韓商周星公司未侵害系爭專利部分：
①系爭產品未文義侵害系爭專利：系爭專利不支持方形懸置機
構「完整而不中斷的設計」，而參酌系爭產品之工程圖及奇美公司第三次覆函清楚顯示系爭產品懸置機構角區域未切為四片，故系爭產品未文義侵害系爭專利。又系爭專利之連接係指兩獨立構件之接合，系爭產品係一體成型。復以系爭專利已界定其懸置機構不受限於氣體散流盤厚度，然系爭產品懸置機構小於氣體散流盤厚度。且系爭專利視傳統氣體散流盤「緊密連接」於電漿反應室之情況為一缺點，然系爭產品散流盤長度上方懸置機構不及散流盤長度1%，屬緊密連接。
另系爭專利藉彎曲來吸納熱膨脹，而系爭產品則否。況據美商應用公司之分析，系爭產品之懸置機構「未」圍繞進氣歧管中之區域，系爭專利之技術特徵包含「懸置機構圍繞該進氣歧管中之區域」，且反應室內部須保持一定真空，惟美商應用公司於原審已承認其模擬結果導致系爭產品產生塑性變形，顯然系爭產品懸置機構未完整圍繞進歧管中之區域，不構成文義侵害。
②系爭產品未均等侵害系爭專利：系爭專利所欲達成之技術效
果必然係指散流盤之不扭曲或不斷裂，若散流盤已扭曲或已斷裂，則當非技術手段解決問題之方法，亦非技術手段所產生之效果。又證據2 、證據3 及系爭專利均揭示藉由懸置機構的彎曲來容納氣體散流盤之熱擴張，至於如何讓懸置機構具有可彎曲性，三者並不相同，且基於三者各自不同做法，證據2 與證據3 可採用一體成形之結構，而系爭專利須為獨立構件之連接。且系爭專利相對於證據2 與證據3 不具進步性，並不能因此使系爭專利的專利範圍藉由「均等」而包含一體成形之結構。再者，證據2 與證據3 所揭示之氣體散流盤及懸置機構為一體成形，系爭專利則為兩獨立構件之連接，縱使證據2 與證據3 之組合可證明系爭專利不具進步性，系爭專利之專利範圍仍無法藉由「均等」而包含一體成形之結構。
③美商應用公司之模擬不可採：美商應用公司提出之ANSYS 模
擬有使用懸置機構總長度、使用與實際情況不符之材料係數（以室溫之金屬強度模擬高溫之反應）、刻意排除熱對流之影響、計算形變量時故意忽略說明書之教示、多處測試標準反覆、模擬結果顯係美商應用公司多次分析拼湊而成等謬誤，不足以證明韓商周星公司等人侵害系爭專利。
⑸爰答辯聲明：①上訴駁回。②第一審及第二審訴訟費用由上
訴人即反訴被上訴人負擔。③如受不利判決，被上訴人即反訴上訴人願以現金或兆豐國際商業銀行無記名可轉讓定期存單供擔保，免為假執行。
二、反訴部分：㈠韓商周星公司主張：
⒈韓商周星公司、英屬蓋曼群島商周星公司於原審主張：
⑴韓商周星公司等人提起本件反訴之基礎事實有二，其一為美
商應用公司明知系爭專利無效卻仍聲請假處分及提起本案訴訟，另一為美商應用公司明知「周星ABC 」為內容不實資料，仍據以提起本件訴訟。
⑵美商應用公司係全球最大半導體製程設備與服務供應商，全
球員工超過1 萬3000名，其於92年間聲請假處分時其所生產之半導體製程產品（包括系爭設備）年度訂單高達123 億美元，營業淨利為21億美元，折合約新台幣約693 億元。系爭設備主要經美商應用公司出資研發後，再利用其子公司即美商業凱公司進行製造及銷售。美商業凱公司於92年就系爭設備銷售量及銷售額全球市場占有率分別為78% 及81% ，依據我國經濟部之調查，美商應用公司等人於系爭設備之市場占有率高達八成，則依行政院公平交易委員會自行之定義，其於系爭市場屬於獨占事業。
⑶韓商周星公司於92年10月間將系爭產品第1 部交付奇美公司
，而我國其餘廠商亦陸續接洽韓商周星公司，以期以較低廉價格獲取系爭產品及更高品質服務，然此舉直接威脅美商應用公司長期之高市占率及獨占地位，美商應用公司雖明知爭專利具無效原因或至少需經更正後始具有效性，對我國相關廠商提出侵權警告後，並聲請假處分及提起本案訴訟，以鞏固其可能下滑之市場佔有率，及向我國液晶顯示器製造商傳達並造成使用系爭產品者同冒專利侵權風險之效果。然因系爭產品動輒新台幣數億元，我國廠商經美商應用公司之警告後，皆要求韓商周星公司提出解釋，並紛紛結束與韓商周星公司之商務接洽，使韓商周星公司在我國已失去相關廠商之信任，而婉拒採購系爭產品損失至鉅，且韓商周星公司迄今未再於我國地區銷售出任何系爭產品。
⑷有關美商應用公司違反公平交易法第30條及第34條規定部分
：英屬蓋曼群島商周星公司為依我國公司法設立之法人，並無公平交易法第47條規定有關未經認許之外國法人提起本件反訴之程序問題。至韓商周星公司部分，依據韓國律師Ms.JiHyun Kim 所出具之法律意見可知，韓國法令或實務並無排斥或禁止我國法人於韓國本於韓國之不正競爭法提起訴訟之規定或案例，應可推知我國法人於韓國亦享有相對等之程序權利，遑論韓國及我國俱為WTO 之會員會，同受TRIPS 之拘束，斷無排除提起本件反訴之理，是依公平交易法上開規定，亦得提起本件請求。
⑸美商應用公司提供作為聲請假處分及起訴之事實資料「周星
ABC 」，其出處及來源不明，內容多有矛盾之處，依最高法院83年度台上字第2261號民事判決意旨等，美商應用公司該當侵權行為。
⑹損害賠償部分：美商應用公司於起訴後三度更正其申請專利
範圍，並四度變更其據以起訴主張專利侵權之法律基礎，足證其提起本訴時之意圖及動機本不在於合法訴權之行使，而在於不當濫用其專利以打擊韓商周星公司之商業市場。且自美商應用公司聲請假處分及提起本訴後，韓商周星公司就系爭產品再未銷售任何一台，足見美商應用公司已成功藉由其濫用專利之行為，封鎖韓商周星公司原本已就系爭產品開發出之市場，爰依民事訴訟法第222 條第2 項規定，請求法院審酌韓商周星公司之主張，判決如訴之聲明所述。
⑺爰聲明：①上訴人即反訴被上訴人應連帶負擔費用，將反訴
判決書之摘要內容全部以「十全（即長25公分、寬30.5公分之版面）」之規格刊載於中國時報、自由時報及聯合報第一版一日。②上訴人即反訴被上訴人應連帶給付被上訴人即反訴上訴人1,000 萬元整及自反訴起訴狀送達之日起至清償日止，按週年利率5%計算之利息。③前兩項請求，被上訴人即反訴上訴人願供擔保，請准宣告假執行。④訴訟費用由上訴人即反訴被上訴人連帶負擔。
⒉原審為韓商周星公司敗訴之判決，韓商周星公司據此提起上訴，並主張：
⑴程序抗辯：
①本件反訴未罹於時效：
美商應用公司主張其於92年12月24日聲請假處分，並於93年
6 月30日提起本件訴訟，故韓商周星公司於95年10月30日始提起本件反訴已罹於二年請求權時效。惟韓商周星公司因侵權行為與公平交易法所生之損害賠償請求權，係自其知有損害行為及賠償義務人時起算，而韓商周星公司等人並非在美商應用公司聲請假處分或提起本案訴訟之日即知悉美商應用公司有前揭濫用專利權之行為，故美商應用公司何時聲請假處分或提起本案訴訟自與本件請求權時效無關。又況，美商應用公司雖於92年12月24日提出假處分，並於93年6 月30日提起本案訴訟，然原審審理程序事項後，於95年9 月11日始就本件訴訟進行實質審理。
美商應用公司以韓商周星公司於96年2 月5 日始追加公平交
易法第31條規定為由，主張韓商周星公司就公平交易法請求部分罹於時效。惟韓商周星公司係依民事訴訟法第255 條第
1 項但書第7 款及第2 款規定追加訴之聲明，是韓商周星公司於95年10月30日依公平交易法第34條規定提起本件反訴，並未罹於時效，則韓商周星公司嗣後追加公平交易法第31條規定，亦無罹於時效之可能。
美商應用公司主張韓商周星公司於本件假處分提出（即92年
12月24日）或本件訴訟提出（即93 年6月30日）時應知悉其等有濫用專利權之情事。惟韓商周星公司提起本件反訴之基礎之一，係在於美商應用公司明知系爭專利有無效之原因，並不斷藉由申請更正而不當擴張或刪減系爭專利之範圍，依專利法第68條第3 項規定，說明書、申請專利範圍及圖式經更正公告者，溯及申請日生效，則在美商應用公司持續提出更正以大幅限縮系爭專利範圍之情況下，系爭專利申請專利範圍與美商應用公司提出假處分時之申請專利範圍已有顯著不同，而原審據以核准假處分之基礎事實早已變更且不存在。
②本件反訴之基礎事實與公平會檢舉案不同：
原審以「第一次舉發案亦經行政程序判決舉發不成立確定」
為由，認為美商應用公司非明知系爭專利有得撤銷之事由，未構成權利濫用。惟美商應用公司於明知系爭專利撤銷事由之情況下，先藉系爭專利於92年12月24日聲請假處分，再於舉發程序藉機減縮申請專利範圍，顯然其係明知專利無效而仍聲請假處分及提起本案訴訟，詎原審不察，並對韓商周星公司提出之相關證據置而不論，而逕以「第一次舉發案亦經行政程序判決舉發不成立確定」為由，認為美商應用公司非明知系爭專利有得撤銷之事由，顯然係倒果為因，而有違論理法則。
美商應用公司雖主張最高行政法院業已確認其並未違反公平
交易法之規定、其並非公平交易法之獨占事業等，惟鈞院就本件美商應用公司有無違反公平交易法，應自行調查斟酌，決定取捨，不受最高行政法院判決之拘束。
韓商周星公司藉以評估判斷美商應用公司是否濫用專利權之
基礎事實，因美商應用公司提出更正申請而不斷改變，故韓商周星公司之反訴請求並未罹於時效，且本件反訴所主張美商應用公司濫用專利權之基礎事實，亦與其先前於檢舉程序所提呈者不同。
⑵實體主張：
①美商應用公司係屬公平交易法所定義之獨占企業：原審雖以
公平交易委員會認定美商應用公司非獨占事業為由，而遽作成原判決。惟據經濟部、工研院調查均顯示，美商應用公司於92年間在PECVD 之市場居冠軍寶座，佔有率為75% ，於93年更攀升至80% ，已符合公平交易法關於獨占事業之認定標準，故美商應用公司確屬獨占事業，原審之認定顯與事實不符。
②美商應用公司於起訴後七次更正系爭專利，其明知專利無效
：美商應用公司於起訴後就系爭專利進行七次更正，顯然其明知系爭專利範圍過大不當，惟仍濫發警告函、聲請假處分及提起本件訴訟，而違反公平交易法第10條第1 款、第19條、第24條規定。
③美商應用公司起訴後一再刪減侵權項次，其明知系爭產品不
侵權：美商應用公司於聲請假處分及提起本件訴訟時所主張之侵權項次包含系爭專利申請專利範圍第1 、16、17、28、
36、40項，嗣後卻依次刪減至僅餘系爭專利申請專利範圍第
1 項。縱依美商應用公司於起訴前之鑑定報告，由於系爭專利提供位於氣體散流盤之上非常細長之懸置機構，作為可彎曲部分，然其待鑑定物位於氣體散流盤「之上」的懸置機構非常短，僅用於使氣體散流盤與背壁之間有間隔，完全看不到位於氣體散流盤之上細長之懸置機構，足見美商應用公司應早已熟知系爭專利限縮後之範圍無法主張侵權。又美商應用公司無法僅依鑑定報告所附圖式即作成分析比對，亦無法據此判斷待鑑定物之技術特徵是否落入系爭專利更正前申請專利範圍第1 項之鑑定，美商應用公司顯然明知系爭產品不構成侵權。
④美商應用公司以形式上狀似完備惟實質上有明顯瑕疵之鑑定
報告提出於法院，並使法院誤採為准許定暫時狀態處分之依據事實，其行為業構成侵權行為以及濫用權利：
原判決雖以「反訴被告縱未說明該資料之來源，亦係該資料
在假處分或本件訴訟程序中，法院是否採信該證據之問題，亦難僅因反訴被告拒絕說明該資料來源即認反訴被告明知周星ABC 為內容不實之資料」為由，進而認定美商應用公司所提鑑定報告並無違誤。惟參酌美商應用公司所據以提出定暫時狀態處分聲請及本案訴訟之產品型錄暨相關資料之前後內容明顯不一致，以及美商應用公司起訴狀所列之韓商周星公司單一機器設備共有三種不同之型式，美商應用公司不可能僅依鑑定報告所附圖式即作成分析比對，美商應用公司所據以提出定暫時狀態處分聲請以及本案訴訟之證據資料顯有重大瑕疵。
美商應用公司以形式上狀似完備惟實質上具有重大瑕疵之資
料作為其提出定暫時狀態處分聲請之依據，並進而使法院誤為准許定暫時狀態處分，其行為即難謂無誤導之嫌，且應具有侵害韓商周星公司權利之故意過失，而有民法第184 條規定之適用。
美商應用公司以形式上狀似完備惟實質上有明顯瑕疵之鑑定
報告據以提出定暫時狀態處分以及本案訴訟、進而使法院誤採為准許定暫時狀態處分之依據、藉以逼退韓商周星公司於我國市場繼續競爭，其主觀上即可能具有故意以此為手段防堵韓商周星公司產品進入市場，而有侵害韓商周星公司權利或妨礙公平競爭之情形，適正屬濫用專利權之行為，而應按民法侵權行為以及公平交易法之規定負損害賠償責任。
⑤美商應用公司以不正當方法意圖獲取他事業之機密，有違公
平交易法第19條第5 款規定：美商應用公司既自承業凱公司之員工向韓商周星公司之下游客戶取得韓商周星公司之機密文件，並以該文件作成鑑定報告及提出假處分暨本案訴訟，則美商應用公司顯已違反公平法第19條第5 款規定。
⑥美商應用公司以形式上狀似完備惟實質上有明顯瑕疵之鑑定
報告據以提出假處分以及本案訴訟，以及其所釋出關於韓商周星公司侵權之消息，已影響下游廠商之市場價格及決策：美商應用公司以致電奇美公司與友達公司關於PECVD 機台設備之評估與採購人員，且不附任何證據即散布韓商周星公司侵權之消息，其後並以形式上狀似完備惟實質上有明顯瑕疵之鑑定報告據以提出假處分及本案訴訟，已影響下游廠商之市場價格，並迫使奇美公司等下游廠商不得不出面澄清，故美商應用公司之行為確實已影響各該公司之決策，並成功防堵韓商周星公司產品進行市場，而致韓商周星公司受有損害。
⑦損害額計算：本件因礙難證明韓商周星公司因美商應用公司
濫用專利權行為所受之全部損害金額，故韓商周星公司於提出反訴之際，僅依民事訴訟法第244 條第4 項規定表明其全部請求之最低金額，即1,000 萬元，並依民事訴訟法第222條第2 項規定請求原審法院酌定損害賠償數額。惟參酌PECV
D 機台設備於92年間每台市值為美金900 萬美元、而美商應用公司於假處分程序中自承其每銷售一台PECVD 機台設備之毛利率可達「美金400 萬至500 萬元」、或至少「美金135萬元折合新台幣4,455 萬元」，如美商應用公司未以各種不當行為影響奇美公司或友達公司等下游廠商就韓商周星公司PECVD 機台之評估與採購，並防堵韓商周星公司產品進行市場，韓商周星公司在已獲奇美公司認證且成功銷售PECVD 機台予奇美公司之情況下，可成功打入台灣市場，而韓商周星公司僅需銷售一台PECVD ，其毛利率即超過本件反訴之請求金額。
⑶爰上訴聲明：①原判決關於反訴部分及其訴訟費用部分均廢
棄。②上開廢棄部分，上訴人即反訴被上訴人應連帶負擔費用，將判決書之摘要內容全部以「十全（即長25公分、寬30.5公分之版面）」之規格刊載於中國時報、自由時報及聯合報第一版一日，並應連帶給付被上訴人即反訴上訴人1,000萬元及自原審反訴起訴狀送達之日起至清償日止，週年利率5%計算之利息。③前項請求，被上訴人即反訴上訴人願以現金或同額之兆豐國際商業銀行可轉讓定期存單供擔保，請准宣告假執行。④第一、二審訴訟費用由上訴人即反訴被上訴人連帶負擔。
㈡美商應用公司、美商業凱公司則以：
⒈最高行政法院業已確認美商應用公司、業凱公司並未違反公
平交易法之規定，韓商周星公司等人之請求並無依據：韓商周星公司等主張美商應用公司、業凱公司違反公平交易法情事，並於93年1 月向我國公平交易委員會提出檢舉，然據公平交易委員會處分書、行政院訴願委員會訴願決定書、臺北高等行政法院判決及最高行政法院判決均認定美商應用公司等並無違反公平交易法之規定。依前揭最高行政法院判決之論理，且認為美商應用公司等人對於韓商周星公司等人提起本件訴訟，當然亦屬於專利權之正當行使。原審亦認定韓商周星公司等人於本件反訴所為之主張無一成立，故韓商周星公司提起反訴，於法無據。
⒉美商業凱公司或美商應公司並非獨占事業，不適用公平交易
法第10條有關獨占事業之規定：美商業凱公司與美商應用公司為各自獨立之法律實體，兩者之行為應予區別。又依公平交易法施行細則第3 條規定，事業是否為獨占事業應就市場占有率、商品替代可能性、影響市場價格能力及他事業加入市場難易等因素綜合判斷。惟美商應用公司並非系爭產品之製造或銷售事業，不可能為系爭產品之獨占事業，且美商業凱公司並非公平交易法下之獨占事業，故均不適用公平交易法第10條有關獨占事業之規定。
⒊美商應用公司對韓商周星公司提起假處分及本件訴訟係依有
效之專利權正當行使權利，並未濫用專利權：系爭專利係依我國專利法正當程序取得，並經經濟部智慧財產局審定公告之合法專利，且系爭專利之有效性業經經濟部智慧財產局、臺北高等行政法院判決及最高行政法院判決確認，韓商周星公司主張美商應用公司等人明知系爭專利無效，委無可採。又是否核准系爭專利之取得及更正應依照我國專利法判斷，毋庸考量外國專利法規。且美商應用公司依法向法院聲請假處分及本案訴訟程序行使專利權，係保護其專利權之正當行為，不構成濫訴或濫用權利。
⒋美商應用公司據以提出假處分及本案訴訟之證據資料並無不
實：韓商周星公司主張美商應用公司等人明知所謂「周星AB
C 」為內容不實資料，而仍據以提起假處分及本件訴訟。惟美商應用公司等提出之「周星ABC 」資料內容並無不實之處，且該「周星ABC 」資料含有韓商周星公司自己產品之內容，包括其公司商標、照片及與其公司網站所載相類似之行銷資料。又韓商周星公司並未舉證證明美商應用公司等人明知所謂「周星ABC 」為內容不實之資料。至韓商周星公司主張美商應用公司等人應說明如何取得「周星ABC 」資料，實與「周星ABC 」資料是否真實無涉。美商應用公司等人未主動說明該資料之來源，亦僅係該資料在假處分或本件訴訟程序中，法院是否採信該證據之問題，不得僅因美商應用公司等拒絕說明如何取得該資料即認美商應用公司等人明知「周星
ABC 」為內容不實之資料，是韓商周星公司之主張，並不可採。
⒌韓商周星公司並未提出任何計算式或證據證明其受有損害以
及所受損害之金額為何，其請求損害賠償並無可採：韓商周星公司雖主張美商應用公司應賠償韓商周星公司1,000 萬元，然其並未提出任何證據證明其因美商應用公司等人對其提起假處分或本案訴訟而受有任何損害以及損害金額若干，其未盡舉證責任。至韓商周星公司主張其於美商應用公司等人提起假處分及本案訴訟後即未再接獲任何訂單，然並未提出任何證據以實其說，亦未證明與美商應用公司提起假處分或本案訴訟有何因果關係，復未證明其欲證明損害賠償數額顯有重大困難，自不適用民事訴訟法第222 條第2 項規定。
⒍韓商周星公司基於公平交易法及侵權行為之請求權已罹於二年時效：
⑴關於公平交易法請求部分：美商應用公司係於92年12月24日
聲請假處分，並於93年6 月30日提起本件訴訟。惟韓商周星公司係於95年10月30日始提起本件反訴主張美商應用公司應依公平交易法第34條規定，將判決書內容刊登新聞紙，並於96年2 月5 日始追加請求美商應用公司等應依公平交易法第31條規定，賠償韓商周星公司等1,000 萬元，故韓商周星公司本於公平交易法第34條及第31條規定之請求權，除無法成立外，亦已罹於二年請求權時效。
⑵關於侵權行為請求部分：韓商周星公司所主張美商應用公司
構成侵權行為之相關事實，韓商周星公司至遲於美商應用公司提起本案訴訟時，即於93年6 月30日即已知悉，詎其遲至98年5 月26日民事準備㈠狀始主張侵權行為請求權，故其侵權行為損害賠償請求權，除無法成立外，亦已罹於二年請求權時效。
⒎鈞院應不予審酌韓商周星公司逾時提出之新攻擊防禦方法：
韓商周星公司於其101 年7 月2 日民事上訴理由㈢狀追加主張美商應用公司等明知不侵權而聲請假處分及提起本件訴訟、且不當取得韓商周星公司之「周星ABC 文件」機密資訊、又於起訴時主張系爭專利申請專利範圍第36項及第40項遭侵害，然未提出系爭專利申請專利範圍第36項及第40項遭侵害之證據或鑑定分析，故違反公平交易法第19條第3 款、第19條第5 款及公平交易法第22條等規定。另韓商周星公司自95年10月30日提起反訴迄今未提出前揭攻擊防禦方法，於提起反訴逾五年半後，始於二審程序提出前揭新攻擊防禦方法，顯然違反民事訴訟法第447 條第1 項前段規定，鈞院應不予審酌。
⒏美商應用公司提起本件訴訟並未主張系爭專利申請專利範圍
第36項及第40項遭侵害，韓商周星公司等之主張與事實不符：韓商周星公司等於101 年7 月2 日庭訊時主張因美商應用公司於提起本件訴訟時於訴之聲明第1 項請求，其中之請求包含「方法」，而系爭專利僅有申請專利範圍第36項及第40項為方法項，故美商應用公司於起訴時亦有主張系爭專利申請專利範圍第36項及第40項遭侵害，然卻從未提出任何系爭專利申請專利範圍第36項及第40項遭侵害之證據或鑑定分析，足見美商應用公司明知系爭產品並未侵害系爭專利申請專利範圍第36項及第40項云云。惟美商應用公司於起訴時訴之聲明第1 項雖提及「方法」，然於99年8 月25日民事準備書27狀已刪除，且美商應用公司從未主張系爭專利申請專利範圍第36項及第40項遭侵害，提出之侵害鑑定報告亦未認定系爭產品侵害系爭專利請求項第36項及第40項。況美商應用公司於原審已多次確認所主張侵權之項次僅有系爭專利申請專利範圍第1 、16、28項，並撤回系爭專利申請專利範圍第16、28項，是韓商周星公司之主張，與事實不符。
⒐爰答辯聲明：⑴上訴駁回。⑵訴訟費用由被上訴人即反訴上
訴人負擔。⑶如受不利判決，上訴人即反訴被上訴人願供擔保請准宣告免為假執行。
三、兩造不爭執之事實：㈠美商應用公司於92年12月24日向臺灣桃園地方法院聲請對韓
商周星公司及英屬蓋曼群島商周星公司為定暫時狀態處分（見原審卷㈣第347 至359 頁），嗣經臺灣桃園地方法院於92年12月25日以92年度裁全字第6388號假處分裁定准許，嗣經韓商周星公司及英屬蓋曼群島商周星公司提起抗告，惟臺灣高等法院及最高法院駁回抗告確定，其後韓商周星公司及英屬蓋曼群島商周星公司聲請供擔保撤銷假處分，亦經臺灣桃園地方法院准許，經美商應用公司提起抗告，亦經駁回抗告確定。
㈡韓商周星公司及英屬蓋曼群島商周星公司於95年10月30日起
訴主張美商應用公司及美商業凱公司違反公平交易法第10條、第24條規定，而依同法第34條請求刊登判決書，並表明於反訴審理過程中將請求損害賠償（見原審卷㈣第28 8至300頁），嗣於96年2 月5 日具狀追加依公平交易法第31條規定請求連帶賠償1,000 萬元及利息（見原審卷㈤第251 至254頁），復於98年5 月26日具狀主張美商應用公司及美商業凱公司之行為係侵權行為（見原審卷㈧第7 頁）。
㈢英屬蓋曼群島商周星公司曾於93年1 月16日向行政院公平交
易委員會檢舉美商應用公司及美商業凱公司違反公平交易法第10條、第19條第1 、3 、5 款、第22條及第24條規定（檢舉函見反被上證9 、10），嗣經公平交易委員會於94年4 月15日函覆尚難認上開二公司有違反公平交易法規定，嗣英屬蓋曼群島商周星公司不服提起訴願、行政訴訟均經駁回確定（見原審卷㈤第328 至360 頁、原審卷㈦第419 至424 頁）。
㈣美商應用公司於93年6 月30日向韓商周星公司及英屬蓋曼群
島商周星公司提起本件本訴後，曾於93年8 月13日、95年1月6 日、95年12月25日、100 年11月7 日、100 年11月23日、101 年4 月5 日向經濟部智慧財產局申請更正系爭專利，迄今智慧局僅就95年12月25日更正本准許，並予以公告。
㈤英屬蓋曼群島商周星公司曾於93年3 月22日以證據3 （即美
商應用材料公司所有之美國專利US0000000 號）向經濟部智慧財產局提起舉發，主張系爭專利全部獨立項違反當時專利法第20條第1 項第2 款及第2 項規定，美商應用公司於93年
8 月13日提出更正申請並就更正後之申請專利範圍進行答辯，嗣後復於95年1 月6 日、95年12月25日再提出更正後，經該局於96年7 月10日認為舉發不成立，並經訴願及行政訴訟駁回英屬蓋曼群島商周星公司之行政救濟確定（詳見反被上證15、16、17、18）。
㈥美商應用公司係於00000000N02 號舉發案審查中，先後於10
0 年11月7 日、100 年11月23日、10 1年4 月5 日向智慧局申請更正系爭專利。
㈦美商應用公司及美商業凱公司於聲請假處分及提起本件本訴
時迄今均未提出系爭產品落入93年8 月13日更正前系爭專利申請專利範圍第36、40項之侵害比對分析報告。
㈧交通大學科法所之鑑定報告除附件二圖一外，並無其他資料
揭露侵權產品之技術內容，該圖式並無任何文字標示懸置機構之尺寸及可彎曲與否。
四、兩造之爭點：㈠本訴部分：
⒈韓商周星公司等所製造販賣之「型號EUREKA 6000」第五代
之「供液晶顯示器用之電漿輔助化學氣相沉積設備（PECAV
for LCD）」產品是否落入系爭專利之申請專利範圍第1項？⒉證據2 、3 分別是否足以證明系爭專利申請專利範圍第1項
不具新穎性？⒊證據2及3之組合是否足以證明系爭專利申請專利範圍第1項
不具進步性？⒋系爭專利申請專利範圍第1 項是否因欠缺記載懸置機構為「
4片」，而違反第26條第3 項（應為專利法第71條第3款）而不為發明說明書所支持？㈡反訴部分：
⒈韓商周星公司及英屬蓋曼群島商周星公司依公平交易法第31
條、第34條、民法第184 條第1 項前段所為損害賠償及登報之請求，是否已罹於請求權時效？⒉韓商周星公司及英屬蓋曼群島商周星公司主張美商應用公司
及美商業凱公司有下列違反公平交易法之行為，而依公平交易法第31條、第34條、民法第184條第1項前段為損害賠償及登報之請求，是否有據？⒊系爭專利於93年8 月13日更正前申請專利範圍第1 項是否違
反核准時專利法第20條第1 項第1 款及第2 項？上開事實是否為美商應用公司及美商業凱公司申請假處分及提起本件本訴時所明知或可得而知？美商應用公司及美商業凱公司聲請假處分及提起本件本訴，是否違反公平交易法第10條第1 款、第19條第3 款、第24條及民法第184 條第1 項之規定？⒋系爭專利於93年8 月13日更正前申請專利範圍第16、17、28
項是否違反核准時專利法第71條之規定（實施不可能）？上開事實是否為美商應用公司及美商業凱公司申請假處分及提起本件本訴時所明知或可得而知？美商應用公司及美商業凱公司聲請假處分及提起本件本訴，是否違反公平交易法第10條第1 款、第19條第3 款、第24條及民法第184 條第1 項之規定？⒌美商應用公司及美商業凱公司是否於聲請假處分及提起本件
本訴時主張系爭產品侵害上開更正前系爭專利申請專利範圍第36、40項？如有，美商應用公司及美商業凱公司聲請假處分及提起本件本訴，未針對上開請求項提出侵害之分析及證據，是否違反公平交易法第10條第1 款、第24條及民法第18
4 條第1 項之規定？⒍美商應用公司及美商業凱公司於聲請假處分及提起本件本訴
時所提出之交通大學科法所所出具的鑑定報告認定系爭產品侵害更正前系爭專利申請專利範圍第1 、16、17、28項，是否明顯有瑕疵？如是，美商應用公司及美商業凱公司是否明知或可得而知上開事實？美商應用公司及美商業凱公司聲請假處分及提起本件本訴，是否違反公平交易法第10條第1 款、第24條及民法第184 條第1 項之規定？⒎美商應用公司及美商業凱公司是否對外陳述及散布侵害韓商
周星公司及英屬蓋曼群島商周星公司名譽之不實情事，而違反公平交易法第22條、第24條規定？⒏美商應用材料公司及業凱公司倘有上開違反公平交易法之行
為，是否侵害韓商周星公司及英屬蓋曼群島商周星公司之權利致其受有損害？如有，損害額為若干？⒐美商應用公司依據交大科法所鑑定報告附件二圖一聲請假處
分及提起本件訴訟，是否違反公平交易法第19條第5 款及民法第184 條第1 項規定？
五、本院判斷如下：㈠背景說明部分
本件反訴上訴人即韓商周星公司等於原審提起本件反訴，主要之反訴基礎事實有二，其一為美商應用公司明知系爭專利無效卻仍聲請假處分及提起本案訴訟，另一為美商應用公司明知「周星ABC 」為內容不實資料，仍據以提起本件訴訟。
經查，本件美商應用公司係於92年12月24日向臺灣桃園地方法院聲請定暫時狀態假處分，經該院於翌日以92年度裁全字第6388號裁定准許，嗣韓商周星公司提起抗告，經臺灣高等法院於93年7 月30日以93年度抗字第572 號廢棄原裁定，駁回美商應用公司之聲請，嗣經美商應用公司提起再抗告，經最高法院以93年度台抗字第902 號裁定廢棄發回後，經台灣高等法院於93年12月28日以93年度抗更㈠字第32號駁回，韓商周星公司再向最高法院提起抗告，卒經最高法院於94年3月24日以94年度台抗字第249 號裁定駁回確定。其後美商應用公司依上開裁定聲請強制執行，由臺灣桃園地方法院以93年度執全字第61號裁定為強制執行，嗣韓商周星公司乃向桃園地方法院聲請撤銷該定暫時狀態假處分，經該院於94年4月29日以93年度全聲字第477 號裁定准許韓商周星公司為美商應用公司提供擔保後撤銷該院92年度裁全字第6388號定暫時狀態假處分裁定，嗣韓商周星公司乃於94年5 月30日依上開裁定為美商應用公司提供擔保於臺灣桃園地方法院提存所，進而撤銷上開定暫時狀態假處分，惟美商應用公司對於上開准許韓商周星公司提供反擔保撤銷定暫時狀態假處分之裁定提起抗告，並以上開裁定業經抗告，尚未確定為由，向桃園地方法院聲明異議，經桃園地方法院駁回異議後，美商應用公司提起抗告，經台灣高等法院93年度抗字第1511號廢棄桃園地方法院駁回異議之裁定，英屬蓋曼群島周星公司不服，提起再抗告，經最高法院93年度台抗字第801 號裁定廢棄，駁回美商應用公司之抗告而告確定，上開事實，業經本院調閱桃園地方法院相關執行卷查證屬實（參臺灣桃園地方法院93年度執全字第61號卷第46頁、第56頁、第178 頁、第19
7 頁、第203 頁、94年度抗字第2788號卷第6 頁至第38頁）。是綜觀上開定暫時狀態假處分程序，可知本件美商應用公司原聲請之定暫時狀態假處分因韓商周星公司提供反擔保而並未執行，合先敘明。
㈡本訴部分⒈按民事訴訟當事人主張或抗辯智慧財產權有應撤銷、廢止之
原因者，法院應就其主張或抗辯有無理由自為判斷，不適用民事訴訟法、行政訴訟法、商標法、專利法、植物品種及種苗法或其他法律有關停止訴訟程序之規定；前項情形，法院認有撤銷、廢止之原因時，智慧財產權人於該民事訴訟中不得對於他造主張權利，智慧財產案件審理法第16條定有明文；次按關於智慧財產權侵害之民事訴訟，其損害額之審理，應於辯論是否成立侵害後行之，但法院認為就損害之內容，有先行或同時辯論之必要者，不在此限，智慧財產案件審理細則第35條亦設有規定。依上開規定意旨，於專利侵權損害賠償訴訟程序中，倘當事人就專利之有效性有所主張或抗辯時，則法院固應就該專利是否具有應撤銷、廢止之原因自為調查，若該專利具有應撤銷、廢止之原因，縱然認為遭指控物之技術確有落入該專利範圍之情形，該專利權人亦不得對他造主張權利，亦即不得請求損害賠償。反之，倘被控侵權物品並未落入該專利申請專利範圍，而未侵害專利權，縱然專利權之有效性並無疑義，法院仍得據此駁回權利人之請求，無須再就損害賠償金額為計算。惟究竟應先就專利權有無應撤銷、廢止之原因，抑或就有無侵權事實為判斷，法未明文，自得由法院依其調查所得證據，本於法律確信，以為論斷。申言之，倘法院認侵權事實不成立或無從證明，自得據此先為請求無理由之裁判，反之，若法院認為專利權有應撤銷或廢止之事由，亦得據此先為權利人請求無據之裁判，其間並無先後之別，併予說明。
⒉經查，本件上訴人即反訴被上訴人美商應用公司為系爭我國
發明第152996號「電漿室中以可彎曲方式懸固之氣體散流組件」專利之專利權人，專利期間自西元2002年3 月1 日起至2021年1 月15日止。系爭專利係揭露一種用於電漿室中之進氣歧管(gas inlet manifold)，此歧管藉由可彎曲側壁（flexible side wall) 以懸吊貫穿之氣體散流板。由於懸置機構為可彎曲之狀態，以最小化氣體散流盤在熱擴張(thermalexpansion)及熱收縮(contraction) 所產生之應力，同時，此懸吊機構亦提供了在氣體散流盤(gas distribution plate)與電漿室中其他部件之間之熱阻絕(Thermal Isola-tion)（ 參附件一圖式1 所示）。而系爭專利曾分別於93年8 月13
日、95年1 月6 日、95年12月25日、100 年11月7 日、100年11月23日、101 年4 月5 日申請更正，迄今智慧局僅就95年12月25日更正本准許，並予以公告（有關公告後再申請更正之各次內容比較表請參附件二所示）。是系爭專利依95年12月25日修正公告之版本，其申請專利範圍共計40項，其中第1 、16、28、36、40項為獨立項，其餘則為附屬項。而系爭專利申請專利範圍第1 項所揭露之技術特徵，為：「1.一種用於電漿室的進氣歧管，該歧管至少包含：一背壁，且該背壁有一進氣穿孔(orifice) ；一氣體散流盤(gas distribution plate)，且該氣體散流盤有數個出氣穿孔，而該氣體散流盤與該背壁有分隔且位於該背壁下方；及一懸置機構(suspension)有一第一端、一第二端、及該第一端與該第二端之間且位於該氣體散流盤之上的至少一可彎曲部分；該第一端連接於該背壁; 該第二端連接於該氣體散流盤; 以及該懸置機構圍繞著該進氣歧管中的區域, 該區域延伸至該背壁與該氣體散流盤之間，且其中之該進氣穿孔與該出氣穿孔為該區域的流體傳遞(fluid communication) 。」茲比較95年12月25日修正前與修正後系爭專利申請專利範圍第1 項之主要差異，乃修正後加諸該氣體散流盤在「該背壁下方」，以及一至少可彎曲部分係位於「該氣體散流盤之上」等限制條件。由於本件美商應用公司等僅主張韓商周星公司等侵害系爭專利申請專利範圍第1 項，是有關美商應用公司系爭專利是否有效，以及韓商周星公司等系爭「EUREKA 6000 」第五代「供液晶顯示器用之電漿輔助化學氣相沉積設備（PECVD fo
r LCD ）」產品是否落入系爭專利之申請專利範圍，均以系爭專利申請專利範圍第1 項作為比較、判斷範圍，合先敘明。
⒊承前所述，本件美商應用公司主要係主張韓商周星公司系爭
「EUREKA 6000 」第五代「供液晶顯示器用之電漿輔助化學氣相沉積設備（PECVD for LCD ）」產品侵害系爭專利申請專利範圍第1 項，而韓商周星公司援引證據2 、3 主張系爭專利申請專利範圍第1 項無效，惟不論係判斷系爭專利申請專利範圍第1 項是否具有無效事由，以及韓商周星公司系爭「EUREKA 6000 」第五代「供液晶顯示器用之電漿輔助化學氣相沉積設備（PECVD for LCD ）」產品是否侵害系爭專利申請專利範圍第1 項，就系爭專利申請專利範圍第1 項中所使用若干名詞，有先予釐清之必要，爰就本件兩造所爭執最烈之「連接」以及「可彎曲」、「完整不中斷」等名詞解釋如下：
⑴按申請專利範圍中之記載是否適切，對於專利權人權利之保
護及相對於公眾利用上之限制，均具有重大意義。因此，申請人具體請求保護的發明必須記載於申請專利範圍，而申請專利範圍必須為發明說明及圖式所支持，此有經濟部智慧財產局所制定之2004年「專利審查基準」第二篇第一章第3.1節可供參照。至發明專利權範圍，以說明書所載之申請專利範圍為準，於解釋申請專利範圍時，並得審酌發明說明及圖式，此為專利法第56條第3 項所明定。準此，有關申請專利範圍之認定應以申請專利範圍中所載之文字為基礎，並得審酌發明說明、圖式及申請時的通常知識。於認定申請專利範圍時，原則上應以每一請求項中所記載之文字意義及該文字在相關技術中通常所總括的範圍，予以認定。對於申請專利範圍中之用語，若發明說明中另有明確揭露之定義或說明時，應考量該定義或說明；對於申請專利範圍中之記載有疑義而需要解釋時，則應一併考量發明說明、圖式及該發明所屬技術領域中具有通常知識者之通常知識（同上開「專利審查基準」第二篇第一章第3.5 節）；至於申請專利範圍中每一請求項中之文字理論上均被視為已明確界定發明專利權範圍，倘當事人不願透過舉發程序解決者，則依內部證據及外部證據解釋申請專利範圍（「專利侵害鑑定要點」（草案）第三章第四節「解釋申請專利範圍之原則」第5.點參照）；為認定專利權範圍之實質內容，發明（或新型）說明及圖式均得為解釋申請專利範圍之輔助依據，圖式之作用在於補充說明書文字不足的部分，使該發明（或新型）所屬技術領域中具有通常知識者閱讀說明書時，得依圖式直接理解該發明（或新型）之各個技術特徵及其所構成的技術手段（上開草案第35頁參照）；倘申請專利範圍中所載之技術特徵不明確時，得參酌發明（或新型）說明與圖式解釋申請專利範圍；發明說明有揭露但並未記載於申請專利範圍之技術內容，不得被認定為專利權範圍，此外，說明書所載之先前技術，亦應排除於申請專利範圍之外。
⑵本件美商應用公司對於原審判決就有關系爭專利申請專利範
圍第1 項中所載之「連接」一詞之解釋及認定不服，即對系爭專利中有關「懸置機構(suspension)」與「氣體散流盤(g
as distribution plate)」間之連接手段，究為「一體成型構件」或為兩「獨立構件」之技術特徵解釋有所爭執。經查，系爭專利申請專利範圍第1 項中有關「連接」一詞之相關構件及其連結關係，係記載為「一懸置機構(suspension)有一第一端、一第二端、及該第一端與該第二端之間且位於該氣體散流盤之上的至少一可彎曲部分；該第一端連接於該背壁；該第二端連接於該氣體散流盤」，為正確解釋該段落中「連接」一詞，依首揭說明，可參酌系爭專利之內部文件或外部文件等資料作進一步之解讀。茲依系爭專利說明書（內部文件）第9 頁第7 行所述：「在電漿室中除了進氣歧管之外的所有附件都是傳統習知的。傳統電漿化學蒸氣沉積法與蝕刻室的設計與操作會在下述的美國專利案中被清楚的描述，此間的內容均參考：White et al.在98 年12 月1 日之美國專利第0000000 號及Chang et al.在89年8 月8 日之美國專利第0000000 號。」，依上開文字所述，為證確獲得解答，自有必要進一步參酌該段文字中所指之第0000000 號美國專利之技術內容。在第0000000 號美國專利第3 欄第58行起（併參Figure 1）明載：「The deposition process gases（indicated by arrow 123) flow into chamber 133through an inlet manifold 126(進氣歧管), a conven-tional perforated blocker plate 124 and holes 121 in
a process gas distribution faceplate 122 (indicated
by small arrows in substrate processing region 141
of FIG. 1)( 在氣體散流盤122 上設有穿孔121 及常見之穿孔擋板124). Upper face 145 of heated substratesupport plate 136 is parallel and spaced-closely toface- plate 122. An RF power supply (not shown)applies electrical power between gas distributionfaceplate 122 and susceptor 135 so as to excite theprocess gas mixture to form a plasma, ( 在氣體散流盤
122 與基板135 間以射頻功率供應器提供電力以便刺激過程氣體混合物形成等離子)in a PECVD process, within theregion between faceplate 122 and susceptor 135. Theconsti- tuents of the plasma react to deposit adesired film on the surface of the substrate onsubstrate support plate 136. The deposition processgases may be exhausted from the chamber through aslot-shaped orifice 131 surrounding the reactionregion into an exhaust plenum 222.( 用以沉積之氣體可由環繞於反應區之狹長狀孔口131 進入到吸排空間222 後從反應室排出)Ori- fice 131 and plenum 222 are defined
by the gap be- tween the top of chamber sidewall134, including upper dielectric lining 234 on thewall, and the bottom of chamber lid 221, including adielectric insulator 120 between lid 221 and aperimeter flange 125 of gas distribution faceplate
122.（該狹長狀孔口131 及吸排空間222 乃係由室壁134 上部、室蓋221 及氣體散流盤122 之環緣125 所構成之槽縫者）」（參附件一圖示4 所示）等語。由第0000000 號美國專利所揭露之技術說明，並配合其第1 圖之反應室剖視圖結構綜合觀察，熟習該項技術者可明顯判斷出該第0000000 號美國專利之氣體散流盤（122 ）部件乃係以水平之緣環（125）搭組於室蓋（221 ）上，且該位於反應室內之氣體散流盤（122 ）部件結構係以其具有若干孔洞（121 ）之平面供沉積氣體（123 ）均勻散佈至加工區（反應區）（141 ）內，其中該氣體散流盤（12 2）部件之緣環（125 ）與具有若干孔洞（121 ）之平面與其垂直側壁間顯然係呈一體成型。換言之，系爭專利所稱之習知技術（即第0000000 號美國專利）已揭示該氣體散流盤（122 ）係以一體成型設計成具有可對應系爭專利之「懸置機構24」與「氣體散流盤20」之連結關係。前已述及，於解釋專利範圍時，有關「說明書所載之先前技術應排除於申請專利範圍之外」，本件系爭專利所明示參照之習知技術（即第0000000 號美國專利）既已將該氣體散流盤（122 ）採一體成型設計，則系爭專利申請專利範圍第1 項中之懸置機構（suspension，24）與背壁（28）、氣體散流盤（20）間之「連接」關係，解釋上自應排除「一體成型」之態樣，否則，倘將「一體成型」之設計納為系爭專利所包含之技術特徵，則系爭專利之技術特徵將為前案所揭露而無效。
⑶系爭專利說明書明示習知技術有如下缺點：「傳統氣體散流
盤的另一缺點即是氣體散流盤在化學蒸氣沉積製程中保持低溫，因此在基材的表面會產生一些不期待的熱損失，更仔細來說，傳統的氣體散流盤一般直接固定於電漿室的側壁(Sid
e wall) 或蓋子(lid) ，此部分具有高熱量(thermal mass)及高熱導性，所以此蓋子及側壁亦可以為散熱器的功能，以將熱抽離氣體散流盤。故，傳統的設計會將氣體散流盤保持在低溫，正是一般所不樂見的。」（說明書第3 頁第13行），為改善習知技術上開缺失，系爭專利揭示其創作目的為：「本發明可用於在溫度上昇時候穿透式氣體散流盤的實用操作，此氣體散流盤藉由一進氣歧管側壁以懸吊於電漿室。在氣體散流盤與電漿室之間，該進氣歧管之側壁產生了熱阻絕，而使得氣體散流盤得以提升其溫度。由本發明的優點看來，在電漿室的使用時，本發明可幫助減少工件暴露表面的熱損失。」亦即系爭專利之技術重點在於如何提高「氣體散流盤」之溫度、但又要避免「氣體散流盤」之溫度被與之連結的進氣歧管側壁（電漿室的側壁）所帶走，故需對「氣體散流盤」形成一熱阻隔狀態，為達到此一效果，系爭專利揭示之設計手段如下：
①「在習知的設計中，氣體散流盤直接連接於反應室之蓋子或
側壁，蓋子與側壁具有高熱量(thermal mass)及高熱導的特性，所以蓋子或側壁的功能亦如同由氣體散流盤的散熱器(h
eat sink) 可以將熱抽離。相反的，本發明新式的進氣歧管側壁可以藉由提供熱阻抗於氣體散流盤與其他反應室部件（例如蓋子18與反應室壁10）之間，以作為氣體散流盤的熱阻隔。因此，本氣體散流盤可以在習知設計中以較高的溫度操作。」（參說明書第22頁第9 行），亦即，為改善習知技術之缺失，系爭專利將「進氣歧管側壁24」（即「懸置機構」）採薄、長設計，以降低熱傳導截面而形成熱阻隔。惟查，系爭專利申請專利範圍第1 項並未具體界定該「懸置機構」之尺寸關係，而僅是說明該「懸置機構」與「背壁」及「氣體散流盤」連接，致與系爭專利所參照之習知技術（即第0000000 號美國專利）中揭露之「直接連接」手段相同，是以解釋上此一設計態樣應為習知技術，為系爭專利申請專利範圍第1 項所排除。
②另依系爭專利說明書第23頁第3 、4 段所示「在另一提出之
設計中，氣體散流盤20的熱阻隔可以藉由增加下列區域的熱阻抗而達成：⑴在懸置機構與氣體散流盤之間的接觸區域；⑵懸置機構與其他反應室組件的接觸區域，且該組件可以熱連接至反應室壁。」、「反應室有兩接觸區域，一種減少至少其中之一區域面積的使用方法，例如藉由減低在氣體散流盤與懸置機構低側翼54之間的覆蓋焊接區域面積，以增加在懸置機構與氣體散流盤之間的熱阻抗（第4 圖與第10圖）。
另一個範例中，在第9 圖至第12圖之實施例裡，藉由減低在懸置機構24、蓋子26與低側翼54之間的覆蓋焊接區域面積，可以增加在懸置機構與其他組件（蓋子18與背壁28）之間的熱阻抗。在上述任一實施例中，比較可能的方法上係應用於只有6 或8 個焊接區域，而這些區域為沿著周圍的1.5 吋寬大小。」等語，可知系爭專利所提供之另外2 種增加「氣體散流盤20」之熱阻隔手段，係在「懸置機構24」與「背壁」及「氣體散流盤」兩接觸區域至少之一處，降低覆蓋焊接區域之面積，即可減少「氣體散流盤」對外熱傳之截面積以形成熱阻隔者。由此處之技術內容說明可知，系爭專利原始之創作目的為維持「氣體散流盤」之高溫狀態、避免溫度散失形成最大熱阻隔，而採用最小焊固面積以形成與「懸置機構
(sus pension)」之連接關係外、兼具維持溫度之效果，故在系爭專利申請專利範圍第1 項既需為發明說明所支持方屬明確之前提下，「氣體散流盤」需有熱阻隔，且「懸置機構
(suspe nsion)」「背壁」及「氣體散流盤」三者採焊固為其「連接」手段，準此以解，上開三者當解釋為各別之「獨立構件」，蓋倘「懸置機構(suspension)」與「氣體散流盤」為一體成型，將與習知技術相同，故解釋上應排除此種結合方式。
③又美商應用公司自承系爭發明所欲解決的問題有二，一為因
熱膨脹產生之機械應力，使氣體散流盤扭曲或破裂，一為氣體散流盤直接連接於電漿室側壁或上蓋導致熱損失（參100年9 月21日民事準備書㈡狀第6 頁第2 行）。由是可知，系爭專利顯然係排除將氣體散流盤直接連接於側壁或上蓋之設計，蓋倘將氣體散流盤直接連接於側壁或上蓋，將無法形成熱阻隔而導致氣體散流盤有熱損失之缺點。
④另就系爭專利申請專利範圍第1 項有關「一懸置機構（susp
ension）有一第一端、一第二端、及該第一端與該第二端之間且位於該氣體散流盤之上的至少一可彎曲部分；該第一端連接於該背壁；該第二端連接於該氣體散流盤；」此段技術特徵之描述，可知系爭專利申請專利範圍第1 項對於懸置機構(suspension)界定為具有「第一端」、「第二端」及「可彎曲部分」等部分名稱，惟檢視系爭專利原說明書，該說明書並未就「懸置機構」此一特定名稱有特別描述，是基於對專利權人權利之保護及相對於公眾利用上之限制，系爭專利申請專利範圍中之用語既與發明說明不一致，致衍生解讀上之疑義，基於誠信原則與權利之行使互為因果關係，美商應用公司自應就此種解釋上之疑義自負有利及不利之責任。準此，系爭專利申請專利範圍第1 項之「一懸置機構（suspension）有一第一端、一第二端、及該第一端與該第二端之間且位於該氣體散流盤之上的至少一可彎曲部分；該第一端連接於該背壁；該第二端連接於該氣體散流盤；」此段技術特徵，對照系爭專利說明書第10頁第7 行介紹「進氣歧管(gasinlet manifold) 」部分（配合第2 至4 圖）係記載為：「在可彎曲側壁的上端有一上蓋子26可以直接或間接的受到反應室壁10的的安置支撐。如果是間接安置支撐，該懸置機構上端經由一些中間的部件，而由反應室壁支撐，並置放於上蓋子26與反應室壁10之間，即如圖示中具體實施例的背壁28(backwall)及蓋子18。」等語，基於該發明所屬技術領域中具有通常知識者於申請當時對申請專利範圍之認知，應可解釋為該懸置機構具有可彎曲側壁，上端有一上蓋子（26，即第一端），且該上蓋子（26）與背壁（28，backwa ll ）為不同構件，即系爭專利「該第一端連接於該背壁」之技術特徵中，就懸置機構之第一端（上蓋子26）與背壁間之「連接」手段，該實施例並不支持該懸置機構與背壁係「一體成型」之說法。
⑤另系爭專利說明書第11頁最末行記載「在此一具體實施例中
，在背壁28與可彎曲側壁24之上蓋子26之間不需要一氣體密封。所以在此交會點之氣體漏縫唯一的作用為：少量的製程氣體會經由此氣體漏縫進入反應室中而不是經由氣體散流盤20的孔洞22。最終，在揭露的具體實施例中在背壁28與可彎曲側壁之上蓋子26之間沒有O 形環的存在。該上蓋子藉由數個螺栓72固定於背壁，這些螺栓圍繞著背壁的邊緣（如同第
4 圖）。」等語，亦可說明可彎曲側壁第一端（上蓋子26）與背壁28間之「連接」係採螺固手段，而非「一體成型」。
此外，系爭專利說明書第16頁第2 行揭示「在第1 圖中為成功測試之實施例，其中之進氣歧管懸置機構或側壁為厚度為1mm ，且高度50mm為的鋁金屬。雖然運用了整片可彎的鋁，製成了簡單的可彎式側壁或懸置機構24，而且沿著其高度的側壁都是可彎式的，但是這些都不一定是必要的，這樣滿足了使懸置機構包含至少一位於在上端26與下端54之間的可彎部分設計‧‧‧。」以及第17頁第8 行記載「具體來說，在較佳狀態下，一進氣歧管或懸置機構24分別包含四片分開可彎曲的鋁金屬，且位置於方形進氣歧管的四邊（如第2 圖與第3 圖）。每一邊24都最好是以一平坦方形的金屬片形成，且金屬片上端都以90度彎曲向外延伸出上蓋子26，而下端則以90度彎曲向內以延伸出低側翼54（如第4 圖）。該低側翼插入連接於該散流器20之套溝（groove）中，且以焊接加強連接的強度。」第17頁第19行記載「為了連接散流器20至進氣歧管之側壁部件24，一套溝延伸了幾乎散流器每一之四邊的整個寬度。任一側壁部件24在其低端都有一直角，其在彎曲部位下的延伸部位包含一較低的連接側翼，且該側翼對應於套溝（如第4 圖）。有一個或多個的焊接點56在低連接側翼54與散流器20上，以確保它們之間的緊密牢固。」及第17頁第8 行記載「具體來說，在較佳狀態下，一進氣歧管或懸置機構24分別包含四片分開可彎曲的鋁金屬，且位置於方形進氣歧管的四邊（如第2 圖與第3 圖）。每一邊24都最好是以一平坦方形的金屬片形成，且金屬片上端都以90度彎曲向外延伸出上蓋子26，而下端則以90度彎曲向內以延伸出低側翼54（如第4 圖）。該低側翼插入連接於該散流器20之套溝
(groove) 中，且以焊接加強連接的強度。」等語，綜合上揭4 處說明，可對應並解釋系爭專利申請專利範圍第1 項中所稱之「懸置機構(suspension)有一第一端（對應上端26或上蓋子26）、一第二端（對應下端54或低側翼54或下蓋子54）、及該第一端與該第二端之間且位於該氣體散流盤之上的至少一可彎曲部分；」其中之「懸置機構（suspension）24（或側壁部件24）」構件係獨立於「氣體散流盤( 或散流器20 )」及「背壁28」兩構件之片體。
⑥況系爭專利說明書第22頁第18行記載「進氣歧管側壁24（或
其中的部件）需要夠薄、且夠長夠高，所以側壁（或相似部件）的熱阻抗應該夠大，使得提供在氣體散流盤與反應室部件之間實質的溫度差，而這些不（部）件都已經被連接，即背壁28，反應室蓋子18，反應室側壁10及O 形環45-47 。此間所說之長度與高度係沿著垂直方向至氣體散流盤平面的尺寸。在第1 圖之具體實施例中可以測知，進氣歧管側壁為一厚度為1mm 高度為5cm 之金屬片。」等語，此段內容亦說明系爭專利該「進氣歧管側壁24」（即「懸置機構」）僅為一金屬片狀者，系爭專利所用之「連接」一詞係指各獨立部件間之連結關係，並無「一體成型」之意涵。又參酌系爭專利第1、4、9 、10、12圖，該等圖式均為有關進氣歧管、部分可彎曲側壁之截面示意圖，具有識圖能力之技術人員依通常知識觀察該等截面圖式所顯現之隱含圖意，即可清楚判斷該等圖式顯示之「懸置機構(suspension)24（或側壁部件24）」、「氣體散流盤( 或散流器20) 」及「背壁28」等剖面線，乃分別以不同方向之若干平行線條作表現，意指該等構件彼此間為不同構件，由是益證系爭專利之「懸置機構(sus-pension)24（或側壁部件24）」、「氣體散流盤( 或散流器
20 )」及「背壁28」中之任兩構件並無「一體成型」之意思表示。
⑦上訴人援引台北高等行政法院97年度訴字第739 號判決及最
高行政法院99年度判字第945 號判決中有關「該懸置機構與背壁或氣體散流盤是否為一體成型則並非系爭專利之特徵」部分判決內容，認為系爭專利申請專利範圍並不限於「氣體散流盤」與「懸置機構」係為各自獨立之構件，也包括非各自獨立之構件( 即一體成型) 云云（參民事上訴理由㈠狀理由參）。惟查，該段行政判決內容並未就「該懸置機構與背壁或氣體散流盤是否為一體成型」作進一步釋明或支持，自不能擅自延伸解釋上開判決已確認「氣體散流盤」與「懸置機構」間包括「各自獨立」及「非各自獨立」之態樣。況上開行政法院判決基礎係就系爭專利申請專利範圍本身與舉發證據間之所欲解決之課題、所採手段以及是否超脫熟習該項技術者所能輕易完成等是否具有可專利性之疑義，從整體技術特徵相比對而為綜合性之論述及判斷，與本件民事侵權訴訟係在推定專利權有效之前提下，參酌專利權人自申請時至維護專利權過程中所有內部及外部證據後，再就系爭專利請求項內容進行文義解析或限縮解釋，兩者顯然係分別適用不同之比對基礎及規範。是綜上所述，美商應用公司雖主張系爭專利「懸置機構」與「氣體散流盤」不論係獨立之構件或一體成型皆為系爭專利之申請專利範圍第1 項所涵蓋云云，惟對照系爭專利說明書之發明說明、圖式及其自認之習知技術，就系爭專利申請專利範圍第1 項之文義加以解釋判斷，可知美商應用公司所主張該「連接」一詞包括有「一體成型」之實施態樣云云，並不被說明書或圖式所支持，且為系爭專利所參照之習知技術即美國第0000000 號專利所揭露，解釋上自應排除此一連接態樣，是美商應用公司上開主張並不可採。
⑷另就系爭專利申請專利範圍第1 項中所謂可彎曲部分之定義為何：
①按系爭專利申請專利範圍第1 項中就懸置機構之「可彎曲部
分」所為描述乃「一懸置機構(suspension)有一第一端、一第二端、及該第一端與該第二端之間且位於該氣體散流盤之上的至少一可彎曲部分；」而該「可彎曲部分」一詞配合說明書內容，係以形容詞「可彎曲」來形容該「懸置機構」在位於「氣體散流盤」上方具備有「可彎曲」特性之技術特徵。又因系爭專利為發明專利，則該「可彎曲部分」之技術特徵並不局限於形狀、結構或裝置所造成，亦包括利用材質本身之特性所產生之「可彎曲」效果。故只要該「懸置機構」能在「氣體散流盤」受熱後，藉由「懸置機構」本身之彎曲應變來解決「氣體散流盤」因熱膨脹所衍生之斷裂與扭曲現象者，均屬該「可彎曲」一詞所描述之手段。
②另參酌系爭專利說明書及圖式，其中對於「可彎曲部分」之
描述出現於說明書第16頁第4 行記載「雖然運用了整片可彎的鋁，製成了簡單的可彎式側壁或懸置機構24，而且沿著其高度的側壁都是可彎式的，但是這些都不一定是必要的，這樣滿足了使懸置機構包含至少一位於在上端26與下端54之間的可彎部分設計用以減小彎曲力的周圓為：⑴選擇彎曲性佳的材料利用於懸置機構之可彎曲部分；⑵降低可彎曲部分的厚度；⑶增加可彎曲部分的長度／或高度。上述所稱長度／或高度係指側壁可彎曲部分的尺寸，該尺寸沿著垂直方向至散流器平面。」等語，可知系爭專利提供了至少三種使懸置機構產生「可彎曲」之手段。按材料之「可彎曲」與「延展性」僅為現象之概念描述，為結構構件受到外力或力矩之作用下，對結構造成之變形。具體而微之物理量表現應是以材料之應力（stress）、應變（strain）關係為基礎，作進一步演算運用。故實質上，系爭專利之「可彎曲」應是懸置機構受氣體散流盤膨脹所生之側向應力所導致之變形現象。
③本院於101 年12月19日曾詢問有關「系爭專利的懸置機構只
在降低或容忍氣體散流盤之扭曲程度或熱膨脹，是否不排除氣體散流盤仍有些許扭曲與熱膨脹？」之問題，美商應用公司承認於系爭專利說明書第15頁第18行以下之實施例中容許且不排除氣體散流盤仍有扭曲存在；對於本院同日之另一問題「懸置機構或懸臂樑受有側向力之時，是否會產生彎曲程度上的差異（非零值）？」美商應用公司亦不排除先前技術之懸置機構在受有側向力時可能會有很小的、接近於零（非零值）的位移（參102 年1 月21日「民事準備書㈦狀」）。
準此，先前技術之懸置機構於加熱之製程時亦會產生熱膨脹，此乃自然現象，並不因先前技術是否意識到其氣體散流盤存有熱擴張問題，即影響該熱膨脹確實存在之事實。況依美商應用公司所提上證10（即系爭專利發明人John White先生所出具之聲明書及中文翻譯）第11點說明亦自承該等先前技術並未意識到散流盤熱擴張之問題，雖然該等先前技術所揭露之設計可以有效地適用於當時所採用較小基板之時代，惟並無法有效地適用於更新更大型之平面顯示器製造設備，因為相較於早期較小之氣體散流盤，比例上，大型設備之氣體散流盤熱擴張之程度將會比早期之氣體散流盤更大，因而產生扭曲或破裂，而在受熱及/ 或受外界應力之情況下，幾乎所有結構多多少少都有可能彎曲或額外應力之影響等語（參
102 年1 月21日民事準備書㈧狀），可知在電漿化學氣相沉積設備領域中（包括先前技術或系爭專利），其懸置機構因氣體散流盤之熱擴張產生彎曲乃屬自然現象，僅程度上會隨著溫度及氣體散流盤尺寸之大小而有不同變化，故此種現象屬已存在之事實，只不過因先前技術未對氣體散流盤之平整度造成實質影響（因早期平面顯示器面積較小）致遭忽略而已。本件系爭專利申請專利範圍第1 項既未進一步具體界定其適用之「更大型之平面顯示器製造設備」之規格究竟如何，或其操作溫度之限制為何，則無論先前技術抑或系爭專利之懸置機構均確實存有可彎曲之變化，乃屬當然。
④本件韓商周星公司同意（物件）受有側向力時，一定會產生
零值以上之彎曲，此為自然物理現象；而美商應用公司則同意其創作就是利用自然法則將懸置機構設計為在氣體散流盤上有一「可彎曲」部分（參本院101 年12月19日筆錄）。是以，無論ANSYS 有限元素分析產生之模擬圖（原證93號及原證99號）、系爭專利、韓商周星公司系爭產品或習知技術（美國第0000000 號專利）等相關電漿沉積系統，在氣體散流盤受熱後所產生之熱膨脹均會對該懸置機構（側壁）產生側向推力，以致造成該等懸置機構（側壁）產生彎曲現象，其差異僅是大小程度而已，惟無論在巨觀或微觀上，上述電漿沉積系統均支持該等懸置機構（側壁）具有「可彎曲部分」，此乃屬符合自然法則之物理性質，當無疑問。
⑸末就系爭專利申請專利範圍第1 項之「懸置機構」是否為「
完整而不中斷」之方形懸置機構疑義部分，查系爭專利發明說明第16頁末2 行記載「在已經揭露之較佳實施例中，基材14與散流器20均為方形。既使可彎曲側壁24為單一完整，且有著方形切面的環形物，因為散流器20之熱導機械擴張及收縮會在側壁角區域生成過量的應力，所以依然不希望有一完整而不中斷的設計。在較佳用於避免如此應力的設計裡，可以分離該側壁成為四個部分，每部分分別代表方形散流器的一連，且在每一角落提供一新式擴張連接處（expansionjoint ），此連接處僅允許一極小可以被忽視的氣體漏出量。」及發明說明第20頁第8 行記載「因應製程中在反應室內所需要使用的圓形製程工件14，例如矽晶圓，在較佳狀態下散流器的剖面應該亦為圓形，而不是如同在前述範例中的方形。在此情況下，進氣歧管的可彎曲懸置機構或側壁24可以為單一且無中斷(unbroken)的環形件。從另一方面來說，懸置機構的可彎曲性可以藉由分離成為軸向的數個延伸的部件而增加，而此分離係藉由軸向延伸的空隙，即如同先前說明之實施例裡方形側壁的四部件。」是以，系爭專利之發明說明僅教示將「懸置機構」設為方形及採四個部分所構成者為較佳實施例，但並未明確排除將「懸置機構」設為環形件及採單一且無中斷（完整而不中斷）的設計為不可實施之態樣，兩者僅為效果上之差異而已。
⒋證據2 、3 分別是否足以證明系爭專利申請專利範圍第1 項
不具新穎性？⑴本件韓商周星公司主張系爭專利具有無效事由，分別提出證
據2 、3 ，主張上開二證據各別可證明系爭專利不具新穎性，上開二證據之組合則可以證明系爭專利不具進步性等語。是美商應用公司系爭專利與前案相較是否具有無效事由，自有加以比對必要。惟進行比對前，先就證據2 、3 之技術內容分別說明如下：
①證據2 為1997年6 月10日日本特許廳公開特許公報特開平0-
00 0000 號「電漿處理裝置」專利，證據2 之公開日期早於系爭專利申請日，自得作為與系爭專利比對之先前技術。經查，證據2 係揭示一種可藉由吸收熱膨脹之隔板設計，以降低在基板(S) 上之主體部之熱變形，圖2 顯示於反應室（1）中藉由分隔板（5 ）區隔成電漿區（2 ）及反應區（3 ），該分隔板（5 ）為鋁質且在圓周處呈曲柄狀彎曲，其包括主體部（5a）、彎曲部（5b）、固定部（5c）及引出孔（5e）（另可於分隔板5 上增設如圖3 之伸縮縫5d），該分隔板（5 ）係固定於反應室（1 ）之肩部（6 ），當主體部（5a）因電漿加工產生熱膨脹時，該彎曲部（5b）能藉由彎曲以吸收該熱膨脹，俾防止主體部（5a）產生熱變形而影響產品良率（參附件一圖式2 所示）。
②證據3 則為1999年3 月16日公告第0000000 號美國專利案，
其公告日期亦早於系爭專利申請日，故亦得作為與系爭專利比對之前案。經查，證據3 係一種「電漿室之散流板熱阻結構」（FACEPLATE THERMAL CHOKE IN A CVD PLASMA REACTO
R ），其揭示於散流板（100 ）之邊緣（130 ）設有兩個深環槽（circumferential grooves 140 、142 ），該等深環槽彼此徑向偏移而於其間形成一薄壁（146 ），藉此薄壁（
146 ）以吸引並緩衝該噴灑頭（102 ）與、隔熱支撐壁（13
0 ）及凸緣（116 ）所產生之熱膨脹應力（Column 4 Line
18：The thinness of the thermal path through the thi
n wall 146 causes a large thermal resistance at thethin wall 146, a thermal resistance much greater tha
n that of the showerhead 102 and of the hanger wall
130 and the faceplate flange 116. ）。該薄壁（146 ）之長度遠大於厚度而具有相對於散流板（100 ）之徑向方向的可彎曲性，俾降低噴灑頭（102 ）受熱而產生之變形（Column 4 Line 46：However, the thin wall 146 has a len
gth much longer than its thickness.Therefore, it canflex and bend in the radial direction of the faceplate100, thereby accommodating thermal distor - tionswhile only minimally influencing the position of theshowerhead 102. ）（參附件一圖式3 所示）。
⑵有關本件美商應用公司系爭於95年12月25日修正後公告之申
請專利範圍第1 項所揭露之技術特徵，業經說明於前揭理由欄㈡，故不再贅。經查，證據3 （即第0000000 號美國專利案）前於系爭專利之相關舉發案（第00000000N01 舉發案）中，曾經經濟部智慧財產局審定認為無法證明系爭專利申請專利範圍第1 項不具新穎性，此部分事實復經臺北高等行政法院97年度訴字第00739 號判決、最高行政法院99年度判字第945 號判決確定，而本件兩造同為該案件之當事人，是該判決結果對本件兩造已生拘束力，固不待言，而證據3 無法證明系爭專利申請專利範圍第1 項不具新穎性，亦可確定。
至證據2 與系爭專利申請專利範圍第1 項相較，兩者仍有如下所示結構上差異：⑴系爭專利懸置機構之可彎曲部分係位於該氣體散流盤之上，而證據2 分隔板（5 ）之彎曲部（5b）則是位於分隔板（5 ）之下方；⑵系爭專利之懸置機構圍繞著該進氣歧管中之區域，係指背壁與該氣體散流盤之間，即進氣穿孔與該出氣穿孔間之區域，而證據2 由氣體導入孔
（12）之氣體流入區域則為分隔板（5 ）與微波導入窗（4）之間；⑶系爭專利之背壁具有進氣穿孔，而證據2 之氣體導入孔（12）則非位於微波導入窗（4 ）中；⑷系爭專利以懸置機構圍繞著該進氣歧管中的區域，而證據2 之分隔板（
5 ）彎曲部（5b）則是圍繞著反應室內區域。是綜觀上開比較結果，證據2 、3 與系爭專利申請專利範圍第1 項相較結果仍有諸多不同處，是證據2 、3 各別均無法證明系爭專利申請專利範圍第1 項不具新穎性。
⑶證據2 及3 之組合是否足以證明系爭專利申請專利範圍第1
項不具進步性？①有關系爭專利申請專利範圍第1 項以及證據2 、3 所揭露之
技術特徵，均已說明如前，均不再贅。經查，證據2 、證據
3 與系爭專利均屬有關電漿處理之技術領域，且皆對於與氣體散流盤相連接之懸吊機構（或側壁）因熱膨脹產生之技術手段有所揭示，故對於熟習該項技術者而言，利用該證據2、證據3 以解決系爭專利之氣體散流盤因熱膨脹所生之扭曲及變形，並就其懸吊機構（或側壁）進行改良，自有其合理之組合動機。
②系爭專利申請專利範圍第1 項與證據2 、3 相較，系爭專利
懸置機構係位於氣體導流盤上方呈ㄩ型結構設計，且其用以作為氣體散流盤側上方懸置機構之可彎曲部分作為吸收氣體散流盤熱膨脹應力。反觀證據2 之彎曲部（5b）位為分隔板（5 ）下方之ㄇ型結構處，而證據3 用以吸收面板（100 ）之熱膨脹應力者係以其邊緣之兩個深槽（140 ）及（142 ）彼此徑向偏移而於其間形成一薄壁（146 ）者。茲依據前述有關系爭專利申請專利範圍第1 項之解釋，系爭專利懸置機構(suspension)與氣體散流盤應認為係兩個獨立構件，懸置機構具有一第一端、一第二端、及該第一端與該第二端之間且位於該氣體散流盤之上的至少一可彎曲部分；該第一端連接於該背壁，該第二端連接於該氣體散流盤；系爭專利在懸置機構與氣體散流盤之「連接」處因形成一熱傳界面而形成熱阻隔，故系爭專利之結構設計除了克服因熱膨脹所產生之機械應力對氣體散流盤造成扭曲或破裂之問題外，另方面在解決習知氣體散流盤因直接連接於電漿室側壁或上蓋所導致之熱損失。而證據2 之分隔板（5 ）與彎曲部（5b）、或證據3之 框邊（130 ）與面板（100 ），均是採一體成型之直接連接結構，以致於仍有系爭專利所指之氣體散流盤（或分隔板5 、面板100 ）熱損失之缺點，故系爭專利申請專利範圍第1 項所界定之技術特徵確能達到「在氣體散流盤與電漿室之間，該進氣歧管之側壁產生了熱阻絕，而使得氣體散流盤得以提升其溫度。」之效果，故組合證據2 、3 尚難證明系爭專利申請專利範圍第1 項係運用申請前既有之技術或知識，而為熟習該項技術者所能輕易完成。
⑷系爭專利申請專利範圍第1 項是否因欠缺記載懸置機構為「
4 片」，而違反第26條第3 項，致不為發明說明書所支持？韓商周星公司援引專利法第26條第3 項規定主張系爭專利申請專利範圍第1 項不為發明說明書所支持，惟其所援引之法條錯誤，應更正為90年10月24日修正公布之專利法第71條第
3 款「說明書或圖式不載明實施必要之事項，或記載不必要之事項，使實施為不可能或困難者。」之規定，合先敘明。至韓商周星公司此部分主張，業經臺北高等行政法院於97年
9 月10日以97年度訴字第739 號判決及最高行政法院以99年度判字第945 號判決認為不因欠缺記載或界定懸置機構為「
4 片」，而有違反專利法第71條第3 款情事，茲因該件行政訴訟之當事人亦為本件兩造，其判決結果對本件兩造已生拘束力，故韓商周星公司此部分之主張，自無理由。
⒌韓商周星公司等所製造販賣之「型號EUREKA 6000 」第五代
之「供液晶顯示器用之電漿輔助化學氣相沉積設備（PECAV
for LCD ）」產品是否落入系爭專利之申請專利範圍第1 項？⑴有關本件美商應用公司系爭專利申請專利範圍第1項所揭露
之技術特徵，已如前述，而系爭專利申請專利範圍第1項經解析後，可得如下所示之構件：
A.一種用於電漿室的進氣歧管，該歧管至少包含:
B.一背壁，且該背壁有一進氣穿孔(orifice);
C.一氣體散流盤(gas distribution plate)，且該氣體散流盤有數個出氣穿孔，而該氣體散流盤與該背壁有分隔且位於該背壁下方；及
D.一懸置機構(suspension)有一第一端、一第二端、及該第一端與該第二端之間且位於該氣體散流盤之上的至少一可彎曲部分；該第一端連接於該背壁；該第二端連接於該氣體散流盤；以及
E.該懸置機構圍繞著該進氣歧管中的區域，該區域延伸至該背壁與該氣體散流盤之間，且其中之該進氣穿孔與該出氣穿孔為該區域的流體傳遞(fluid communication)。
⑵如前所述，本件美商應用公司係主張韓商周星公司系爭「型
號EUREKA 6000 」第五代之「供液晶顯示器用之電漿輔助化學氣相沉積設備（PECAV for LCD ）」產品落入系爭專利申請專利範圍第1 項而侵害系爭專利，經查，相對於美商應用公司系爭專利所揭露之技術特徵，韓商周星公司系爭產品係一種用於電漿室的進氣歧管，該歧管至少包含：一背壁，且該背壁有一進氣穿孔(orifice) ；一氣體散流盤(gas distribution plate)，且該氣體散流盤有數個出氣穿孔，而該氣體散流盤與該背壁有分隔且位於該背壁下方；及一懸置機構
(suspension) 有一第一端、一第二端、及該第一端與該第二端之中間部分；該懸置機構之第一端連接於該背壁；該懸置機構以第二端與該氣體散流盤一體成型；以及該懸置機構圍繞著該進氣歧管中的區域, 該區域延伸至該背壁與該氣體散流盤之間, 且其中之該進氣穿孔與該出氣穿孔為該區域的流體傳遞(fluid communication) 。茲參照上揭美商應用公司系爭專利申請專利範圍第1 項所拆解之構件，韓商周星公司系爭產品亦可解析成如下所示構件：
a.一種用於電漿室的進氣歧管，該歧管至少包含：
b.一背壁，且該背壁有一進氣穿孔(orifice)；
c.一氣體散流盤(gas distribution plate)，且該氣體散流盤有數個出氣穿孔，而該氣體散流盤與該背壁有分隔且位於該背壁下方；及
d.一懸置機構(suspension)有一第一端、一第二端、及該第一端與該第二端之中間部分；該懸置機構之第一端連接於該背壁；該懸置機構以第二端與該氣體散流盤一體成型；以及
e.該懸置機構圍繞著該進氣歧管中的區域，該區域延伸至該背壁與該氣體散流盤之間，且其中之該進氣穿孔與該出氣穿孔為該區域的流體傳遞(fluid communication)。
⑶基於全要件原則，就美商應用公司系爭專利申請專利範圍第
1 項與韓商周星公司系爭產品上開所示經解析後之構件互為比較，其中系爭產品之a 、b 、c 、e 構件所揭露之技術特徵為系爭專利申請專利範圍第1 項之構件A 、B 、C 、E 文義所讀取，至於系爭專利申請專利範圍第1 項之D 構件部分，系爭專利之懸置機構(suspension)第二端雖連接於該氣體散流盤，惟解釋上系爭專利應排除其習知技術（即美國第0000000 號專利）之氣體散流盤（含孔洞121 ）與環緣（125）係採一體成型直接連接而形成懸置之態樣。且若將氣體散流盤直接連接（或一體成型）於側壁或上蓋，將無法形成熱阻隔而導致氣體散流盤有熱損失之缺點，此非系爭專利創作之目的（參美商應用公司於100 年9 月21日民事準備書㈡狀第6 頁第2 行自認系爭發明所欲解決的問題有貳：⑴因熱膨脹產生之機械應力，使氣體散流盤的扭曲或破裂；⑵氣體散流盤直接連接於電漿室側壁或上蓋導致熱損失即明），是美商應用公司系爭專利顯欲排除將氣體散流盤直接連接於側壁或上蓋之態樣。至韓商周星公司上開D 構件之技術特徵部分，參酌其機密文件5 號、機密文件6 號兩工程製圖，其中關於懸置機構與該氣體散流盤間之結構部分，所顯示之剖面圖其剖面線（Section lining）為呈現若干45度平行線，參酌中華民國65年8 月大中國圖書公司出版之「工程畫與圖學」第288 至291 頁（外部證據）之說明，以及美國標準學會所定之剖面符號，可知韓商周星公司系爭產品其隱蔽之邊及剖面線之作法，均會以與圖線成45度之等距細線群表其剖面。
故依此判斷，在機密文件5 號、機密文件6 號兩工程製圖中有關懸置機構與該氣體散流盤間之結構部分係呈「一體成型」，怠無疑義。況由奇美公司於101 年2 月10日及8 月10日函復之「氣體散流盤組件」共7 張照片顯示，該「氣體散流盤組件」為具有若干網孔分佈之板體（對應於系爭專利之「氣體散流盤」），且具有垂直之側邊（對應於系爭專利之「懸置機構」）及供螺固之唇緣，而該板體與側邊間之連結關係乃係一體成型彎折而成。是以，系爭專利之「懸置機構」與「氣體散流盤」間之「連結」既需要形成一熱傳界定以構成熱阻隔（Thermal Isolation ），且其第1 、4 、5 、9、10、12各圖之「懸置機構」與「氣體散流盤」構件的剖面線均非同一方向，顯然系爭專利之「懸置機構」與「氣體散流盤」兩者應為兩個獨立構件，而韓商周星公司系爭產品之懸置機構則因延伸至第二端而與該氣體散流盤一體成型，是系爭產品之d 構件自未為系爭專利之D 構件文義所讀取。
⑷至韓商周星公司等系爭產品之d 構件中，其「懸置機構」是
否具備「可彎曲部分」，因此乃屬於動態現象而難以具體判定，惟被控物既係採用「6061- T6」鋁金屬材質所製成，對所屬技術領域中具有通常知識者而言，熱脹冷縮為一般物理現象，是韓商周星公司系爭產品之「氣體散流盤」受熱後膨脹，會對其側邊之「懸置機構」形成側向應力，在該「氣體散流盤」膨脹之側向力未超過其最大應力值（44967 psi ）之前提下，系爭產品「懸置機構」之中間部分自會有變形（deflection）及回復之微觀變化，故依經驗法則而言，應可認定系爭產品之d 構件中之「懸置機構」具備「可彎曲部分」。
⑸綜上所述，本件韓商周星公司系爭產品之d 構件中，因其懸
置機構(suspension)之第一端、第二端、中間部分及氣體散流盤係一體成型結構，與系爭專利申請專利範圍第1 項之D構件於文義解釋後採兩個獨立構件「連接」之文義不同，是韓商周星公司系爭產品之d 構件自不為系爭專利申請專利範圍第1 項之D 構件文義所讀取。
⑹承前所述，韓商周星公司系爭產品之d 構件既未為美商應用
公司系爭專利申請專利範圍第1 項之D 構件文義所讀取，自有進一步就兩者之D 構件為均等分析之必要。經查，系爭產品與系爭專利申請專利範圍第1 項之懸置機構均用以懸吊氣體散流盤，故兩者所採手段（way ）相同。再就功能（func- tion）部分而言，系爭產品之懸置機構因與氣體散流盤一體成型而提供支撐效果及吸收懸置機構之膨脹而變形，氣體散流盤所吸收之熱會直接熱傳至懸置機構，造成氣體散流盤自身之熱損失；反觀系爭專利之懸置機構除提供氣體散流盤之支撐，及吸收懸置機構之膨脹而產生變形外，該懸置機構與氣體散流盤間意欲形成一熱阻隔（Thermal Isolation ）以降低氣體散流盤之熱損失，故系爭專利該懸置機構與氣體散流盤顯為兩獨立構件而非一體成型，故系爭產品與系爭專利兩者在懸置機構與氣體散流盤之結合是否形成熱阻隔（Thermal Isolation ）之功能（function）部分並不相同。再者，系爭專利要克服氣體散流盤可被懸吊且不扭曲或變形，以達到加工溫度可提升之目的；反觀系爭產品之懸置機構第二端因直接連接於該氣體散流盤，故無法保證氣體散流盤不扭曲或變形，且氣體散流盤之熱會因傳導至懸置機構產生熱損失，對於加工溫度的保持效果不佳。由是可知，兩者之懸置機構對於是否形成熱阻隔（Thermal Isolation ）之結果（Result）亦不相同。是綜上所述，韓商周星公司系爭產品之構件編號d 亦未落入系爭專利申請專利範圍第1 項構件D之均等範圍內。
⒍是綜合上開比對結果，就系爭專利有效性部分而言，證據2
、3 各別均不足以證明系爭專利申請專利範圍第1項不具新穎性，其組合亦無法證明系爭專利申請專利範圍第1項不具進步性，且系爭專利申請專利範圍第1項亦未違反專利法第71條第3款規定。另就韓商周星公司系爭「型號EUREKA 6000」第五代之「供液晶顯示器用之電漿輔助化學氣相沉積設備（PECVD for LCD ）」產品是否落入美商應用公司系爭專利申請專利範圍第1 項而侵害系爭專利部分，系爭產品就文義部分並未為系爭專利申請專利範圍第1 項所讀取，亦未均等落入系爭專利申請專利範圍第1 項，換言之，韓商周星公司系爭「型號EUREKA 6000 」第五代之「供液晶顯示器用之電漿輔助化學氣相沉積設備（PECVD for LCD ）」產品並未落入系爭專利申請專利範圍第1 項而侵害系爭專利。
㈢反訴部分⒈韓商周星公司及英屬蓋曼群島商周星公司依公平交易法第31
條、第34條、民法第184 條第1 項前段所為損害賠償及登報之請求，是否已罹於請求權時效？⑴按事業違反公平交易法之規定，致侵害他人權益者，應負損
害賠償責任；又被害人依公平交易法之規定，向法院起訴時，得請求由侵害人負擔費用，將判決書內容登載新聞紙，公平交易法第31條、第34條分別定有明文。而依公平交易法第五章規定主張之請求權，自請求權人知有行為及賠償義務人時起，二年間不行使而消滅；自為行為時起，逾十年者亦同，同法第33條亦設有規定。又依民法第184 條規定主張侵權行為請求損害賠償者，請求權人自知有損害及賠償義務人時起，二年間不行使而消滅。自有侵權行為時起，逾十年者亦同。損害賠償之義務人，因侵權行為受利益，致被害人受損害者，於前項時效完成後，仍應依關於不當得利之規定，返還其所受之利益於被害人，民法第197 條亦規定明確。次按假扣押裁定因自始不當而撤銷，或因第529 條第4 項及第53
0 條第3 項之規定而撤銷者，債權人應賠償債務人因假扣押或供擔保所受之損害，上開規定，於假處分程序準用之，此為民事訴訟法第531 條第1 項、第533 條所明定。至所謂假扣押裁定因自始不當而撤銷者，乃指對於假扣押裁定抗告，經抗告法院依命假扣押時客觀存在之情形，認為不應為此裁定而撤銷之情形而言，若係因本案訴訟敗訴確定而撤銷該裁定，僅屬因命假扣押以後之情事變更而撤銷，尚非該條所謂因自始不當而撤銷，此有最高法院67年度台上字第1407號、69年度台上字第1879號判例意旨可供參照。
⑵本件韓商周星公司主張美商應用公司違反公平交易法第10條
、第19條、第24條規定，並據以提起本件請求者，主要係認為美商應用公司以其在92年間於PECVD 之市場居冠軍寶座，佔有率為75% ，於93年更攀升至80% 等情，認為美商應用公司已符合公平交易法關於獨占事業之認定標準，卻利用其獨佔地位，以不公平之方法直接或間接阻礙韓商周星公司進入市場參與競爭，自有違公平交易法第10條第1 款規定云云。
惟查，韓商周星公司曾於93年1 月16日向公平交易委員會檢舉美商應用公司及美商業凱公司違反公平交易法，檢舉之理由主要有四，分別為：⑴美商應用公司濫用獨占地位；⑵美商應用公司向韓商周星公司台灣客戶奇美電子及友達公司等作不實陳述損害韓商周星公司商譽；⑶明知專利無效而聲請假處分；及⑷以明顯有瑕疵之鑑定報告聲請假處分。其中美商應用公司部分因未實際在我國從事銷售之行為，故不適用該法之規定，至美商業凱公司部分則認為其所為行為並未違反公平交易法相關規定（參原審卷㈤第328 頁），韓商周星公司不服，提起訴願，經行政院決定駁回（參同上卷第331頁），韓商周星公司猶未甘服，乃向臺北高等行政法院提起行政訴訟，經該法院以95年度訴字第1182號判決駁回，韓商周星公司猶未甘服，提起上訴，再經最高行政法院駁回上訴而告確定。依上開判決意旨，可確定者乃美商應用公司或美商業凱公司並非獨佔事業，另外，美商應用公司及美商業凱公司對於韓商周星公司之臺灣廠商告知訴訟程序之訊息，亦未違反公平交易法之規定。另可確定者，乃本件韓商周星公司等於上開公平交易法行政爭訟程序中，並未指摘美商應用公司利用不實資料聲請假處分部分。
⑶本件韓商周星公司主張美商應用公司及美商業凱公司有權利
濫用之行為而違反公平交易法部分，乃指美商應用公司等於明知系爭專利撤銷事由之情況下，先藉由聲請假處分，再於舉發程序藉機減縮申請專利範圍，顯然明知其專利無效而仍聲請假處分及提起本案訴訟，此部分事實，顯然與韓商周星公司前一違反公平交易法行政爭訟程序內容不同，是本件反訴上訴人即韓商周星公司等有關反訴被上訴人即美商應用公司及美商業凱公司是否違反公平交易法規定部分，自應另由本院審理，合先敘明。
⑷美商應用公司主張其於92年12月24日聲請假處分，並於93年
6 月30日提起本件訴訟，而韓商周星公司係在95年10月30日始提起本件反訴，顯已罹於二年請求權時效云云。惟查，韓商周星公司所以認為美商應用公司及美商業凱公司構成侵權行為與公平交易法所生之損害賠償責任，主要係以美商應用公司等於聲請假處分後，多次透過更正程序減縮其申請專利範圍，顯然系爭專利具有無效事由，美商應用公司始會在聲請假處分後一再更正系爭專利。倘韓商周星公司等所述為真，則美商應用公司系爭專利於聲請假處分後，曾經申請七次更正，最後申請更正系爭專利之時間為101 年4 月5 日，此一時間更在韓商周星公司等提起本件反訴之後，是理論上而言，倘韓商周星公司係以美商應用公司於聲請假處分後多次更正行為作為認定美商應用公司明知系爭專利無效之認定依據，顯然韓商周星公司知悉此等事實之時間在後，其在95年10月30日提起本件反訴時間縱使距美商應用公司等聲請假處分之時間已逾二年，參酌公平交易法第33條及民法第197 條規定意旨，應認為韓商周星公司提起本件反訴請求時，並未逾其知悉「侵權行為」事實後二年，是本件韓商周星公司於95年10月30日提起本件反訴請求，應認為並未罹於二年消滅時效。
⒉系爭專利於93年8 月13日更正前申請專利範圍第1 項是否違
反核准時專利法第20條第1 項第1 款及第2 項？上開事實是否為美商應用公司及美商業凱公司申請假處分及提起本件本訴時所明知或可得而知？美商應用公司及美商業凱公司聲請假處分及提起本件本訴，是否違反公平交易法第10條第1 款、第19條第3 款、第24條及民法第184 條第1 項之規定？⑴按修正前專利法第64條規定，發明專利權人申請更正專利說
明書或圖式，僅得就下列事項為之：申請專利範圍之減縮；誤記事項之訂正；不明瞭記載之釋明（第一項）。前項更正，不得超出申請時原說明書或圖式所揭露之範圍，且不得實質擴大或變更申請專利範圍（第二項）。準此，專利之更正理論上應係減縮原申請範圍，或者訂正錯誤、或者使不明瞭者明瞭。至於專利權人申請更正之動機為何，不一而足，縱使認為專利權人於取得專利後，自行檢索前案認為倘不予更正，其專利權有可能因此被認為無效，進而在未有舉發案提起之情形下主動自行申請更正，亦不能因此即認為專利權人主觀上「自始明知」專利無效，蓋專利是否果真無效，在尚未經主管機關於舉發程序中作出處分前，專利權人無從知悉處分結果；又縱使專利權人係因舉發證據之提出，始為專利之更正，亦不能因此認為專利權人於取得專利時，即明知其專利具有無效事由。否則，無異認為所有取得專利權之權利人，主觀上均有明知專利無效之可能性，此不惟與專利推定有效之原則有違，亦將使專利制度崩解。
⑵本件專利權人即美商應用公司於92年12月24日聲請假處分後
，韓商周星公司繼而在93年3 月22日提出舉發，其後美商應用公司分別於93年8 月13日、95年1 月6 日、95年12月25日、100 年11月7 日、100 年11月23日、101 年4 月5 日、10
2 年12月13日提出更正之申請，而美商應用公司提出第1 次更正申請日期即93年8 月13日係在本件韓商周星公司提出舉發（即93年3 月22日）之後，合理推論應可認為美商應用公司係在知悉韓商周星公司舉發事由後，為因應該舉發事由所作之更正。然因智慧財產局並未就該次更正之申請為准駁之表示，而是在96年7 月10日始就美商應用公司之第3 次（95年12月25日）更正為核准之處分，是以對美商應用公司而言，系爭專利在智慧財產局為准駁更正之前，其有效性為何仍處未定之數，縱使美商應用公司於接觸舉發資料後，自忖系爭專利恐有無效事由而提出更正申請，能否因此即認為足證美商應用公司在聲請假處分時，即已明知系爭專利具有無效事由，非無疑問？⑶韓商周星公司提出本件爭執，意欲查明系爭專利於93年8 月
13日更正前申請專利範圍第1 項是否違反核准時專利法第20條第1 項第1 款及第2 項而屬無效？惟查，縱使系爭專利於更正前確有無效事由，基於推定專利有效之原則，系爭專利既經智慧財產局核發，美商應用公司何以必須對於經智慧財產局核准之專利應抱持否定、懷疑之態度？況系爭專利為發明專利，非型式審查之新型專利，換言之，系爭專利既經智慧財產局實質審查後核准，美商應用公司基於信賴原則，相信系爭專利有效，尚無不合理之處。韓商周星公司主張美商應用公司明知系爭專利無效，自屬無稽。至系爭專利於第一次更正前是否具有無效事由，已因系爭專利業經智慧財產局核准第3 次更正而無再予查明之必要。縱使證明系爭專利於第1 次更正前確有無效事由，亦不能因此即證明美商應用公司主觀上明知系爭專利無效，是韓商周星公司此部分之主張，自無理由。
⑷按物品專利權人，專有排除他人未經其同意而製造、為販賣
之要約、販賣、使用或為上述目的而進口該物品之權（第一項）；方法專利權人，專有排除他人未經其同意而使用該方法及使用、為販賣之要約、販賣或為上述目的而進口該方法直接製成物品之權（第二項），修正前專利權法第56條定有明文。本件美商應用公司系爭專利於其聲請假處分時，乃未經撤銷且有效存在之我國專利，美商應用公司基於專利權人地位，實施上開專利法所賦予之權利，不論係提起訴訟程序、非訟程序或保全程序等，均屬正當權利行使之行為，不能認為係違反公平交易法第10條第1 款、第19條第3 款、第24條及民法第184 條第1 項之規定。縱使嗣後該專利經審理後認為無效，亦不能因此即認為提起訴訟或非訟、保全程序等當然為侵權行為。韓商周星公司以美商應用公司於系爭專利經舉發後申請更正，且更正次數達七次之多，認為倘美商應用公司系爭專利確無無效事由，美商應用公司自無須提出更正之申請，因而認為在美商應用公司提出更正之申請前，系爭專利「應」屬無效專利，而美商應用公司主觀上必然明知系爭專利為無效專利，竟仍以韓商周星公司侵害系爭無效專利為由聲請假處分，致造成韓商周星公司名譽遭受損害，顯然係權利濫用之侵權行為云云，實係倒果為因，事後推測之詞，且無視專利權人美商應用公司更正專利之權利，自非的論。
⒊韓商周星公司及英屬蓋曼群島商周星公司主張美商應用公司
及美商業凱公司有下列違反公平交易法之行為，而依公平交易法第31條、第34條、民法第184 條第1 項前段為損害賠償及登報之請求，是否有據？⑴韓商周星公司主張美商應用公司系爭專利於93年8 月13日更
正前申請專利範圍第16、17、28項違反核准時專利法第71條之規定（實施不可能），美商應用公司及美商業凱公司申請假處分及提起本件本訴時應明知或可得而知上開事實，詎美商應用公司及美商業凱公司卻仍聲請假處分及提起本件本訴，顯然業已違反公平交易法第10條第1 款、第19條第3 款、第24條及民法第18 4條第1 項之規定云云。惟查，如前所述，美商應用公司系爭專利於韓商周星公司提出舉發後，即已更正系爭專利，並經智慧財產局於96年7 月10日就美商應用公司之第3 次（95年12月25日）更正為核准之處分，縱認美商應用公司係因韓商周星公司所提舉發證據，始為上開更正行為，亦不能因此即認為美商應用公司自始（在未經舉發前）即明知系爭專利無效，基於侵權之故意或過失，故意偽稱專利權受侵害而聲請對韓商周星公司為假處分。換言之，縱認比對結果，美商應用公司系爭專利確有違反核准時專利法第71條之規定，有實施不可能情形，在系爭專利未經撤銷之前，不能因此認為美商應用公司即應限縮自己權利之行使，不得依法主張任何權利。況韓商周星公司對於美商應用公司在專利權仍屬有效情況下，主觀上如何有藉專利權作為侵權行為手段之故意過失，均未提出證據證明，自不能僅因美商應用公司確有多達七次更正系爭專利之行為，即認為美商應用公司主觀上有以韓商周星公司認為「自始當然無效」之系爭專利作為侵害韓商周星公司權利之手段，而應負侵權行為責任，是韓商周星公司此部分之主張自屬無稽。
⑵韓商周星公司復主張美商應用公司及美商業凱公司於聲請假
處分及提起本件本訴時主張系爭產品侵害上開更正前系爭專利申請專利範圍第36、40項，卻未針對上開請求項提出侵害之分析及證據，顯然違反公平交易法第10條第1 款、第24條及民法第184 條第1 項之規定云云。經查，本件美商應用公司於聲請假處分及提起本件訴訟時，雖曾提出交通大學科法所出具之鑑定報告，惟該份鑑定報告除附件二圖一外，並無其他資料揭露侵權產品之技術內容，該圖式並無任何文字標示懸置機構之尺寸及可彎曲與否（參兩造不爭執事項第㈧點），另美商應用公司及美商業凱公司於聲請假處分及提起本件本訴時迄今亦均未提出系爭產品落入93年8 月13日更正前系爭專利申請專利範圍第36、40項之侵害比對分析報告（參兩造不爭執事項第㈦點）。惟查，本件美商應用公司及美商業凱公司除主張韓商周星公司系爭產品侵害更正前系爭專利申請專利範圍第36、40項之外，亦主張系爭產品侵害系爭專利申請專利範圍第1 項，而上開鑑定報告就此部分並非毫無比對（參鑑定報告第9 、10頁，實則鑑定報告另對第16、28請求項亦進行比對），上開鑑定報告就其所取得之資料比對結果，亦無明顯錯誤之處，韓商周星公司對於上開鑑定報告究竟有何錯誤之處，亦未舉證證明，是縱使上開鑑定報告參考資料不足，或未就所有請求項提出比對說明，亦僅係內容不完備，而非內容明顯錯誤，不能因此即認為美商應用公司援引內容明顯錯誤之鑑定報告，作為聲請假處分之依據，進而侵害韓商周星公司等權利。本件美商應用公司於聲請假處分時，既已提出鑑定報告，並經臺灣桃園地方法院酌定擔保金後准許其聲請，則縱使其所提之鑑定報告內容不完備，亦不能因此認為美商應用公司違反公平交易法第10條第1 款、第24條及民法第184 條第1 項之規定，是韓商周星公司此部分之主張，亦屬無稽。
⑶韓商周星公司主張美商應用公司及美商業凱公司於聲請假處
分及提起本件本訴時所提出之交通大學科法所所出具的鑑定報告認定系爭產品侵害更正前系爭專利申請專利範圍第1、
16、28項。惟因系爭專利係提供位於氣體散流盤之上非常細長之懸置機構，作為可彎曲部分，然待鑑定物位於氣體散流盤「之上」之懸置機構非常短，僅用於使氣體散流盤與背壁之間有間隔，完全看不到位於氣體散流盤之上細長之懸置機構，足見美商應用公司應早已熟知系爭專利限縮後之範圍無法主張侵權，美商應用公司無法僅依鑑定報告所附圖式即作成分析比對，亦無法據此判斷待鑑定物之技術特徵是否落入系爭專利更正前申請專利範圍第1 項之鑑定，美商應用公司顯然明知系爭產品不構成侵權，卻以形式上狀似完備惟實質上有明顯瑕疵之鑑定報告提出於法院，並使法院誤採為准許定暫時狀態處分之依據，其行為已違反公平交易法第10條第
1 款、第24條及民法第184 條第1 項，構成侵權行為以及濫用權利云云。惟查，如前所述，本件鑑定報告業已就待鑑定物是否落入系爭專利更正前申請專利範圍第1 、16、28等項提出說明，縱使其認定結果與韓商周星公司所認定之結果不同，或其判斷方式未獲韓商周星公司等認同，然此究竟與認定結果明顯錯誤有別。韓商周星公司等就上開鑑定報告內容究竟有何違背科學法則之處均未舉證證明，僅泛稱美商應用公司顯然明知系爭產品不構成侵權云云，顯屬一廂率斷之詞，並不可採。
⒋美商應用公司及美商業凱公司是否對外陳述及散布侵害韓商
周星公司及英屬蓋曼群島商周星公司名譽之不實情事，而違反公平交易法第22條、第24條規定？⑴韓商周星公司主張美商應用公司及美商業凱公司對奇美公司
及友達公司等陳述及散布侵害韓商周星公司及英屬蓋曼群島商周星公司名譽之不實情事，自有違反公平交易法第22條、第24條規定云云。惟查，美商應用公司及美商業凱公司僅係告知奇美公司及友達公司有關其與韓商周星公司間系爭專利權爭訟之事實，並未要求奇美公司或友達公司不得向韓商周星公司購買系爭產品，此部分事實除經公平交易委員會查證屬實，並經臺北高等行政法院、最高行政法院確認無訛之外，另依證人即奇美公司前薄膜部經理李志毅證稱當時美商業凱公司人員曾打電話告知奇美公司所購買之韓商周星公司的PEVCD 跟美商業凱公司的設備很像，這樣不好，該公司會採取法律行動，當時接到電話後有向廠長報告，後來美商業凱公司的人員有來公司開會，會議內容大概就跟電話中說的一樣，但當時如果還有要採購這個設備（指韓商周星公司的設備），我會繼續評估等語（參本院卷㈥第208 頁至第214 頁），以及證人即友達公司經理杜玉棠結證稱當時該公司要擴充五代廠設備時，曾評估是否採購韓商周星公司產品，也曾接到美商業凱公司電話，表示該公司可能對韓商周星公司採取法律行動，後來在報紙上有看到該公司確實向韓商周星公司提出法律行動，接完電話後，曾向副總經理林正一報告，但公司沒作任何處理，由於友達公司之技術主要是來自日本，更換機台怕會有製程方面的問題而影響出貨，因此在不考慮專利問題情況下，都已經不太敢換廠商，何況後來還聽聞可能有專利的問題，更不可能換機台的廠商，而友達公司也從未曾使用過韓商周星之機台等語（參同上本院卷第214 頁至第217 頁），足證美商應用公司僅有單純告知奇美公司有關其與韓商周星公司之間爭訟之事實，並未為限制奇美公司等之採購行為，而面板廠商究竟購買何家廠商商品，涉及其技術內容及製程，基本上不大可能任意更換機台，換言之，由上開證人之證詞，尚不足以證明奇美電子公司及友達公司確有因美商應用公司或美商業凱公司之不當言詞內容而暫停或更換購買機台之廠商。韓商周星公司等主張美商應用公司及美商業凱公司對外陳述及散布侵害韓商周星公司及英屬蓋曼群島商周星公司名譽之「不實」情事，究竟「不實」部分為何，未見韓商周星公司等舉證證明，若謂美商應用公司等指稱韓商周星公司等系爭產品侵害系爭專利一節即屬不實，則所有於專利侵權爭訟中敗訴之專利權人恐均將背負以不實事項作為侵害他人名譽手段之責任。況本件美商應用公司及美商業凱公司僅對特定之奇美公司及友達公司陳述本件兩造爭訟之事實，並未對不特定之第三人任意寄發通知函，自難認為係不當之不法行為。
⑵韓商周星公司等復以工商時報於美商應用公司聲請假處分之
後，隨即報導相關訊息，並採訪奇美公司有關產能方面之影響問題，足見上開報導之資料來源應係由美商應用公司或美商業凱公司所提供云云。惟查，上開報導內容主要係由兩造間之爭訟問題，探討相關產品市場之發展，以及對於奇美公司產能之影響，至於韓商周星公司之產品是否確有侵權，並未著墨，一般讀者由該報導內容所獲致之訊息大概為此一市場競爭激烈之印象，而韓商周星公司等與美商應用公司及美商業凱公司間糾葛之真相為何，尚無從由上開判決中得其端倪。而類此產業間之爭訟糾紛，於產業報紙中每日屢見不鮮，各報社或記者究竟如何取得消息來源，不一而足，惟得以上報者，必先具有一定之新聞價值，上開報導究竟係因本件兩造當事人之知名度緣故，抑或係因兩造之爭訟牽涉當時我國兩兆三星之面板產業奇美電子公司所致，無從查考。倘本件兩造爭訟未涉及任何國內知名產業，是否仍有新聞價值，亦未可知，反訴上訴人即韓商周星公司等僅以其與美商應用公司間訴訟糾葛見報，即認為係美商應用公司等藉此手段打擊韓商周星公司，為不公平競爭行為云云，恐嫌速斷。況上開報導內容述及本件兩造間之糾葛部分極少，而所陳述之內容尚符實情（僅記者誤將假處分寫為假扣押），尚難認為美商應用公司意欲藉此報導作為打擊韓商周星公司等之手段。韓商周星公司等所為指控，無異要求本件兩造間之所有爭訟訊息均不能見諸報章，且美商應用公司及美商業凱公司負有協助隱瞞之義務，自是苛求美商應用公司及美商業凱公司負擔並無義務之事，顯無足採。
⒌美商應用材料公司及業凱公司倘有上開違反公平交易法之行
為，是否侵害韓商周星公司及英屬蓋曼群島商周星公司之權利致其受有損害？如有，損害額為若干？經查，本件美商應用材料公司及業凱公司既未違反公平交易法，亦不構成民法第184 條侵權行為，則韓商周星公司及英屬蓋曼群島商周星公司依據公平交易法第31條、第34條、民法第184 條第1 項前段規定，請求美商應用材料公司及美商業凱公司應連帶負擔費用，將判決書之摘要內容全部以「十全（即長25公分、寬30.5公分之版面）」之規格刊載於中國時報、自由時報及聯合報第一版一日，並應連帶給付韓商周星公司等1,000 萬元及自原審反訴起訴狀送達之日起至清償日止，週年利率5%計算之利息云云，即屬無據，應予駁回。
⒍美商應用公司依據交大科法所鑑定報告附件二圖一聲請假處
分及提起本件訴訟，是否違反公平交易法第19條第5 款及民法第184 條第1 項規定？經查，依交通大學於94年12月13日出具之「專利侵害鑑定報告法律意見書」記載，該鑑定報告已表明所參考之技術資料共為三份周星公司簡報資料，以及鑑定報告附件一之圖一及圖二即出自於同一份周星公司簡報資料，且位於該份簡報資料後半部其中討論第五代設備之章節，主要係依據圖一所示之相關技術特徵而認定周星公司之第五代設備落入477830號專利之申請專利範圍第1 、16、28項，構成專利權利範圍之文義侵害；該鑑定報告進一步表示重新比對分析代（待）鑑定物之技術構成，用以比較並更正（針）慶齡鑑定報告的內容等語（以上參上開鑑定報告「肆、結論」第二、三段）。按系爭PEVCD 設備體積龐大，除非韓商周星公司主動提供，或者奇美公司同意停機情況下供鑑定之用，否則鑑定單位甚難取得實體設備進行勘驗。本件交通大學以韓商周星公司所自行提出之資料進行鑑定，認為韓商周星公司等所生產銷售之系爭產品落入美商應用公司及美商業凱公司系爭專利申請專利範圍，構成侵權，倘上開由韓商周星公司所提出之資料內容無誤，則何以由上開資料仍無法據以判斷韓商周星公司等系爭產品之結構內容、有無侵權，則韓商周星公司所提用以證明不侵權之資料是否充分，即有疑問。韓商周星公司質疑交通大學僅以上開資料即判斷系爭產品有無落入系爭專利申請專利範圍，言下之意乃指資料明顯不足，美商應用公司及美商業凱公司既知上開鑑定報告係在資料不足情況下作出，自應懷疑韓商周星公司系爭產品是否確有侵害系爭專利，詎美商應用公司竟以此鑑定報告聲請假處分，顯然係以不當資料欺瞞法院以獲得假處分，進而侵害韓商周星公司等之權利云云。惟查，韓商周星公司對於何以上開資料猶不足作為判斷依據，以及依據上開資料所為之判斷內容何處有誤等，均未具體指明，其泛稱美商應用公司及美商業凱公司以不實之鑑定報告聲請假處分及提起本件訴訟，違反公平交易法第
19 條 第5 款及民法第184 條第1 項規定云云，乃跳躍邏輯，並非可採。
六、綜上所述，有關本件兩造爭訟，就本訴部分，被上訴人即反訴上訴人韓商周星公司等所提證據2 、3 各別均不足以證明系爭專利申請專利範圍第1 項不具新穎性，證據2 及3 之組合亦不足以證明系爭專利申請專利範圍第1 項不具進步性，而系爭專利申請專利範圍第1 項並未因欠缺記載懸置機構為「4 片」，而違反專利法第26條第3 項（應為專利法第71條第3 款）規定。另就侵害專利權部分，依據奇美電子公司所提「氣體散流盤組件」7 張照片（包含101 年2 月10日送院之「氣體散流盤組件」照片3 張、101 年8 月10日送院之「氣體散流盤組件」照片4 張）明確顯示該穿孔板體具有垂直之側邊（對應於系爭專利之「懸置機構」）及供螺固之唇緣，而該板體與側邊間之連結關係乃係一體成型彎折而成者，與上訴人即反訴被上訴人美商應用公司、美商業凱公司系爭專利申請專利範圍第1 項不同，換言之，韓商周星公司等系爭產品並未為系爭專利請求項1 之文義所讀取或落入均等範圍。是本訴上訴人即反訴被上訴人美商應用公司、美商業凱公司訴請被上訴人即反訴上訴人韓商周星公司等不得製造、為販賣之要約、販賣、使用或為上述目的而進口「型號EUREKA6000」之「供液晶顯示器用之電漿輔助化學氣相沈積設備」及其他侵害上訴人所有中華民國發明第152996號專利之電漿輔助化學氣相沈積設備，同時應連帶給付上訴人即反訴被上訴人178,200, 000元，及自起訴狀繕本送達之翌日起至清償日止，按週年利率5%計算之利息云云，即屬無據，應予駁回。另就反訴部分，美商應用公司、美商業凱公司對韓商周星公司等提起假處分、定暫時狀態處分，並告知奇美公司、友達公司有關本件兩造間爭訟之事項，並未違反公平交易法第10條第1 款、第19條第3 款、第5 款、第22條、第24條及民法第184 條第1 項之規定，是韓商周星公司等依據公平交易法第31條、第34條、民法第184 條第1 項前段規定，訴請美商應用公司、美商業凱公司應連帶負擔費用，將判決書之摘要內容全部以「十全（即長25公分、寬30.5公分之版面）」之規格刊載於中國時報、自由時報及聯合報第一版一日，並應連帶給付被上訴人即反訴上訴人1,000 萬元及自原審反訴起訴狀送達之日起至清償日止，週年利率5%計算之利息，亦無理由，應予駁回。
七、本件兩造間有關本訴及反訴之請求俱因無理由而經本院駁回，兩造有關供擔保准為假執行及免為假執行之聲請均失所附麗，均應併予駁回，附此敘明。
八、原審為兩造上訴人敗訴之判決，核無不合。上訴意旨仍執陳詞指摘原判決不當，求予廢棄改判，俱無理由，均應予以駁回其上訴。
九、本件事證已臻明確，兩造其餘之攻擊防禦方法及未經援用之證據資料，經本院斟酌後，認均不影響本判決之結果，爰不再一一詳予論述，附此敘明。
十、據上論結，本件兩造上訴均無理由，依智慧財產案件審理法第1 條、民事訴訟法第449 條第1 項、第78條，判決如主文中 華 民 國 102 年 7 月 31 日
智慧財產法院第三庭
審判長法 官 汪漢卿
法 官 蔡惠如法 官 陳容正以上正本係照原本作成。
如不服本判決，應於收受送達後20日內向本院提出上訴書狀，其未表明上訴理由者，應於提出上訴後20日內向本院補提理由書狀
(均須按他造當事人之人數附繕本) ，上訴時應提出委任律師或具有律師資格之人之委任狀；委任有律師資格者，應另附具律師資格證書及釋明委任人與受任人有民事訴訟法第466 條之1 第1項但書或第2 項( 詳附註) 所定關係之釋明文書影本。如委任律師提起上訴者，應一併繳納上訴審裁判費。
中 華 民 國 102 年 8 月 8 日
書記官 邱于婷附註：
民事訴訟法第466條之1(第1項、第2項)對於第二審判決上訴，上訴人應委任律師為訴訟代理人。但上訴人或其法定代理人具有律師資格者，不在此限。
上訴人之配偶、三親等內之血親、二親等內之姻親，或上訴人為法人、中央或地方機關時，其所屬專任人員具有律師資格並經法院認為適當者，亦得為第三審訴訟代理人。