最 高 行 政 法 院 判 決
102年度判字第755號上 訴 人 ASML Netherlands B.V.（荷蘭商ASML荷蘭公司）代 表 人 Van Hoef, A.J.M.訴訟代理人 張哲倫 律師
陳佳菁 律師被 上訴 人 經濟部智慧財產局代 表 人 王美花上列當事人間發明專利申請專利範圍更正事件，上訴人對於中華民國102年6月5日智慧財產法院102年度行專訴字第26號行政判決，提起上訴，本院判決如下：
主 文上訴駁回。
上訴審訴訟費用由上訴人負擔。
理 由
一、緣上訴人於民國95年9月18日以「用於調節一元件製造裝置之內部空間的微影裝置及方法」向被上訴人申請發明專利，經被上訴人編為第00000000號審查，准予專利，並於公告期滿後，發給發明第I344582號專利證書（專利期間係100年7月1日至115年9月17日止，下稱系爭專利）。嗣上訴人於101年1月3日向被上訴人申請更正申請專利範圍，被上訴人以101年3月9日(101)智專三㈤01021字第10120223670號函通知上訴人申復，上訴人復於101年5月9日提出申復理由書暨申請專利範圍更正本，經被上訴人審查，以101年6月6日(101)智專三㈤01021字第10120556340號函為「所請更正第000000000號專利案之申請專利範圍，應不准更正。」之處分。上訴人不服，提起訴願，經濟部以101年12月10日經訴字第10106113760號決定駁回，向原審提起行政訴訟亦遭駁回。上訴人仍不服，乃提起本件上訴。
二、上訴人起訴主張略以：㈠、系爭專利申請專利範圍第20項更正內容並無實質擴大或變更申請專利範圍：依系爭專利申請專利範圍第20項第2至3行記載該裝置組件具有兩側（即第一側及第二側）；而申請專利範圍第20項第5至6行已記載「……經組態以至少部分地朝向該裝置組件之該第一側供應一第一氣流……」，與申請專利範圍第20項第8至9行「至少部分地朝向該裝置組件之一內部空間供應一第二氣流，另二側供應一第三氣流」即有矛盾，因該裝置具有兩側，而第一側已供應一第一氣流，何來另二側供應一第三氣流？因此，系爭專利申請專利範圍第20項之「另二側供應一第三氣流」顯為「第二側供應一第三氣流」之誤繕，此可從系爭專利申請專利範圍第20項之上下文推得「第二側」乃唯一的解釋，更正內容並無實質擴大或變更申請專利範圍。上訴人於接獲被上訴人之核准通知書後即已發現該誤繕，惟根據被上訴人之實務，非要上訴人於領證公告後始能進行更正，故上訴人僅能於領證公告後方申請更正；然依現行專利法，領證公告後之更正設有諸多限制。㈡、關於系爭說明書圖3還有第三側存在，因系爭專利說明書已明確揭示「氣體噴出器系統1、2經組態以至少部分地朝向裝置組件10之第一側13供應第一氣流g1，且至少部分地朝向裝置組件10之第二側14供應第二氣流g2（即申請專利範圍第20項之第三氣流）」。再者，申請專利範圍第20項之附屬項（第25項）中進一步界定「如請求項21之裝置，其中該裝置組件包含：一在該第一側與該第二側之間延伸的第三側，其中在使用期間，該氣體噴出器系統經組三側之前面彼此交會。」，因此，說明書並未支持「朝第三側供應氣流」之技術特徵。綜上可知，系爭專利所屬領域之技藝人士應可直接而無歧異的得知「另二側供應一第三氣流」顯為「第二側供應一第三氣流」之誤繕。否則，申請專利範圍第20項之附屬項（第25項）所定義者即與所依附之獨立項有所矛盾。㈢、「第三氣流」及「第四氣流」為系爭專利之說明書及圖式所支持：系爭專利說明書雖無「第三氣流」及「第四氣流」之字面記載，惟系爭專利圖3已清楚揭示「g1，g2，g3及g4」且說明書第16頁第8至9行亦定義「第一氣流g1」及「第二氣流g2」，是故，技藝人士皆可直接而無歧異推得圖3（如原判決附圖之圖3所示）中之g3及g4分別為「第三氣流」及「第四氣流」。又系爭專利之申請專利範圍已記載「第三氣流」及「第四氣流」，而系爭專利為被上訴人所核准之專利，顯見被上訴人在審查時亦認為系爭專利申請專利範圍所載「第三氣流」及「第四氣流」為系爭專利之說明書及圖式所支持。此外，同一組申請專利範圍須整體觀察，否則即有矛盾之虞，於系爭專利中，申請專利範圍第20項僅界定一第一側及一第二側，而一第三側係在其附屬項（申請專利範圍第25項）才界定，在解釋申請專利範圍第20項時，如將其附屬項（第25項）之特徵加入解釋，則何須界定其附屬項？因此，從該組申請專利範圍（第20至32項）之從屬關係可知在申請專利範圍第20項中確實僅有第一側及第二側。系爭專利所屬領域之技藝人士可直接得知「另二側供應一第三氣流」顯為「第二側供應一第三氣流」之誤繕。雖部分元件符號之標示不一致，然此形式上之不一致並不影響申請專利範圍第20項權利範圍之解讀。㈣、系爭專利說明書圖8與圖3為不同之實施態樣；惟就本案所爭執部分，圖3及圖8是相同的，差異僅在於第一氣體噴出器及第二氣體噴出器之出口側構造不同。系爭專利說明書關於圖8之段落全然未提及朝向裝置組件10之第三側15供應氣流。是以，縱如如被上訴人所言系爭專利說明書圖8可證明系爭專利申請發明包含許多實施態樣，然該不同實施態樣僅在於氣體噴出器之出口側構造，全然與本案所爭執部分（即系爭專利申請專利範圍第20項之「另二側供應一第三氣流」是否顯為「第二側供應一第三氣流」之誤繕)無涉，求為判決將原處分及訴願決定均撤銷，被上訴人並應作成第000000000號「用於調節一元件製造裝置之內部空間的微影裝置及方法」發明專利案之申請專利範圍第20項准予更正之處分等語。
三、被上訴人則略以：㈠、本案原公告之申請專利範圍第20項內容，確為明顯之重複記載，如刪除其重複記載之內容，則可屬誤記事項之訂正，惟本更正案使所屬技術領域中具通常知識者無法直接且無歧異得知其有「至少部分地朝向該裝置組件之該第二側供應一第三氣流」之內容，且原公告內容係指「二側供應一第三氣流」為二側，與更正後之「第二側供應一第三氣流」僅第二側為單側，更正後之申請專利範圍內容已涉及實質擴大且變更申請專利範圍。㈡、依「另二側供應一第三氣流」之技術內容清楚說明「二側供應一第三氣流」，其與「第二側供應一第三氣流」係明顯不同之技術內容，均有存在的可能性，二者技術內容與申請專利範圍第20項內容並不生矛盾。又上訴人強調之系爭專利申請專利範圍第48項與申請專利範圍第20項具相似之技術特徵，則系爭專利申請專利範圍第48項第7至8行之記載，足認於本案所請發明之實施例係將第三氣流導引向該裝置組件之一第二側。惟綜觀本案所請發明之實施例，並無實施例記載「將第三氣流導引向該裝置組件之一第二側」之內容，且依本案說明書之發明說明全文並無任何有關「第三氣流」之記載，該記載僅出現於系爭專利之申請專利範圍中，故發明說明全文亦無任何有關「第二側供應一第三氣流」之技術內容，且申請專利範圍第48項與申請專利範圍第20項並無任何依附或引述關係，自亦不能作為申請專利範圍第20項更正的依據，是由申請專利範圍或其相關內容記載，依所屬技術領域中具有通常知識者亦無法直接且無歧異得知其有「至少部分地朝向該裝置組件之該第二側供應一第三氣流」之內容，更正後之申請專利範圍內容已涉及實質擴大及變更申請專利範圍。㈢、系爭專利之裝置組件具不同態樣之外側及氣流供應方式，如原判決附圖圖3及圖8之裝置組件10即呈現第三側的實施例態樣，裝置組件10除左右二側之第一側13及第二側14外，尚有底側之第三側15，更突顯說明系爭專利之裝置組件具有多種外側及不同供應氣流之不同態樣，益能證明上訴人主張為誤繕之理由並不足採。另系爭專利有關「第三氣流」之內容，系爭專利說明書之發明說明全文並無任何有關「第三氣流」之記載，且系爭專利申請專利範圍第48項與申請專利範圍第20項並無任何依附或引述的關係，亦不能作為系爭專利申請專利範圍第20項更正的依據，是原處分並無違法等語，資為抗辯。
四、原審斟酌全辯論意旨及調查證據之結果，以：㈠、上訴人係將系爭專利公告本申請專利範圍第20項第8至9行「至少部分地朝向該裝置組件之一內部空間供應一第二氣流，另二側供應一第三氣流」更正為「至少部分地朝向該裝置組件之該第二側供應一第三氣流」，已將「組件之『二側』均供應有一第三氣流」變更為「組件之『單側』（即第二側）供應有一第三氣流」，是系爭專利申請專利範圍第20項更正前、後之文義不同，此為原申請專利範圍所無之技術特徵，所為更正非屬「誤記事項之訂正」，經上訴人訂正後之涵義已與訂正前不相同。此外，核准公告申請專利範圍第20項並未包含組件之「單側（第二側）」供應有一第三氣流之態樣，是以更正前、後之發明顯然不同，已非屬申請時原申請專利範圍第20項所揭示之原實質內容範圍內而實質變更核准公告之申請專利範圍，其更正不符更正審定時專利法第64條第1項第2款、第2項規定。㈡、系爭專利公告本申請專利範圍第25項載有「如請求項21之裝置，其中該裝置組件包含：一在該第一側與該第二側之間延伸的第三側……」，顯見其所依附之申請專利範圍第20項中，該組件除第一側與第二側外尚可包含第三側，是以申請專利範圍第20項第2至3行記載「一裝置組件，其具有一第一側及一背離該第一側之第二側」，並非一封閉式用語而限定該組件僅有二側。另上訴人引述系爭專利說明書第16頁末行至第17頁第2行之內容，並無法得知該「第二氣流g2」即為申請專利範圍第20項之「第三氣流」，依系爭專利所屬技術領域中具通常知識者，並無法由系爭專利說明書內容得知申請專利範圍第20項所請發明即為上揭說明書之內容，且系爭專利說明書或圖式均未載有「第一與第三氣流（起訴狀及原判決均誤繕為氣體）之部分在裝置組件之該第三側之前面彼此交會」之技術內容，從而，上訴人於申請更正申請專利範圍第20項，已超出申請時原說明書或圖式所揭露之範圍，且已實質變更原申請專利範圍，非屬申請專利範圍誤記事項之訂正，被上訴人以系爭專利之更正申請有違專利法第64條第1項第2款、第2項規定，而為「不准更正」之處分，於法並無不合，訴願決定予以維持亦無違誤，上訴人之主張為無理由，應予駁回。
五、上訴意旨略以：被上訴人就系爭專利申請專利範圍第20項所作之審定，不符專利法第26條第2項暨其施行細則第18條第2及3項之規定，事後又堅持其違法之審定，否准上訴人所提出之更正申請，認定上訴人之更正申請非屬「誤記事項之訂正」，被上訴人之核准審定、原處分顯有違背法令、前後矛盾之情。原審法院就此未加審酌，復未敘明其不採認之理由，有理由不備之違法等語。申言之，被上訴人核准系爭專利審定有下列違誤：⑴已公告系爭專利請求項第20項記載：「至少部分地朝向該裝置組件之一內部空間供應一第二氣流，另二側供應一第三氣流」，然系爭專利說明書並未揭露朝「另二側」供應一第三氣流，反而系爭專利說明書及圖式均已揭露朝「第二側」供應一第三氣流，故系爭專利請求項第20項此部分顯未為系爭專利說明書及圖式所支持，被上訴人逕予核准專利，顯不符專利法第26條第2項之規定。⑵同組申請專利範圍應整體觀察，在系爭專利中，請求項第20項僅界定一第一側及一第二側，而一第三側係在其附屬項（請求項第25項）才界定。在解釋請求項20時，如已將其附屬項(請求項第25項)之特徵加入解釋，則何須界定附屬項？故從該組申請專利範圍（請求項第20-32項）之從屬關係可知在請求項20中確實僅有第一側及第二側。系爭專利所屬領域之技藝人士可直接而無歧異的得知「另二側供應一第三氣流」顯為「第二側供應一第三氣流」之誤繕。否則，請求項第20項之附屬項（請求項第25項）所定義者即與其所依附之獨立項有所矛盾，其申請專利範圍記載不清楚，違反專利法施行細則第18條第2、3項之規定，原處分認不准上訴人更正，顯係違法等語。
六、本院查：
㈠、系爭專利為一用於調節一元件製造裝置之內部空間的微影裝置及方法，100年7月1日公告申請專利範圍共計52項，其中申請專利範圍第20項為獨立項，依附於申請專利範圍第20項之附屬項為申請專利範圍第21至32項。本件上訴人申請更正原申請專利範圍第20項應否准許，應以更正審定時所適用之93年7月1日施行之專利法規定為斷。
㈡、按發明專利權人就該發明之申請專利範圍申請誤記事項之訂正，不得超出申請時原說明書或圖式所揭露之範圍，亦不得實質擴大或變更原申請專利範圍，為93年7月1日施行之專利法第64條第1項第2款及第2項所明定。又所謂誤記事項，指該發明所屬技術領域中具有通常知識者依據其申請時的通常知識，不必依賴外部文件即可直接由說明書或圖式的整體內容及上下文，立即察覺有明顯錯誤的內容，且不須多加思考即知應予訂正及如何訂正以回復原意，該原意必須是說明書或圖式已明顯記載，於解讀時不致影響原來實質內容者，因此，誤記事項經訂正後之涵義，應與訂正前相同。
㈢、本件上訴人申請更正系爭專利公告本申請專利範圍第20項第8至9行「至少部分地朝向該裝置組件之一內部空間供應一第二氣流，另二側供應一第三氣流」更正為「至少部分地朝向該裝置組件之該第二側供應一第三氣流」，已將「組件之『二側』均供應有一第三氣流」變更為「組件之『單側』（即第二側）供應有一第三氣流」，是系爭專利申請專利範圍第20項更正前、後之文義不同，此為原申請專利範圍所無之技術特徵，所為更正非屬「誤記事項之訂正」，其訂正後之涵義已與訂正前不相同。此外，核准公告申請專利範圍第20項並未包含組件之「單側（第二側）」供應有一第三氣流之態樣，是以更正前、後之發明顯然不同，已非屬申請時原申請專利範圍第20項所揭示之原實質內容範圍內而實質變更核准公告之申請專利範圍，其更正不符更正審定時專利法第64條第1項第2款、第2項規定等情，已據原審詳為審酌，並敘明其得心證之理由（原判決事實及理由四㈢-㈤參照），經核其認事用法並無違經驗或論理法則，亦無判決不適用法規或適用不當之違背法令之情形。
㈣、上訴人雖指稱被上訴人就系爭專利申請專利範圍第20項所作之審定，不符合專利法第26條第2項暨其施行細則第18條第2及3項之規定，而事後又堅持其違法之審定，否准上訴人所提出之更正申請，認定上訴人之更正申請非屬「誤記事項之訂正」，被上訴人之核准審定、原處分顯有違背法令、前後矛盾之情，原審法院就此未加審酌，復未敘明其不採認之理由，有理由不備之違法等語。按所謂判決不備理由係指判決全然未記載理由，或雖載有判決理由，但其理由不明瞭或不完備，不足使人知其主文所由成立之依據而言，若已就其主文成立之主要之理由詳加論述，而就不影響結論之當事人主張，未一一論列，則與判決不備理由之情形並不相當。本件更正之申請，非屬誤記事項之訂正，且已實質變更核准公告之申請專利範圍，原處分否准系爭專利之更正，並無違誤等情已據原判決詳加論述已如前述，已足以支持其判決之成立，合先敘明。次查，上訴人所謂原審判決未敘明者，係指其所主張系爭專利說明書未揭露「朝另二側供應一第三氣流」之技術特徵，反而已揭露「朝第二側供應一第三氣流」之技術特徵，亦即申請專利範圍第20項此部分記載未為系爭專利說明書及圖式所支持，不符專利法第26條第2項可據以實施之要件，而且系爭專利申請專利範圍第25項所定義者與其所依附之獨立項（即請求項第20項）有所矛盾，故系爭專利所屬領域技藝人士可直接而無歧異得知「另二側供應一第三氣流」顯為「第二側供應一第三氣流」之誤繕等情，原審判決就此首先敘明核准公告之申請專利範圍第25項，已載有如請求項21（亦為系爭請求項20之附屬項）之裝置，其裝置組件除第一側與第二側外尚包含第三側（原判決事實及理由四㈣參照）。其次，依據上訴人在原審所引述之系爭專利說明書所載：「氣體噴出器系統1、2經組態以至少部分地朝向裝置組件10之第一側13供應第一氣流g1，且至少部分地朝向裝置組件10之第二側14供應第二氣流g2」（見第00000000號申請卷第197頁系爭專利說明書第16頁末行至第17頁第2行），其上、下文並無法得知該「第二氣流g2即為上訴人主張之「申請專利範圍第20項之第三氣流」，且系爭專利所屬技術領域中具通常知識者，並無法由系爭專利說明書內容得知：申請專利範圍第20項所載發明即為上揭所引述之說明書之內容（原判決事實及理由四㈤參照），因認上訴人上揭主張並無依據。經核本件原判決已就上訴人主張之重點，敘明不可採之理由，至於上訴人所指被上訴人核准系爭專利，違反專利法第26條第2項暨其施行細則第18條第2及3項之規定部分，縱然屬實亦屬得否經由舉發程序撤銷其專利權之問題，與本件是否符合專利更正要件係屬二事，原判決未加論述尚非理由不備，上訴論旨執此主張原判決違背法令，求予廢棄，為無理由，應予駁回。
七、據上論結，本件上訴為無理由。依智慧財產案件審理法第1條、行政訴訟法第255條第1項、第98條第1項前段，判決如
主文。中 華 民 國 102 年 12 月 12 日
最高行政法院第六庭
審判長法官 林 茂 權
法官 楊 惠 欽法官 吳 東 都法官 姜 素 娥法官 許 金 釵以 上 正 本 證 明 與 原 本 無 異中 華 民 國 102 年 12 月 12 日
書記官 王 史 民