最 高 行 政 法 院 判 決
99年度判字第945號上 訴 人 英屬蓋曼群島商．周星科技股份有限公司代 表 人 甲000000 000000000訴訟代理人 乙○○ ○○
張哲倫 律師戊○○被 上訴 人 經濟部智慧財產局代 表 人 王美花
參 加 人 美商‧應用材料股份有限公司代 表 人 Don Kumamoto訴訟代理人 李世章 律師
徐念懷 律師上列當事人間發明專利舉發事件，上訴人對於中華民國97年9月10日臺北高等行政法院97年度訴字第739號判決，提起上訴，本院判決如下：
主 文上訴駁回。
上訴審訴訟費用由上訴人負擔。
理 由
一、參加人美商應用材料股份有限公司前於民國（下同）90年1月16日以「電漿室中以可彎曲方式懸固之氣體散流組件」向被上訴人經濟部智慧財產局申請發明專利，同時並以受理國家為美國，申請日為西元2000年1月20日，申請案號為09/488,612號之專利案主張優先權。經被上訴人編為第00000000號審查，准予專利，並於公告期滿後，發給發明第152996號專利證書（下稱系爭專利）。嗣上訴人於93年3月22日提出專利舉發申請書，對系爭專利提起舉發，並分別在93年10月15日、94年9月29日、95年3月31日及96年2月15日提出專利舉發補充理由書，主張系爭專利違反核准時專利法第20條第1項第1款、第2項、第22條第4項、第71條第3款、第4款及專利法施行細則第16條第2項規定。嗣參加人於93年8月13日提出系爭專利申請專利範圍更正本，因所援引之法律依據有誤，經被上訴人就本件專利舉發案於94年9月2日進行面詢時，告知參加人應更正。參加人乃於95年1月6日再提出系爭專利申請專利範圍更正本，請求更正系爭專利申請專利範圍第1項、7項、8項、9項、16項、28項及第40項，經被上訴人審查，因其中申請專利範圍第16項及第40項有不准予更正之情事，乃以95年12月7日（95）智專三㈤01064字第09521047520號函通知參加人限期重新提出更正本。參加人依被上訴人之函知，復於95年12月25日重新提出系爭專利申請專利範圍更正本（更正部分為申請專利範圍第1項、第7項、第8項、第9項、第28項及第40項）。經被上訴人將該更正本與系爭專利91年3月1日公告本比較，核認該等請求項之更正，或為「申請專利範圍之縮減」，或為「誤記事項之訂正」，或為「不明瞭記載之釋明」，且均未實質擴大或變更申請專利範圍，符合專利法規定，准予更正。本件專利舉發案依系爭專利95年12月25日更正本審究。案經被上訴人審查，於96年7月10日以（96）智專三㈤01064字第09620383880 號專利舉發審定書為「舉發不成立」之處分（下稱原處分）。上訴人不服，提起訴願、行政訴訟，均遭駁回，遂提起本件上訴。
二、上訴人起訴主張：（一）依系爭專利更正時之專利法規定，專利更正「不得超出申請時原說明書或圖式所揭露之範圍」，系爭專利95年12月25日之更正申請，明顯悖於前揭規定，被上訴人仍准予更正，並逕以非法更正後之申請專利範圍審斷本件舉發，原處分自無可維持：查參加人於95年12月25日對系爭專利申請專利範圍第1項之更正，將原先核准公告之內容：「該第一端與該第二端之間的至少一可彎曲部分」，改變為「該第一端與該第二端之間且位於該氣體散流盤之上的至少一可彎曲部分」。關於該更正是否超出申請時原說明書或圖式所揭露之範圍，被上訴人僅簡單表示：「該懸置機構及氣體散流盤之相對位置關係可由說明書第9頁第16至19行之敘述及第4圖所支持」（參見原處分第3頁第16行）。然原處分並未說明系爭專利說明書第9頁第16至19行或第4圖如何能支持該懸置機構之至少一可彎曲部分係位於該氣體散流盤之上。查系爭專利說明書第9頁第16至19行之內容係表示「進氣歧管」（而非可彎曲式的側壁或懸置機構）係置於「氣體散流盤或是散流器盤之上」，完全未論及可彎曲之側壁或懸置機構之相對位置，故系爭專利原說明書第9頁之內容，完全無法支持系爭專利第1項所為之更正內容：即「該懸置機構之至少一可彎曲部分係位於該氣體散流盤之上」。顯見原處分核准系爭專利申請專利範圍第1項更正之審定，完全違背現行專利法第64條第2項之規定。被上訴人更認為系爭專利申請專利範圍第1項之前述更正可由系爭專利之第4圖所支持（原處分第3頁第17行）。惟查，系爭專利之第4圖雖畫出懸置機構位於氣體散流盤之上的部份其兩旁有空隙，然而被上訴人於評論證據3（西元1999年3月16日公告之美國第5,882,411號專利案，下同）時，明確表明：「無法據以想像、或由圖形目視、或認為該懸置壁130旁有空隙而推論該懸置壁係為可彎曲」（原處分第5至6頁理由(五)-1-⑵），且被上訴人於評論證據4（西元1997年7月15日公告之美國第5,647,911號專利案，下同）時亦表明：「無法據以想像、或由圖形目視而推論該間隔器44為可彎曲」（原處分第6頁理由(五)-1-⑶）；則既然被上訴人認為無法由圖形目視而推論圖中之結構為可彎曲，卻不具任何說明或理由，就逕行認定系爭專利之第4圖可支持位於氣體散流盤之上的懸置機構為可彎曲。顯見被上訴人之見解前後矛盾，而其准許更正之審定顯無足採。（二）系爭專利違反系爭專利核准時專利法第71條第3款規定：說明書「不載明實施必要之事項，使實施為不可能或困難」之規定，應構成撤銷發明之事由：根據申請專利範圍與發明目的之圖示（原審卷(一)第9頁）及系爭專利說明書之內容，系爭專利說明書已明確排除側壁係「完整而不中斷的設計」，是以側壁或懸置機構必須定義為「四片」，方始符合說明書所描述之技術特徵。若懸置機構係「完整而不中斷」之設計，則氣體散流盤在高達300℃的工作溫度下，將產生如前揭說明書所描述「角區域應力過大」之問題。故，系爭專利之美國對應案及韓國對應案，一律將申請專利範圍中之懸置機構，定義為「四片」，此等韓國及美國對應案之技術特徵，應為被上訴人及參加人所不爭執。綜前，系爭專利除第28項之文字將懸置機構定義為「四片」之外，申請專利範圍第1項及第16項皆因欠缺「四片」之定義，而未符合說明書所揭示之技術特徵。鑑於「申請專利範圍」乃屬核准時專利法所稱「說明書」，而系爭專利第1項及第16項申請專利範圍因欠缺記載「四片」之要件，而涵蓋其說明書所稱「不希望」之設計而致無可實施或實施顯有困難，則系爭專利申請專利範圍第1項及第16項顯該當其核准時專利法第71條第3款所稱：「不載明實施必要之事項（按：即「四片」），使實施為不可能或困難」，而顯應構成撤銷專利之事由。同理，系爭專利第36項之「側壁」亦欠缺記載「四片」之要件，而違反核准時專利法第71條第3款規定，顯應構成撤銷專利之事由。（三）原處分認定系爭專利與證據3之區別，在於系爭專利懸置機構之可彎曲部分在氣體散流盤「之上」，證據3則在「之下」，原處分故而認定系爭專利具可專利性，惟系爭專利第16項及第36項並無「之上」或「之下」之要件，原處分之認定與第16項及第36項之文義顯有矛盾，依原處分之見解，第16項及第36項顯屬無效：依原處分認定之邏輯，系爭專利與證據3之技術差異在於：系爭專利之可彎曲部分在氣體散流盤之之上；證據3之可彎曲部分在於氣體散流盤之下。姑不論原處分此等認定是否適法適當，縱依原處分此等邏輯，系爭專利第1項之要件或可符合原處分此等認定，因為系爭專利第1項經專利權人更正加入「之上」兩字，致系爭專利更正後之第1項之要件為：「位於該氣體散流盤之上的至少一可彎曲部分」。然系爭專利第16項及第36項明顯並無「之上」的要件，故依原處分前揭認定之邏輯，系爭專利第16項及第36項將無從與證據3之技術內容區別，而致第16項及第36項之技術為證據3所揭露，第16項及第36項當無任何可專利性可言。原處分一方面認定系爭專利與證據3之區別，在於可彎曲部分係位於氣體散流盤「之上」或「之下」之差異；一方面復認定系爭專利申請專利範圍第16項及第36項具可專利性，原處分此等認定不僅自相矛盾；且此等以第1項具可專利性，即逕認第16項及第36項亦具可專利性之認定，亦違反「逐項審查」原則。
（四）被上訴人審認系爭專利與證據3及證據4有所區別之理由，在於系爭專利第1項、第16項、第28項及第36項申請專利範圍所稱「可彎曲部分」之範圍，不包括一般金屬之延展性；然系爭專利之專利權人卻明確表示：系爭專利申請專利範圍界定之「可彎曲」涵蓋「一般金屬之延展性」，被上訴人認定系爭專利為有效之關鍵理由，竟與參加人自承之解釋相左，則原處分之認定，顯乏憑據。（五）被上訴人審認系爭專利第40項與證據3及證據4有所區別之理由，在於「系爭專利側壁係設於背壁及氣體散流盤之上，結構明顯不同」（原處分第7頁第(五)-5節），然而，系爭專利申請專利範圍第40項從未界定「側壁係設於背壁及氣體散流盤之上」，原處分之認定，顯乏憑據。（六）另參加人代理人於97年7月1日臺灣新竹地方法院（下稱新竹地院）庭訊時，稱：「側壁的區域不一定會如被告（按：即本件原告）所言因為完整而不中斷設計導致破裂，縱使會破裂，但因為可彎曲側壁已足以吸納氣體散流盤之應力，所以還是達到本發明目的，可達到避免氣體散流盤的斷裂扭曲」。惟查，側壁（即「懸置機構」）若破裂，則電漿室內的氣體會由破裂處四處散逸，根本無從藉由噴灑頭（即「氣體散流盤」）達成沈積於液晶面板之目的，顯見系爭專利顯不具產業可利用性。此亦足徵因為系爭專利之申請專利範圍過大而不明確，參加人得任意主張其申請專利範圍之解釋，甚至超出產業可利用性之範圍，原處分未及於此，實有應撤銷而重為認定之必要等語，求為判決撤銷訴願決定及原處分，並命被上訴人作成舉發成立之處分。
三、被上訴人則以：（一）申請專利範圍第1項原敘述「該第一端與該第二端之間的至少一可彎曲部分」之文義實際包括彎曲部分可能在「氣體散流盤旁邊那一段」或「氣體散流盤之上的部分」或「前兩者之組合」。該更正將彎曲部分的位置限縮為「氣體散流盤之上的部分」，符合「申請專利範圍之減縮」之規定，故被上訴人准予更正並無違誤。系爭專利說明書與申請專利範圍第1項「進氣歧管」之懸置機構及氣體散流盤之相對位置關係，即該可彎曲的部分位於第一端與該第二端之間，而參加人將其縮限於「氣體散流盤之上的部分」，如此之空間相對之結構關係，「該技術領域中具通常知識者」由說明書之敘述及第4圖之相對位置關係亦可瞭解而不致混淆。至於懸置機構可彎曲乃是參加人發明專利說明書之技術說明及特徵主張，兩者應無混淆。（二）至於該懸置機構與背壁或氣體流散盤是否為一體成型則並非系爭專利之特徵。又氣體散流盤可以為不同之形狀，故懸置機構可配合氣體散流盤形狀而做不同之設計，故其懸置機構是否為多數個部件組成且各部件間以間隙間隔則非為系爭專利之必要特徵。（三）對於系爭專利申請專利範圍各項與證據3及證據4之比較，原處分已經逐項做技術之比對。以系爭專利申請專利範圍第1項為說明，證據3為美國專利US0000000，其做為熱隔絕以及緩衝熱膨脹產生之應力之原理固然與系爭專利利用可彎曲之懸置機構24以達成熱阻隔及緩衝熱膨脹產生之應力之原理相同，但兩者之結構並不相同。證據3兩個深槽140及142係設於面板底部邊緣，其長度受限於噴灑頭之厚度，而系爭專利懸置機構係設於背壁及氣體散流盤之上，結構明顯不同，其可有更大的彈性來做設計以緩衝較大之熱膨脹應力。在證據3或系爭專利之系統操作條件下，並非只要是鋁材質就可彎曲，或其彎曲程度足以緩衝該系統之熱膨脹應力，故證據3縱然使用金屬或鋁材質為懸置壁130，但全文並未有任何說明及界定指出該懸置壁130係可彎曲之特徵，即無法據以設想、或由圖形目視、或認為該懸置壁130旁有空隙而推論該懸置壁係為可彎曲。另，證據4為美國專利US0000000，在證據4或系爭專利之系統操作條件下，並非只要是鋁材質就可彎曲（尚需視其尺寸長厚比例及承受之外力），或其彎曲程度足以緩衝該系統之熱膨脹應力，故證據4縱然使用鋁材質為間隔器44，但全文並未有任何說明及界定指出該間隔器44係可彎曲之特徵，即無法據以設想或由圖形目視而推論該間隔器44為可彎曲。故證據3、證據4特徵與系爭專利明顯不同，未揭示系爭專利案申請專利範圍第1項之技術特徵，亦非熟悉該項技術者所能輕易完成，故據證據3、證據4尚難證明系爭專利申請專利範圍第1項不具新穎性及不具進步性，而違反專利法第20條第1項第1款及第2項之規定。此外，系爭專利申請專利範圍第1、16、28、36、40項分屬系爭專利發明之不同態樣，其細部結構當然有差異，但其主要技術特徵則為相同，經被上訴人逐項就其結構及技術特徵仔細比對並歸納，其中申請專利範圍第1、16、28、36各項主要特徵皆為相同。此外，該懸置機構與背壁或氣體散流盤是否為一體成型則並非系爭專利之必要特徵。又氣體散流盤可以為不同之形狀，故懸置機構可配合氣體散流盤形狀而做不同之設計，故其懸置機構是否為多數個部件組成且各部件間以間隙間隔皆非為系爭專利可專利性之必要特徵。原處分針對各獨立項指出其主要特徵，並逐一與舉發證據比對，比對結果指出證據3至5尚難證明系爭專利申請專利範圍各獨立項不具新穎性及不具進步性，而違反專利法第20條第1項第1款及第2項之規定，其中由於第16、28、36項之主要特徵與第1項相同，故理由援引第1項並無不妥，原處分並無違誤。另外，證據3所揭示實施例之「熱阻氣門（THERMAL CHOKE）」係利用兩共軸溝槽140、142間之壁146，兩個深槽140及142係設於面板底部邊緣，其長度受限於噴灑頭之厚度。系爭專利側壁係設於背壁及氣體散流盤之間，結構明顯不同，其可有更大的彈性來做設計以達到較大的熱阻抗。證據4揭示之熱阻抗方法係利用具高阻抗之石英環48材質本身之特性來抵抗熱衝擊，與系爭專利特徵明顯不同，至於鋁間隔器44於證據4中並未揭示有做為提供熱阻斷之目的及設計基礎。證據5則未揭示如系爭專利第40項所揭示之前述特徵。因此，證據3至5尚難證明系爭專利申請專利範圍第40項不具新穎性及不具進步性，而有違反專利法第20條第1項第1款及第2項之規定。（四）系爭專利之技術特徵在於懸置機構的可彎曲性與懸置機構的位置，在證據3或系爭專利之系統下操作條件下，並非只要是鋁材質就可彎曲或其彎曲程度足以緩衝該系統之熱膨脹應力。證據3全文並未有任何說明及界定指出該懸置壁130係可彎曲之特徵，即無法據以設想、或由圖形目視、或認為該懸置壁130旁有空隙而推論該懸置壁係為可彎曲，故證據3結構與系爭專利明顯不同，且未揭示系爭專利申請專利範圍第1項之技術特徵，亦非熟悉該項技術者所能輕易完成，證據4理由同證據3，亦尚難證明系爭專利申請專利範圍第1項不具新穎性及不具進步性，而違反專利法第20條第1項第1款及第2項之規定。至於懸置機構的可彎曲部分的長度，並非其特徵，亦無限定之必要。申請專利範圍第1項雖經更正「之上」之要件，惟被上訴人舉發不成立之審定理由，仍依系爭專利技術特徵「懸置機構的可彎曲性與懸置機構的位置」與證據3比對，並無上訴人所稱「第16項、第36項及第40項欠缺之『之上』要件，無從與證據3區別」之情節，亦無違反逐項原則。（五）系爭專利之技術特徵在於「懸置機構的可彎曲性與懸置機構的位置」，懸置機構是否由多片(或四片)構成並非用以實施系爭專利之必要技術特徵，被上訴人根據系爭專利說明書整體的揭示內容而經審查認為系爭專利可以實施，並且認為應該給予合理範圍的保護，系爭專利之申請專利範圍已將懸置機構之可彎曲性與位置界定明確，故申請專利範圍並沒有過廣或不當。有關系爭專利懸置機構由一片構成，由參加人之說明，即使一片無法達到與多片有相同程度的容納熱膨脹的效果，一片仍能容納熱膨脹。如舊專利審查基準第1-2-21頁所述，即可知即使懸置機構由一片構成，系爭專利仍可以實施。系爭專利申請專利範圍第1項之更正係參加人依專利法第64條第1項第1款「申請專利範圍之減縮」之規定申請更正，並經被上訴人審查准予更正，其「可彎曲部分位於氣體散流盤之上」之內容當然為其整體技術特徵內容的一部分。由於系爭專利申請專利範圍第1項更正前之技術特徵內容已經足以與證據3區分，第1項得以與證據3區分不是因為「之上」的更正，才有所區分，故系爭專利申請專利範圍第16、28、36與40項之可專利性與「之上」的技術特徵無涉等語，資為抗辯，求為判決駁回上訴人之訴。
四、參加人則以：（一）參加人於95年12月25日提出之申請專利範圍之更正符合專利法第64條第2項規定「不得超出申請時原說明書或圖式所揭露之範圍」，只要申請專利範圍更正部分能夠被原說明書或圖式之任一者所支持，則被視為符合前揭規定。根據申請專利範圍之解釋原則，被上訴人係參照原說明書且同時參照第4圖來准予第1項之更正，由於任何熟習此技藝之人士在檢視系爭專利第4圖，可以明顯地看出「該懸置機構之至少一可彎曲部分係位於該氣體散流盤之上」，因此第1項更正並未超出原說明書或圖式所揭露之範圍，被上訴人准予更正之審定符合前揭申請專利範圍之解釋原則而適法毫無疑義。系爭專利之說明書明確地敘述「懸置機構可彎曲」。證據3並未揭示或建議懸掛壁130可彎曲。原處分認為單由證據3之圖式無法推知一可彎曲的懸掛壁。因為證據3之說明書已經教示使薄壁146作為唯一可以彎曲的構件，因而唯一合乎邏輯的推論是懸掛壁130無法彎曲。另外，證據3之薄壁146不是位在氣體散流盤之上。又，系爭專利之說明書（包括發明名稱）係一再重複地且明確地敘述懸置機構之該部分可以彎曲。故，藉由閱讀系爭專利之說明書內文且同時參照圖式，則可以清楚地得知「懸置機構可以彎曲」且「懸置機構之可彎曲部分係位在氣體散流盤之上」。（二）懸置機構「四片」並非屬於實施必要之事項。即使第1項及第16項並未包含「四片」之要件而第28項有此要件，此3個請求項都可以被說明書支持。系爭專利之特徵是在於懸置機構，其具有一位在氣體散流盤之上的可彎曲部分。此特徵可以達到「解決氣體散流盤因為熱膨脹所造成的扭曲及破裂問題」及「在處理室壁及該氣體散流盤之間施予實質熱阻抗」功效。懸置機構為四片並非用來達到這些功效的一必要特徵，並且不需被用以與引證之習知技術區分，故不需要在所有獨立項中包含「四片」要件。其次，由力學之觀點而言，懸置機構是否由四片構成與是否為可彎曲以實施並無關聯性。無論懸置機構是否由四片構成，懸置機構均為可彎曲。系爭專利說明書中所舉之「實施例」，僅係用於藉以幫助瞭解系爭專利之實施，並非用以限定系爭專利之申請專利範圍。故，由審查基準之規定、力學觀點、或系爭專利說明書內文所提供的實施例，皆說明系爭專利第1項及第16項之懸置機構並非必須要界定為「四片」才能被認定成可據以實施。系爭專利之第16項未包含「四片」要件，但第16項具有與第1項「至少一可彎曲部分係位於該氣體散流盤之上」相當的技術特徵，而以不同的方式來界定。系爭專利之第4圖可進一步地支持此理由。第1、16項與第28項之技術內容並不相同，並且可以同時存在。由於系爭專利之各獨立項皆有界定此可彎曲特徵，系爭專利之各獨立項揭示已屬明確，第1項及第16項不需要再包含「四片」要件。由美國及韓國對應案之申請專利範圍可明顯看出，該等申請專利範圍皆並未要求懸置機構必須是四片之設計。（三）系爭專利第16項及第36項具有與第1項「至少一可彎曲部分係位於該氣體散流盤之上」相當的技術特徵，而以不同的方式來界定。由於證據3並未揭示懸置機構的可彎曲部分位於氣體散流盤「之上」，故第16項及第36項基於證據3具可專利性。由此明顯可知，此含有至少一可彎曲部分之懸置機構乃圍成一空間區域，此空間區域存在於背壁與氣體散流盤之間。如系爭專利第4圖所示，所謂懸置機構存在於「背壁與氣體散流盤之間」即指懸置機構位在氣體散流盤的頂部之上方。故，雖然第16項並未以相同文字界定「位於該氣體散流盤之上」，但第16項具有與第1項「位於該氣體散流盤之上」相當的技術特徵，第36項並未以相同文字界定「位於該氣體散流盤之上」，但第36項具有與第1項「位於該氣體散流盤之上」相當的技術特徵，而以不同的方式來界定。由以上說明，可知系爭專利第16項及第36項已經界定懸置機構之可彎曲部分在氣體散流盤「之上」。由於證據3並未揭示懸置機構的可彎曲部分係在氣體散流盤「之上」，第16項及第36項應獲准，原處分之審定適法無誤。（四）參加人在舉發補充答辯書所提之原先主張：「材料具延展性並不表示該材料的最終結構必然可彎曲」並非意指「『可彎曲部分』之範圍不包括一般金屬之延展性」，並未與參加人在專利侵權民事訴訟所提之新主張相左。被上訴人之理由不僅未與參加人於專利侵權民事訴訟所提之之新主張相左，被上訴人在原處分中進一步地又將為何採納參加人原先主張的心證形成過程具體地詳細說明，「金屬材質（鋁材質）具有延展性，其於受到外力時有可能產生形變或彎曲，此故為金屬材質（鋁材質）之固有特性，亦為眾所皆知，然其必須有特定的設計方能應用及承受氣體散流盤之熱膨脹應力，換言之，在證據3或系爭專利之系統操作條件下，並非只要是鋁材質就可彎曲（尚需視其尺寸長厚比例及承受之外力），或其彎曲程度足以緩衝該系統之熱膨脹應力」。顯然，上訴人之指稱係錯誤，且上訴人有企圖誤導之嫌。（五）系爭專利第40項以「相對位置」界定進氣歧管之側壁係設於背壁及氣體散流盤之間，與證據3或證據4明顯不同，故第40項基於證據3或證據4具可專利性。雖然第40項並未以文字界定「側壁係設於背壁及氣體散流盤之間」，但第40項以相對位置界定此特徵。證據3或證據4並未揭示系爭專利第40項，故第40項基於證據3或證據4具可專利性，原處分之審定係適法無誤等語，求為判決駁回上訴人之訴。
五、原審斟酌全辯論意旨及調查證據之結果，以：本件應審酌者厥為：⑴參加人95年12月25日所為之更正是否合法？⑵系爭專利之實施是否可能？⑶證據3、4可否證明系爭專利不具新潁性及進步性？（一）關於⑴參加人95年12月25日所為之更正是否合法部分：本件參加人就系爭專利前後共提出3次更正本，其中93年8月13日所提出之更正本，業經參加人於95年1月6日重新提出更正本時，聲明撤回該93年8月13日更正本。而95年1月6日與95年12月25日申請更正之範圍相同，則被上訴人以最近一次，即95年12月25日系爭專利申請專利範圍更正本與系爭專利91年3月1日公告本比較，依被上訴人西元2004年版專利審查基準第2篇發明專利實體審查2-6-72頁所規定，並無不合。又參加人於93年8月13日系爭專利申請專利範圍更正本雖曾主張刪除某些請求項，惟該更正本並未經被上訴人審查並公告，自無拘束被上訴人之效力；況本件應以95年12月25日系爭專利申請專利範圍更正本與系爭專利91年3月1日公告本比較，以判斷該更正本是否超出原申請時說明書或圖式所揭露之範圍，已如前述，尚不發生如上訴人所稱，系爭專利之申請專利範圍有先刪除再回復致有新增之情事。上訴人所述，容有誤解。另參加人申請將系爭專利申請專利範圍第1項獨立項原所載「該第一端與該第二端之間的至少一可彎曲部分」部分，更正為「該第一端與該第二端之間且位於該氣體散流盤之上的至少一可彎曲部分」，查前述系爭專利申請專利範圍第1項獨立項原所載部分之文義，已包含該彎曲部分可能在氣體散流盤之上方或下方，或在氣體散流盤之上、下方亦可彎曲。且關於系爭專利懸置機構及其氣體散流盤之相對位置關係，在系爭專利說明書第9頁第15行至第19行及第10頁第1行至第6行已分別記載「…進氣歧管是屬於反應室（chamber）的內部且其底部係裝置於氣體散流盤或是散流器盤之上，其旁邊為可彎曲式的側壁或懸置機構24（suspension）…」、「…，以一細且可彎的側必（應為壁之誤繕）或是懸置機構24…，此懸置機構為可彎曲的狀態」，及第2圖與第4圖已揭示懸置機構之第二端（即下端）係與氣體散流盤或是散流器盤連接，且該懸置機構彎曲部分可在氣體散流盤或是散流器盤之上。故該更正後之「彎曲部分僅在氣體散流盤之上」之部分，應屬系爭專利申請專利範圍之減縮，並未超出申請時原專利說明書或圖式所揭露之範圍，亦未實質變更申請專利範圍。被上訴人准予更正，於法尚無不合。復按現行專利法第64條第2項之規定及現行專利審查基準，只要申請專利範圍更正部分能夠被原說明書或圖式之任一者所支持，則被視為符合前揭規定。根據前述申請專利範圍之解釋原則，被上訴人並非僅根據原說明書第9頁第16至19行來准予第1項之更正「該懸置機構之至少一可彎曲部分係位於該氣體散流盤之上」，而是在參照原說明書第9頁第16至19行且同時參照第4圖來准予第1項之更正，由於任何熟習此技藝之人士在檢視系爭專利第4圖，可以明顯地看出「該懸置機構之至少一可彎曲部分係位於該氣體散流盤之上」，因此第1項更正並未超出原說明書或圖式所揭露之範圍，被上訴人准予更正之審定符合前揭申請專利範圍之解釋原則而為適法，堪予認定。（二）關於⑵系爭專利之實施是否可能部分：系爭專利之技術特徵在於懸置機構有一第一端、一第二端、及該第一端與該第二端之間且位於該氣體散流盤之上的至少一可彎曲部分（第1至39項）；該第一端連接於該背壁；該第二端連接於該氣體散流盤；以及該懸置機構圍繞著該進氣歧管中的區域，該區域延伸至該背壁與該氣體散流盤之間。至於該懸置機構與背壁或氣體流散盤是否為一體成型則並非系爭專利之特徵。又氣體散流盤可以為不同之形狀（圓形、方形、或其他形狀），故懸置機構可配合氣體散流盤形狀而做不同之設計，故其懸置機構是否為多數個部件組成且各部件間以間隙間隔則非為系爭專利之必要特徵。系爭專利之特徵是在於懸置機構，其具有一位在氣體散流盤之上的可彎曲部分。此特徵可以達到「解決氣體散流盤因為熱膨脹所造成的扭曲及破裂問題」及「在處理室壁及該氣體散流盤之間施予實質熱阻抗」功效。懸置機構為四片並非用來達到這些功效的一必要特徵，故不需要在所有獨立項中包含「四片」要件。其次，由力學之觀點而言，懸置機構是否由四片構成與是否為可彎曲以實施並無關聯性。懸置機構是否由四片構成，僅使懸置機構角落附近之力學行為有所不同，但兩者之懸置機構均為可彎曲。換言之，無論懸置機構是否由四片構成，懸置機構均為可彎曲。上訴人指稱懸置機構必需由四片構成始能據以實施，洵無足採。再者，系爭專利說明書中所舉之「實施例」，僅係用於藉以幫助瞭解系爭專利之實施，並非用以限定系爭專利之申請專利範圍。特別是系爭專利說明書於第24頁「發明說明」乙節最末段明確表示：「雖然本發明以較佳實施例說明如上，此僅係用於藉以幫助瞭解本發明之實施，並非用以限定本發明之申請專利範圍；凡熟悉此技藝者於領悟本發明之精神後，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作各種更動與潤飾及等效之變化替換，因此本發明的保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者及等同領域而定」。足見，說明書並未將懸置機構限制在四片。故系爭專利第1項及第16項之懸置機構並非必須要界定為「四片」才能被認定成可據以實施，上訴人之主張顯不足採。另依系爭專利第16項「…一懸置機構（suspension）有一第一端，一第二端，及該第一端與該第二端之間的至少一可彎曲部分；該第一端連接於該背壁；該第二端連接於該氣體散流盤；以及該懸置機構圍繞著該進氣歧管中的區域，該區域延伸至該進氣歧管背壁與該氣體散流盤之間，…」。足見系爭專利之第16項雖未包含「四片」要件，但第16項具有與第1項「至少一可彎曲部分係位於該氣體散流盤之上」相當的技術特徵，而以不同的方式來界定。是上訴人此部分所述，要不足採。（三）關於⑶證據3、4可否證明系爭專利不具新穎性及進步性部分：1.系爭專利申請專利範圍第1項獨立項與證據3或證據4比較：證據3揭示面板邊緣之兩個深槽彼此徑向偏移而於其間形成一薄壁，並藉此薄壁將噴灑頭與其支撐壁作熱隔絕，以及緩衝熱膨脹產生應力之原理，固與系爭專利利用可彎曲之懸置機構以達成熱阻隔及緩衝熱膨脹產生之應力之原理相同，惟二者之結構不同。證據4雖揭示有一鋁製之間隔器，惟該鋁間隔器係用於調整該氣體散流盤至晶圓之間距。又證據3及證據4並未界定懸置壁或鋁間隔器係為可彎曲之特徵，而金屬材質（鋁材質）具有延展性，其在受到外力時有可能產生形變或彎曲，此為金屬材質之特性，然其必須有特定之設計方能應用及承受氣體流散盤之熱膨脹應力。換言之，在系爭專利或證據3或證據4之系統操作條件下，並非鋁材質即可彎曲，尚需視其尺寸長厚比例及承受之外力而定；或其彎曲程度足以緩衝該系統之熱膨脹應力，故縱證據3之懸置壁係使用金屬或鋁材質，或證據4之間隔器為鋁材質，因證據3及證據4均未界定或說明該懸置壁或間隔器係具有可彎曲之特徵，尚難以該等構件之材質可能為金屬材質之設想，或依圖式目視，而認證據3之懸置壁或證據4之間隔器係為可彎曲。且證據3或證據4亦未指出其可利用該懸置壁或間隔器之彎曲且程度足以達到其做為緩衝熱膨脹應力，及施予實質熱阻斷之作用。是證據3或證據4之結構與系爭專利明顯不同，且未揭示系爭專利申請專利範圍第1項獨立項之技術特徵，系爭專利之專利特徵亦非熟習該項技術者運用申請前既有證據3或證據4之技術所能輕易完成者，是系爭專利申請範圍第1項獨立項具新穎性及進步性。2.系爭專利申請專利範圍第16項、第28項及第36項獨立項與證據3或證據4之比較：系爭專利申請專利範圍第16項、第28項及第36項獨立項之主要技術特徵均與系爭專利申請專利範圍第1項獨立項之技術特徵相同，故證據3或4亦不足以證明系爭專利申請專利範圍第16項、28項及第36項獨立項不具新穎性及進步性，其理由與前述系爭專利申請專利範圍第1項獨立項相同。上訴人又訴稱，被上訴人忽略系爭專利申請專利範圍第16項、28項及36項僅界定「該第一端與該第二端之間的至少一可彎曲部分」，未如其第1項尚有「且位於該氣體散流盤之上」之界定，即援引該第1項之理由，而認上述各獨立項具新穎性及進步性，顯違反逐項審查原則等語。查系爭專利申請專利範圍第16項、第28項及第36項獨立項雖未如其申請專利範圍第1項獨立項強調可彎曲部分係位於該氣體散流盤之上，然該等請求項均已具體界定該可彎曲部分位於第一端及第二端之間，故其等之主要特徵及原理與系爭專利申請專利範圍第1項獨立項完全相同。系爭專利申請專利第16項、第28項及第36項獨立項之主要技術特徵既與其申請專利範圍第1項獨立項相同，則被上訴人就該等獨立項與證據3或證據4之比較，援引系爭專利申請專利範圍第1項獨立項之審查理由，而認定該等獨立項具新穎性及進步性，尚無違反逐項審查原則，上訴人所述，核不足採。3.系爭專利申請專利範圍第40項獨立項與證據3或4比較：上訴人雖謂被上訴人認系爭專利申請專利範圍第40項已界定「側壁係設於背壁及氣體散流盤之上」，然系爭專利此項申請專利範圍並無如此界定，亦未進一步界定用何種結構或方式來施予實質熱阻斷於該反應室壁與該氣體散流盤之間等語。然查，被上訴人於原處分理由(五)5已載明「系爭專利申請專利範圍第40項…，其特徵為界定進氣岐管之側壁，且界定其『相對位置』為一端連接於背壁，一端則連接於氣體流散盤，…」字樣，是被上訴人應係認定系爭專利申請專利範圍第40項已界定系爭專利側壁之兩端係分別與背壁及氣體散流盤連接，該側壁係設於背壁與氣體散流盤之間；且依系爭專利申請專利範圍第40項所載其進氣岐管側壁具有一第一端與第二端，連接一進氣岐管背壁，以便裝置該進氣岐管側壁之該第一端；及連接一氣體散流盤至該進氣歧管側壁之該第二端，該氣體散流盤有數個出氣穿孔，所以該氣體散流盤接觸該第二端於一區間，其中該進氣岐管側壁、該進氣岐管背壁及該氣體散流盤都共同地環繞該進氣岐管區域；供應氣體經由一空孔至進氣岐管背壁，所以該氣體流進該進氣岐管區域，然後流經氣體出氣穿孔而進入該電漿室之內部；以及其中連接進氣岐管之步驟包含施予實質熱阻斷於該反應室壁之該區域與該氣體散流盤之該區域之間等語觀之，系爭專利申請專利範圍第40項確實已界定其側壁之兩端係分別與背壁及氣體散流盤連接，並界定其進氣岐管側壁、進氣岐管背壁及氣體散流盤都共同地環繞該進氣岐管區域，且其中連接進氣岐管之步驟包含施予實質熱阻斷於該反應室壁之該區域與該氣體散流般之該區域之間，是上訴人所言，容有誤解。又證據3實施例所揭示之熱阻氣門係利用二共軸深槽間之壁，該二深槽係設於面板底部邊緣，其長度受限於噴灑頭之厚度。而系爭專利申請專利範圍第40項獨立項之側壁則設於背壁及氣體散流盤之間，二者之結構特徵不同；況系爭專利較證據3可有更大之彈性來做設計以達到較大之熱阻抗。又證據4揭示之熱阻抗方法係利用具高阻抗之石英環48材質本身之特性以抵抗熱衝擊，與系爭專利之專利特徵明顯不同，且證據4未說明該鋁間隔器有作為提供熱阻斷之目的及設計基礎。是證據3或4不足證明系爭專利申請專利範圍第40項獨立項不具新穎性及進步性。另被上訴人就系爭專利申請專利範圍第40項獨立項之審查，並未援引其申請專利範圍第1項獨立之理由，故亦無上訴人所述，有違反逐項審查之情事。（四）本件縱參加人於系爭專利之韓國相對應案中之申請專利範圍已載明「側壁的數目是4個」等字樣，然因我國專利制度與韓國不盡相同，況我國專利制度係採屬地主義，就系爭專利申請專利範圍之更正，當依我國專利法之規定予以審查，並不受參加人於韓國所為行為之拘束。則參加人就系爭專利申請專利範圍之更正，即使未與其於韓國相對案所為之修正相同，亦無禁反言原則違反之情事。再者，專利舉發與專利侵權制度二者所規範之要件及目的並不同，參加人於系爭專利舉發答辯書所述，係針對專利法有關舉發規定及上訴人所提之舉發理由之內容而為之；關於專利侵權民事答辯書所載，則係針對專利侵權規定之要件與上訴人於民事起訴狀之內容所為，縱答辯內容並非一致，乃肇因於法律規定及兩造攻擊防禦方法不同，上訴人尚難執此，而謂參加人所言有違反禁反言原則，是上訴人所述，容有誤解。（五）綜上所述，被上訴人認系爭專利未違反其核准時專利法第20條第1項第1款、第2項、第71條第3款及第4款規定，所為本件舉發不成立之處分，並無不法，訴願決定予以維持，亦無不合。因將訴願決定及原處分均予維持，駁回上訴人之訴。
六、上訴人上訴意旨略以：根據本院93年度判字第291號判決、97年度判字第314號判決見解，及行政訴訟法第209條第1項第7款、同條第3項、第189條及第243條第2項第6款等規定暨其立法理由，判決必須就當事人全部之攻防主張載明得心證之理由，此等載明理由之要求及程序有「絕對遵守之必要」，法院不得選擇性地從當事人全部攻防主張中，擇其弱者作為判決理由表述說明之對象，對其較強之攻防主張則選擇視而不見，最後率以其餘攻防於結果不生影響等語，遽行結案，藉以規避該等規定。上訴人依智慧財產案件審理法第33條第1項規定，於原審程序所提出之新證據及新理由（計有2項新證據及5項新理由），然原判決對於上訴人此等攸關訴訟勝敗之攻防，不僅於判決事實欄之記載有所缺漏，於理由項下對於此等攻防更未有隻字片語之記載，原判決事實上確有極為嚴重地悖於行政訴訟法第243條第2項第6款之處。退步言之，縱認必須檢驗原判決未經審酌之證據或理由及其與原判決結果之關係，前揭未經原判決審酌之證據及理由，其中任何一項均足以影響原判決之結果。另原判決就上訴人於原審所提之新證據，應依智慧財產案件審理法第33條第1項及智慧財產案件審理細則第40條等規定實質為審斷，被上訴人依法尚應以書狀就新證據表示意見。若原審審認新證據之提出有智慧財產案件審理細則第40條第1項但書所定情事，則其應於原判決具體論斷上訴人有何等「延滯訴訟，或因重大過失，未依訴訟進行程度」而提出新證據之情形，致其無須依法審斷新證據。惟查，原判決對於上訴人所提出之新證據，不僅未依法審酌，亦未論究有無智慧財產案件審理細則第40條第1項但書所定情事，更未命被上訴人依法就新證據提出書面意見，其違法不當，至為顯然。綜前，原判決判決不備理由，其悖於智慧財產案件審理法第33條第1項及智慧財產案件審理細則第40條等規定，而違反同法第243條第2項第6款判決不備理由之當然違背法令等語。
七、參加人答辯意旨略以：本院97年度判字第76號判決、95年度判字第1811號判決、96年度裁字第2502號裁定及93年度裁字第1383號裁定，均闡釋倘原判決就不影響判決結果之主張不一一指駁，不能謂原審就此並未論斷而有判決不備理由之違法。且上訴人主張其曾於97年7月14日及97年8月25日提出2項新證據，惟該2新證據僅係為說明「一般金屬延展性即等於可彎曲」，其目的在輔助說明上訴人所呈證據3及證據4內容，該2項新證據係與證據3及證據4重複之證據，而非獨立之證據，此觀上訴人於原審將之編列為附件而非證據即明。原判決業已於審酌證據3及證據4後明確認定「一般金屬延展性並不等於可彎曲」，實際上業已審酌上訴人於原審所提包含該2項新證據之所有證據及理由。縱認原判決未詳細論述駁斥上訴人關於該2項新證據主張之理由，上訴人該等主張既不足以影響原判決結果，依行政訴訟法第258條規定自應駁回上訴人之訴等語。
八、本院查：㈠按「稱發明者，謂利用自然法則之技術思想之高度創作。」
、「凡可供產業上利用之發明，無下列情事之一者，得依本法申請取得發明專利：申請前已見於刊物或已公開使用者。．．．」、「發明係運用申請前既有之技術或知識，而為熟習該項技術者所能輕易完成時，雖無前項所列情事，仍不得依本法申請取得發明專利。」、「有下列情事之一者，專利專責機關應依職權撤銷其發明專利權，並限期追繳證書，無法追回者，應公告證書作廢。．．．說明書或圖式不載明實施必要之事項，或記載不必要之事項，使實施為不可能或困難者。說明書之記載非發明之真實方法者。」分別為系爭專利核准時專利法第19條、第20條第1項第1款、第2項、第71條第3款及第4款所明定。又系爭專利有無違反首揭專利法之情事而應撤銷其發明專利權，依法應由舉發人附具證據證明之，倘其證據不足以證明系爭專利有違首揭專利法之規定，自應為舉發不成立之處分。
㈡又專利權人對於申請專利範圍過廣，而於未變更其發明專利
之實質者，非不得向專利專責機關申請修正，如其修正未變更系爭專利之實質內容，則專利專責主管機關准予修正即屬無誤。查本件參加人因被上訴人之審查，前後就系爭專利共提出3次更正本，被上訴人以最近一次，即95年12月25日系爭專利申請專利範圍更正本與系爭專利91年3月1日公告本比較，以判斷該更正本是否超出原申請時說明書或圖式所揭露之範圍，並無不合。原審對此，亦就被上訴人准予系爭專利更正是否逾越原申請專利範圍而為實質變更詳予比對，始認定系爭專利之更正並未變更其實質，原處分准予更正尚屬合法，並記載其判斷之理由在判決書第38-41頁，核無違誤。
㈢再者，按發明專利是否未符專利之法定要件，其事實認定問
題事實審法院有衡情斟酌之權，苟已斟酌全辯論意旨及調查證據之結果，而未違背論理及經驗法則，即不得任意指為違法。再者，發明專利進步性之審查，係以先前技術為基礎，判斷專利申請是否具有進步性。專利之發明或創作與先前技術之差異比較，重在申請專利案是否容易達成，應就申請案之發明或創作為整體判斷，並非僅就申請案之發明或創作之各個構成要件，逐一與先前技術比對而已，並應就申請專利範圍之每項請求項所載發明或創作整體為判斷，審視其是否所屬技術領域中具有通常知識人或熟悉該項技術者，以先前技術所能輕易完成者，並得以一份或多份引證文件組合以為判斷；惟其組合，以熟悉該項技術者於申請時（若有主張優先權者，則指有效優先權日），所能輕易完成者為限。故而，發明專利之審查非不得將不同引證資料予以組合，再與系爭專利之申請專利範圍之技術內容為比對，資以判斷系爭專利是否具有突出之技術特徵或顯然之進步。再者，對於發明專利案件之審查，若其獨立項具有進步性者，其附屬項即當然具有進步性。而不得因其獨立項不具進步性，即對其附屬項逕予核駁而仍應依進步性之審查基準對於其附屬項進行審查。
㈣查系爭專利是否具實施可能、是否具新穎性及進步性，已經
原審就系爭專利之獨立項及附屬項與引證案（證據3、4）之技術特徵分別予以比較在案，而原審斟酌全辯論意旨及調查證據之結果，始認定系爭專利具實施可能，且亦具新穎性及進步性，復將其論斷得心證之事由分別詳予論述，記載在判決書第41-48頁，核其認事用法，與論理及經驗法則無違，並無判決不備理由、理由矛盾，或判決不適用法規、適用法規不當之違法情形。上訴意旨主張系爭專利金屬材質一般彎曲性乃一般習知技藝，實不具進步性，原審認定有誤等語，乃對原判決取捨證據及認定事實之職權行使事項予以指摘，並對原判決所不採之事由再予爭執，核屬法律上見解之歧異，要難謂為原判決有不適用法規及適用不當、調查事實違反經驗及論理法則及理由不備之違背法令情形。
㈤上訴意旨另主張依智慧財產案件審理法第33條規定，原審對
上訴人所提新證據及理由未加審酌，亦未於判決理由記載不採理由，容有審理程序、判決不備理由之違法情形等語。按「關於撤銷、廢止商標註冊或撤銷專利權之行政訴訟中，當事人於言詞辯論終結前，就同一撤銷或廢止理由提出之新證據，智慧財產法院仍應審酌之。」「智慧財產專責機關就前項新證據應提出答辯書狀，表明他造關於該證據之主張有無理由。」97年7月1日施行之智慧財產案件審理法第33條第1、2項固分別定有明文。
⒈惟按在此所稱「新證據」者，應係指當事人本於同一舉發
基礎事實，所另提之獨立新證據而言，如非屬另提之獨立新證據，而僅係原舉發證據之補強者，即未符合該條新證據之規定。查，上訴人前固於97年7月14日及97年8月25日（日期顯示為原審收文日期戳章）分別以書狀向原審陳報或提出文件資料，其中97年7月14日係以陳報狀檢附「附件1（即美國專利第0000000號說明書）、2（即美國專利第0000000號說明書）」，並未說明係「提出新證據」（見原審卷2，第9頁）；⒉至上訴人97年8月25日所提出者係言詞辯論意旨狀，其事
實及理由欄㈨載明：「查原告（即本件上訴人）於97年7月14日陳報狀已提出兩件美國專利分別如該陳報狀之附件1及附件2，謹將附件1及附件2之圖示標繪如次。查兩者之公開日期均較系爭專利為早，為系爭專利之前案證據，其中紅色部分即為懸置機構，藍色部分為氣體散流盤之孔洞，兩者之懸置機構俱為鋁質金屬，原告爰依智慧財產案件審理法第33條第1項規定，將此兩前案專利作為本件訴訟之舉發證據。依參加人或被告機關（指本件被上訴人）之主張，系爭專利之申請專利範圍所稱之『可彎曲』若包括『眾所皆知』之一般金屬延展性，則系爭專利之申請專利範圍亦包含此兩證據所揭示之習知技藝，系爭專利顯不具可專利性。」（見原審卷2，第194頁）係欲以之證明系爭專利之申請專利範圍所稱之「可彎曲」部分係包括「一般金屬之延展性」在內，乃習知技藝，未具進步性。
⒊惟觀諸原處分針對證據3及證據4欠缺可彎曲及金屬材質延
展性之特徵（見原處分卷005，第170-171頁），無法證明系爭專利不具進步性之結論；再對照上訴人所主張兩項新證據之敘述係置於其言詞辯論意旨狀「被告機關（指本件被上訴人）審認系爭專利與證據3及證據4有所區別之理由，在於系爭專利第1項、第16項、第28項及第36項申請專利範圍所稱『可彎曲部分』之範圍，不包括一般金屬之延展性；然系爭專利之專利權人卻明確表示：系爭專利申請專利範圍界定之『可彎曲』涵蓋『一般金屬之延展性，被告機關認定系爭專利為有效之關鍵理由．．．」之事實理由欄項次下，暨其主張之內容；且衡量其於97年7月14日係以陳報狀向原審提出，並以附件方式檢附未以「新證據」之方式主張；係於原審準備程序終結，已定言詞辯論期日97年9月10日前之97年8月25日，始以言詞辯論意旨狀主張等情以觀。可知上訴人主張之前開兩項新證據，其內容實際上係在輔助說明原舉發證據3、4，以補強證明力，依首揭規定與說明，即難謂符合智慧財產案件審理法第33條獨立新證據之規定。從而，原審雖未就上開補強證據（即美國專利第0000000號及第0000000號說明書）予以論述，並命被上訴人答辯固有未洽，然尚不足影響其審認主要舉發證據3、4，均未界定或說明懸置壁或間隔器可彎曲暨金屬材質未具延展性等特徵，因而據以認定證據3、4不足證明系爭專利不具新穎性及進步性，而駁回上訴人在原審之訴之結果。至上訴人其餘上訴意旨，無非就原審取捨證據、認定事實等職權之行使為指摘，並不影響原判決之結果，一併敘明。
㈥綜上所述，原判決認原處分（舉發不成立）認事用法，俱無
違誤，維持原處分及訴願決定，並對上訴人在原審之主張如何不足採之論據取捨等，均已詳為論斷，而駁回上訴人在原審之訴，並無判決理由不備、判決不適用法規等違背法令情事，其所適用之法規與該案應適用之現行法規並無違背，與解釋判例，亦無牴觸，並無所謂原判決有違背法令之情形；又證據之取捨與當事人所希冀者不同，致其事實之認定亦異於該當事人之主張者，不得謂為原判決有違背法令之情形。上訴人對於業經原判決詳予論述不採之事由再予爭執，核屬法律上見解之歧異，要難謂為原判決有違背法令之情形。
九、據上論結，本件上訴為無理由。依行政訴訟法第255條第1項、第98條第1項前段，判決如主文。
中 華 民 國 99 年 9 月 16 日
最高行政法院第三庭
審判長法官 高 啟 燦
法官 曹 瑞 卿法官 黃 合 文法官 劉 介 中法官 陳 鴻 斌以 上 正 本 證 明 與 原 本 無 異中 華 民 國 99 年 9 月 16 日
書記官 王 史 民