臺北高等行政法院判決
97年度訴字第00739號原 告 英屬蓋曼群島商．周星科技股份有限公司代 表 人 甲○○Lee Y訴訟代理人 黃章典 律師
張哲倫 律師己○○ ○○專利被 告 經濟部智慧財產局代 表 人 王美花（局長）訴訟代理人 丙○○
戊○○
參 加 人 美商‧應用材料股份有限公司代 表 人 乙○○○○○○訴訟代理人 徐念懷 律師
丁○○專利代理人上列當事人間因發明專利舉發事件，原告不服經濟部中華民國97年1 月18日經訴字第09706100310 號訴願決定，提起行政訴訟，並經本院依職權命第三人美商‧應用材料股份有限公司參加訴訟，本院判決如下：
主 文原告之訴駁回。
訴訟費用由原告負擔。
事 實
一、事實概要：參加人美商應用材料股份有限公司前於民國（下同）90年1月16日以「電漿室中以可彎曲方式懸固之氣體散流組件」向被告智慧財產局申請發明專利，同時並以受理國家為美國，申請日為西元2000年1 月20日，申請案號為09/488,612號之專利案主張優先權。經被告編為第00000000號審查，准予專利，並於公告期滿後，發給發明第152996號專利證書（下稱系爭專利）。嗣原告於93年3 月22日提出專利舉發申請書，對系爭專利提起舉發，並分別在93年10月15日、94年9 月29日、95年3 月31日及96年2 月15日提出專利舉發補充理由書，主張系爭專利違反核准時專利法第20條第1 項第1 款、第
2 項、第22條第4 項、第71第3 款、第4 款及專利法施行細則第16條第2 項規定。嗣參加人於93年8 月13日提出系爭專利申請專利範圍更正本，因所援引之法律依據有誤，經被告就本件專利舉發案於94年9 月2 日進行面詢時，告知參加人應更正。參加人乃於95年1 月6 日再提出系爭專利申請專利範圍更正本，請求更正系爭專利申請專利範圍第1 項、7 項、8 項、9 項、16項、28項及第40項，經被告審查，因其中申請專利範圍第16項及第40項有不准予更正之情事，乃以95年12月7 日（95）智專三（五）01064 字第09521047520 號函通知參加人限期重新提出更正本。參加人依被告之函知，復於95年12月25日重新提出系爭專利申請專利範圍更正本（更正部分為申請專利範圍第1 項、第7 項、第8 項、第9 項、第28項及第40項）。經被告將該更正本與系爭專利91年3月1 日公告本比較，核認該等請求項之更正，或為「申請專利範圍之縮減」，或為「誤記事項之訂正」，或為「不明瞭記載之釋明」，且均未實質擴大或變更申請專利範圍，符合專利法規定，准予更正。本件專利舉發案依系爭專利95年12月25日更正本審究。案經被告審查，於96年7 月10日以（96）智專三（五）01064 字第09620383880 號專利舉發審定書為「舉發不成立」之處分（下稱原處分）。原告不服，提起訴願，經經濟部97年1 月18日經訴字第09706100310 號訴願決定駁回，原告仍不服，遂向本院提起行政訴訟。本院依職權命參加人參加訴訟。
二、兩造聲明：㈠原告聲明：
⒈訴願決定及原處分均撤銷。
⒉被告應作成舉發成立之處分。
㈡被告聲明：原告之訴駁回。
三、兩造之爭點：⑴參加人95年12月25日所為之更正是否合法？⑵系爭專利之實施是否可能？⑶證據3 、4 可否證明系爭專利不具新潁性及進步性？㈠原告主張：
⒈依系爭專利更正時之專利法規定，專利更正「不得超出申
請時原說明書或圖式所揭露之範圍」，系爭專利95年12月25日之更正申請，明顯悖於前揭規定，被告仍准予更正，並逕以非法更正後之申請專利範圍審斷本件舉發，原處分自無可維持：
⑴專利更正之申請應依申請更正時之專利法審斷，本件專
利舉發案審斷之客體「係依系爭專利95年12月25日申請專利範圍更正本審究」（訴願決定第4 頁第13行），則系爭專利更正之法律基礎，自應適用現行專利法之規定。此等涉及系爭專利更正之法律及事實基礎，被告應無爭執。
⑵依現行專利法第64條第2 項之規定：「前項更正，不得
超出申請時原說明書或圖式所揭露之範圍，且不得實質擴大或變更申請專利範圍」。故系爭專利任何更正之申請，必應有系爭專利原說明書或圖示之支持，始可謂為適法。
⑶另更正是否「超出申請時原說明書或圖式所揭露之範圍
」，依現行專利審查基準所定之標準，係以「該發明所屬技術領域中具有通常知識者自原說明書或圖示所記載事項能直接且無歧異（directly and unambigiously）得知者」為限，此等基準所定之標準，深信被告亦無爭執。
⑷查參加人於95年12月25日對系爭專利申請專利範圍第1
項之更正，將原先核准公告之內容：「該第一端與該第二端之間的至少一可彎曲部分」，改變為「該第一端與該第二端之間且位於該氣體散流盤之上的至少一可彎曲部分」。
⑸關於該更正是否超出申請時原說明書或圖式所揭露之範
圍，被告僅簡單表示：「該懸置機構及氣體散流盤之相對位置關係可由說明書第9 頁第16至19行之敘述及第4圖所支持」（參見原處分第3 頁第16行）。然原處分並未說明系爭專利說明書第9 頁第16至19行或第4 圖如何能支持該懸置機構之至少一可彎曲部分係位於該氣體散流盤之上。
⑹查系爭專利說明書第9 頁第16至19行之內容係：「進氣
歧管是屬於反應室（chamber ）的內部且其底部係裝置於氣體散流盤或是散流器盤之上，其旁邊為可彎曲式的側壁或懸置機構24（suspension），頂部接連外壁或者背壁」（系爭專利90年1 月16日說明書公告本第9 頁，見本院卷㈠第68至133 頁）。該內容係表示「進氣歧管」（而非可彎曲式的側壁或懸置機構）係置於「氣體散流盤或是散流器盤之上」，完全未論及可彎曲之側壁或懸置機構之相對位置，故系爭專利原說明書第9 頁之內容，完全無法支持系爭專利第1 項所為之更正內容：即「該懸置機構之至少一可彎曲部分係位於該氣體散流盤之上」。顯見原處分核准系爭專利申請專利範圍第1 項更正之審定，完全違背現行專利法第64條第2 項之規定。
⑺事實上，被告亦察覺利用系爭專利說明書第9 頁第16至
19行之內容用來支持申請專利範圍第1 項所主張之「進氣歧管」，將造成兩組氣體散流盤及兩組懸置機構之錯誤解讀，而無法實施。然其竟以：「系爭案說明書第9頁第15至20行之文字尚不致於使熟悉此項技術之人士混淆」為由，而認為爭專利說明書第9 頁第16至19行之錯誤描述可被接受（原處分第8 頁末行）。
⑻惟查，更正是否「超出申請時原說明書或圖式所揭露之
範圍」，專利審查基準所定之標準係以：「直接且無歧異（directly and unambigiously）得知」為斷，其係正面判斷且要求甚高之標準，被告明知系爭專利說明書第9 頁第16至19行之內容不僅不足以支持系爭專利更正之申請，且為錯誤的描述，卻反以該錯誤的內容作為核准更正之理由，則原處分審認更正之申請合於專利法第64條第2 項規定之見解，顯悖於基準所示之規定。
⑼被告更認為系爭專利申請專利範圍第1 項之前述更正（
按：即「該第一端與該第二端之間且位於該氣體散流盤之上的至少一可彎曲部分」）可由系爭專利之第4 圖所支持（原處分第3 頁第17行）。惟查，系爭專利之第4圖雖畫出懸置機構位於氣體散流盤之上的部份其兩旁有空隙，然而被告於評論證據3 （西元1999年3 月16日公告之美國第5,882,411 號專利案，下同）時，明確表明：「無法據以想像、或由圖形目視、或認為該懸置壁13
0 旁有空隙而推論該懸置壁係為可彎曲」（原處分第5至6 頁理由㈤-1- ⑵），且被告於評論證據4 （西元1997年7 月15日公告之美國第5,647,911 號專利案，下同）時亦表明：「無法據以想像、或由圖形目視而推論該間隔器44為可彎曲」（原處分第6 頁理由㈤-1- ⑶）；則既然被告認為無法由圖形目視而推論圖中之結構為可彎曲，卻不具任何說明或理由，就逕行認定系爭專利之第4 圖可支持位於氣體散流盤之上的懸置機構為可彎曲。顯見被告之見解前後矛盾，而其准許更正之審定顯無足採。
⒉系爭專利違反系爭專利核准時專利法第71條第3 款規定：
說明書「不載明實施必要之事項，使實施為不可能或困難」之規定，應構成撤銷發明之事由：
⑴系爭專利於90年1 月16日提出申請，於91年3 月1 日核
准公告，故其核准時之專利法為90年10月24日公布之版本，此部分事實兩造並無爭執。
⑵系爭專利核准時專利法第71條第3 款規定：「有下列情
事之一者，專利專責機關應依職權撤銷其發明專利權，並限期追繳證書，無法追回者，應公告作廢：…三、說明書或圖式不載明實施必要之事項，或記載不必要之事項，使實施為不可能或困難」。另同法第22條第3 項規定：說明書「應載明申請專利範圍」，足徵系爭專利核准時之專利法所稱之「說明書」，包括「申請專利範圍」在內（90年10月24日公布之專利法，見本院卷㈠第13
4 至147頁）。⑶系爭專利第1 、第16及第28等3 個獨立項關於「懸置機構」之定義如次：
①第1 項：「一懸置機構有一第一端、一第二端、及該
第一端與該第二端之間且位於該氣體散流盤之上的至少一可彎曲部分」（系爭專利95年12月25日申請專利範圍更正本，見專利補充、更正申請書第25頁，本院卷㈠第148 至164 頁）。
②第16項：「一懸置機構有一第一端、一第二端、及該
第一端與該第二端之間的至少一可彎曲部分」（系爭專利95年12月25日申請專利範圍更正本，見專利補充、更正申請書第29頁）。
③第28項：「一懸置機構具有四片側壁，其中各側壁有
一第一端、一第二端以及一可彎曲方形片延伸於該第一端與該第二端之間」（系爭專利95年12月25日申請專利範圍更正本第25頁）。
⑷前揭申請專利範圍中，第1 項與第16項之差別在於：第
1 項有「位於該氣體散流盤之上」的要件，第16項則無。另第1 項及第16項兩者，與第28項之差別在於：第28項之懸置機構界定為「四片」，第1 項及第16項則無此限制。
⑸系爭專利之發明目的在於其：「包含一穿透之氣體散流
盤，並以一可彎曲式側壁懸吊住該側壁中，且此側壁中可以容忍氣體散流盤的熱擴散或熱收縮，本發明之優點在於避免因為熱擴散與熱收縮而導致氣體散流盤的斷裂與扭曲」（系爭專利90年1 月16日說明書公告本第3 至
4 頁，本院卷㈠第68至133頁）。⑹以上之申請專利範圍與發明目的得以圖示說明如本院卷㈠第9 頁。
⑺依上圖所示，有孔洞的部分即為「氣體散流盤」（系爭
專利說明書又稱為「散流器」），由於：「在電漿化學蒸汽沈積製程中，用於氣體散流盤的溫度至少為200 ℃，而較佳為250 至325 ℃，最佳為300 ℃」（見發明專利說明書第23頁第2 行，本院卷㈠第68至133 頁），因此氣體散流盤自然會因熱膨脹而產生體積擴大的現象，而導致扭曲或斷裂。
⑻依系爭專利說明書所示：「具體實施例中方形的氣體散
流盤20，以四件或四邊之既薄又可彎的金屬板片，形成可彎曲側壁或懸置機構24，其中每一片金屬可代表氣體散流盤的一邊」（見發明專利說明書第10頁倒數第9 行）；「因為散流器20之熱導致機械擴張及收縮會在側壁角區域生成過量的應力，所以依然不希望有一完整而不中斷的設計」（見發明專利說明書第17頁第2 行）。
⑼根據前揭圖示及系爭專利說明書之內容，系爭專利說明
書已明確排除側壁係「完整而不中斷的設計」，是以側壁或懸置機構必須定義為「四片」，方始符合說明書所描述之技術特徵。若懸置機構係「完整而不中斷」之設計，則氣體散流盤在高達300 ℃的工作溫度下，將產生如前揭說明書所描述「角區域應力過大」之問題。故，系爭專利之美國對應案及韓國對應案，一律將申請專利範圍中之懸置機構，定義為「四片」，此等韓國及美國對應案之技術特徵，應為被告及參加人所不爭執。
⑽綜前，系爭專利除第28項之文字將懸置機構定義為「四
片」之外，申請專利範圍第1 項及第16項皆因欠缺「四片」之定義，而未符合說明書所揭示之技術特徵。鑑於「申請專利範圍」乃屬核准時專利法所稱「說明書」，而系爭專利第1 項及第16項申請專利範圍因欠缺記載「四片」之要件，而涵蓋其說明書所稱「不希望」之設計而致無可實施或實施顯有困難，則系爭專利申請專利範圍第1 項及第16項顯該當其核准時專利法第71條第3 款所稱：「不載明實施必要之事項（按：即「四片」），使實施為不可能或困難」，而顯應構成撤銷專利之事由。
⑾同理，系爭專利第36項之「側壁」亦欠缺記載「四片」
之要件，而違反核准時專利法第71條第3 款規定，顯應構成撤銷專利之事由。
⒊原處分認定系爭專利與證據3 之區別，在於系爭專利懸置
機構之可彎曲部分在氣體散流盤「之上」，證據3 則在「之下」，原處分故而認定系爭專利具可專利性，惟系爭專利第16項及第36項並無「之上」或「之下」之要件，原處分之認定與第16項及第36項之文義顯有矛盾，依原處分之見解，第16項及第36項顯屬無效：
⑴系爭專利第4 圖及局部放大圖，見本院卷㈠第18頁。
⑵證據3 之圖示及局部放大圖，見本院卷㈠第18頁。⑶系爭專利之懸置機構為前揭標示之紅色長條部分，證據
3 之懸置機構亦為前揭標示之紅色長條部分。查證據3同屬參加人自己之前案專利，系爭專利與證據3 之說明書皆將前揭紅色部分所標示之懸置機構定義為鋁質金屬，具有得彎曲之性質，故原告遂於原處分階段主張證據
3 已揭露系爭專利所稱懸置機構可彎曲之技術特徵。⑷惟原處分竟稱：「證據3 兩個深槽140 及142 （按：即
前揭圖示紅色圈所標示之兩深槽）係設於面板（按：即氣體散流盤）底部邊緣，其長度受限於噴灑頭（按：即氣體散流盤）之厚度。系爭專利懸置機構係設於背壁及氣體散流盤之上，結構明顯不同，其可有更大的彈性來做設計以緩衝較大之熱膨脹應力」（原處分第5 頁第⑵點）。
⑸依原處分認定之邏輯，系爭專利與證據3 之技術差異在
於：系爭專利之可彎曲部分在氣體散流盤之之上；證據
3 之可彎曲部分在於氣體散流盤之下。姑不論原處分此等認定是否適法適當，縱依原處分此等邏輯，系爭專利第1 項之要件或可符合原處分此等認定，因為系爭專利第1 項經專利權人更正加入「之上」兩字，致系爭專利更正後之第1 項之要件為：「位於該氣體散流盤之上的至少一可彎曲部分」。然系爭專利第16項及第36項明顯並無「之上」的要件，故依原處分前揭認定之邏輯，系爭專利第16項及第36項將無從與證據3 之技術內容區別，而致第16項及第36項之技術為證據3 所揭露，第16項及第36項當無任何可專利性可言。
⑹原處分一方面認定系爭專利與證據3 之區別，在於可彎
曲部分係位於氣體散流盤「之上」或「之下」之差異；一方面復認定系爭專利申請專利範圍第16項及第36項具可專利性，原處分此等認定不僅自相矛盾；且此等以第
1 項具可專利性，即逕認第16項及第36項亦具可專利性之認定，亦違反「逐項審查」原則。
⒋被告審認系爭專利與證據3 及證據4 有所區別之理由，在
於系爭專利第1 項、第16項、第28項及第36項申請專利範圍所稱「可彎曲部分」之範圍，不包括一般金屬之延展性；然系爭專利之專利權人卻明確表示：系爭專利申請專利範圍界定之「可彎曲」涵蓋「一般金屬之延展性」，被告認定系爭專利為有效之關鍵理由，竟與參加人自承之解釋相左，則原處分之認定，顯乏憑據：
⑴被告於原處分第5 頁第㈤-1- ⑵節比較舉發證據3 與系
爭專利，並認為：「金屬材質（鋁材質）具有延展性，其於受到外力時有可能產生形變或彎曲，此故為金屬材質（鋁材質）之固有特性，亦為眾所皆知，然其必須有特定的設計方能應用及承受氣體散流盤之熱膨脹應力，換言之，在證據3 或系爭專利之系統操作條件下，並非只要是鋁材質就可彎曲（尚需視其尺寸長厚比例及承受之外力），或其彎曲程度足以緩衝該系統之熱膨脹應力」，亦即被告認為「一般金屬之延展性」並非系爭專利申請專利範圍第1 項界定之「可彎曲」。原處分第6 頁第㈤-1- ⑶節比較舉發證據四與系爭專利時，亦採相同之見解。
⑵被告是採納參加人於95年7 月17日提出之舉發補充答辯
書的理由，於該舉發補充答辯書第5 頁第10至11行中，參加人特別強調：「材料具延展性並不表示該材料的最終結構必然可彎曲」。
⑶然而，參加人於96年11月20日針對專利侵權民事訴訟所
提出之民事準備書㈦狀（見本院卷㈠第165 至173 頁），完全推翻其原先之主張，於該民事準備書㈦狀第6 頁第18至20行，參加人以黑體字強調：「原告（按：即參加人）於舉發答辯狀之陳述及智慧局舉發審定書意見中，均未將『一般金屬之延展性』排除於『可彎曲』之適用範圍外…」；亦即，參加人完全推翻其原先之主張，而認為系爭專利申請專利範圍第1 項、第16項、第28項及第36項之「可彎曲」涵蓋「一般金屬之延展性」的情況。
⑷查參加人新提出之主張，不僅與與被告據以作成原處分
之理由相左，更顯示系爭專利申請專利範圍第1 項、第16項、第28項及第36項明確涵蓋證據3 或證據4 所揭示之習知技術。系爭專利其他申請專利範圍，亦包含此相同特徵，顯均不具可專利性。
⒌被告審認系爭專利第40項與證據3 及證據4 有所區別之理
由，在於「系爭專利側壁係設於背壁及氣體散流盤之上，結構明顯不同」（原處分第7 頁第㈤-5節），然而，系爭專利申請專利範圍第40項從未界定「側壁係設於背壁及氣體散流盤之上」，原處分之認定，顯乏憑據：
原處分第7 頁第㈤-5節比較舉發證據3 、證據4 與系爭專利，並認為：「經查證據3 所揭實施例之『熱阻氣門（Thermal Choke ）』係利用兩共軸溝槽140 、142 間之壁14
6 ，兩個深槽140 及142 係設於面板底部邊緣，其長度受限於噴灑頭之厚度。而系爭專利側壁係設於背壁及氣體散流盤之上，結構明顯不同…證據4 揭示之熱阻抗方法係利用具高阻抗之石英環48材質本身之特性來抵抗熱衝擊，與本案特徵明顯不同」，亦即被告認為「側壁係設於背壁及氣體散流盤之上」為系爭專利申請專利範圍第40項有別於證據3 及證據4 之技術特徵。惟，系爭專利第40項並未界定「側壁係設於背壁及氣體散流盤之上」，而僅界定「其中連接進氣岐管之步驟更包含施予實質熱阻斷於該反應室壁的該區域與該氣體散流盤的該區域之間」。被告既已肯認證據3 揭示「熱阻氣門（Thermal Choke ）」及證據4揭示熱阻抗方法，二者均能施予實質熱阻斷，則系爭專利第40項明確涵蓋證據3 或證據4 所揭示之習知技術，顯不具可專利性。
⒍系爭專利之韓國對應案於申請程序中尚未經韓國專利局核
准前，參加人為爭取系爭專利對應案之加速審查，乃於西元2004年3 月15日呈送一份「加速審查申請狀」，並檢附一份實施該專利之產品設計圖（該申請狀及該申請狀證據
2 之設計圖，見本院卷㈡第98至114 頁），參加人自承該證據2 之設計圖即為實施該專利案之設計，該設計圖清楚顯示方形散流盤懸置機構的4 個角落，明確有截開之截角，屬於「不完整而中斷」（切割為「四片」）之設計，而非屬「完整而不中斷」之設計，完全與系爭專利說明書之描述相符，益證原告之主張信而有徵。
⒎原告謹再就參加人前揭2004年3 月15日「加速審查申請狀
」及前揭實施專利之設計圖，提出附有英、韓文翻譯對照、並經韓國公證人公證及我國駐韓外交單位認證之公證書（見本院卷㈡第115 至140 頁），以證原告之主張合於事實。該公證書第2 頁第7 行及第10頁第6 行，均明確證明參加人已自承前揭設計圖係實施其韓國對應案之圖示。
⒏另參加人代理人於97年7 月1 日臺灣新竹地方法院（下稱
新竹地院）庭訊時，稱：「側壁的區域不一定會如被告（按：即本件原告）所言因為完整而不中斷設計導致破裂，縱使會破裂，但因為可彎曲側壁已足以吸納氣體散流盤之應力，所以還是達到本發明目的，可達到避免氣體散流盤的斷裂扭曲」（97年7 月1 日新竹地院審判筆錄，見本院卷㈡第141 至146 頁）。惟查，側壁（即「懸置機構」）若破裂，則電漿室內的氣體會由破裂處四處散逸，根本無從藉由噴灑頭（即「氣體散流盤」）達成沈積於液晶面板之目的，顯見系爭專利顯不具產業可利用性。此亦足徵因為系爭專利之申請專利範圍過大而不明確，參加人得任意主張其申請專利範圍之解釋，甚至超出產業可利用性之範圍，原處分未及於此，實有應撤銷而重為認定之必要。
㈡被告主張：
⒈起訴理由第1 點主要係針對被告准予更正系爭專利申請專
利範圍第1 項提出爭執。惟申請專利範圍第1 項中原為「該第一端與該第二端之間的至少一可彎曲部分」更正為「該第一端與該第二端之間且位於該氣體流散盤之上的至少一可彎曲部分」，經查原敘述「該第一端與該第二端之間的至少一可彎曲部分」之文義實際包括彎曲部分可能在「氣體散流盤旁邊那一段」或「氣體散流盤之上的部分」或「前兩者之組合」（其中氣體散流盤旁邊那一段《或稱下方》亦可彎曲可參考參加人94年7 月15日之舉發案補充答辯書第9 頁第24至27行中）。該更正將彎曲部分的位置限縮為「氣體散流盤之上的部分」，符合「申請專利範圍之減縮」之規定，故被告准予更正並無違誤。有關原告對系爭專利說明書第9 頁第15至20行之文字與申請專利範圍第
1 項「進氣歧管」之界定將造成兩組氣體散流盤及兩組懸置機構之解讀一節，於原處分理由第㈦點已作完整說明。至於該懸置機構及氣體散流盤之相對位置關係，即該可彎曲的部分位於第一端與該第二端之間，而參加人將其縮限於「氣體散流盤之上的部分」，如此之空間相對之結構關係，「該技術領域中具通常知識者」由說明書第9 頁第16至19行之敘述及第4 圖之相對位置關係亦可瞭解而不致混淆，第4 圖亦足以說明該空間相對關係。至於懸置機構可彎曲乃是參加人發明專利說明書之技術說明及特徵主張，兩者應無混淆。起訴理由並不成立。
⒉起訴理由第2 點指稱系爭專利違反系爭專利核准時專利法
第71條第3 款規定：說明書「不載明實施必要之事項，使實施為不可能或困難」一節。查系爭專利之技術特徵在於懸置機構有一第一端、一第二端、及該第一端與該第二端之間且位於該氣體散流盤之上的至少一可彎曲部分（第1至39項）；該第一端連接於該背壁；該第二端連接於該氣體散流盤；以及該懸置機構圍繞著該進氣歧管中的區域，該區域延伸至該背壁與該氣體散流盤之間。至於該懸置機構與背壁或氣體流散盤是否為一體成型則並非系爭專利之特徵。又氣體散流盤可以為不同之形狀（圓形、方形、或其他形狀），故懸置機構可配合氣體散流盤形狀而做不同之設計，故其懸置機構是否為多數個部件組成且各部件間以間隙間隔則非為系爭專利之必要特徵，例如證據3 之懸掛壁130 、薄璧146 等即成圓柱形。起訴理由並不成立。
⒊起訴理由第3 點指稱「原處分認定系爭專利與證據3 之區
別，在於系爭專利懸置機構之可彎曲部分…，第16項及第36項顯屬無效」，並稱原處分違反「逐項審查」原則，起訴理由第4 點爭執系爭專利與證據3 及證據4 之比較，及起訴理由第5 點有關系爭專利申請專利範圍第40項與證據
3 及證據4 之比較等節，茲綜合答辯如下：對於系爭專利申請專利範圍各項與證據3 及證據4 之比較，原處分理由第㈤項已經逐項做技術之比對。以系爭專利申請專利範圍第1 項為說明，證據3 為美國專利US000000
0 ，其揭示形成於面板100 之邊緣之兩個深槽140 及142彼此徑向偏移而於其間形成一薄壁146 ，藉此薄壁以將噴灑頭102 與其支撐壁作熱隔絕以及緩衝熱膨脹產生之應力，其做為熱隔絕以及緩衝熱膨脹產生之應力之原理固然與系爭專利利用可彎曲之懸置機構24以達成熱阻隔及緩衝熱膨脹產生之應力之原理相同，但兩者之結構並不相同。證據3 兩個深槽140 及142 係設於面板底部邊緣，其長度受限於噴灑頭之厚度，而系爭專利懸置機構係設於背壁及氣體散流盤之上，結構明顯不同，其可有更大的彈性來做設計以緩衝較大之熱膨脹應力。此外，原告指稱證據3 之圓柱形懸掛壁130 係可彎曲的一節，惟查證據3 並未有任何說明及界定指出該圓柱形懸掛壁130 係為可彎曲之特徵，且金屬材質（鋁材質）具有延展性，其於受到外力時有可能產生形變或彎曲，此故為金屬材質（鋁材質）之固有特性，亦為眾所皆知，然其必須有特定的設計方能應用及承受氣體散流盤之熱膨脹應力，換言之，在證據3 或系爭專利之系統操作條件下，並非只要是鋁材質就可彎曲（尚需視其尺寸長厚比例及承受之外力），或其彎曲程度足以緩衝該系統之熱膨脹應力，故證據3 縱然使用金屬或鋁材質為懸置壁130 ，但全文並未有任何說明及界定指出該懸置壁130 係可彎曲之特徵，即無法據以設想、或由圖形目視、或認為該懸置壁130 旁有空隙而推論該懸置壁係為可彎曲，故據證據3 結構與系爭專利明顯不同，且未揭示系爭專利申請專利範圍第1 項之技術特徵，亦非熟悉該項技術者所能輕易完成，故證據3 尚難證明系爭專利申請專利範圍第1 項不具新穎性及不具進步性，而違反專利法第20條第1 項第1 款及第2 項之規定。另，證據4 為美國專利US0000000 ，雖揭示有一鋁製的間隔器44，惟該鋁間隔器係用於調整該氣體散流盤至晶圓之間距，證據4 並未有任何說明及界定指出該鋁製的間隔器44係為可彎曲，或做為緩衝熱膨脹之特徵。理由同證據3 ，金屬材質（鋁材質）具有延展性，其於受到外力時有可能產生形變或彎曲，此為金屬材質（鋁材質）之固有特性，亦為眾所皆知，然其必須有特定的設計方能應用及承受氣體散流盤之熱膨脹應力。換言之，在證據4 或系爭專利之系統操作條件下，並非只要是鋁材質就可彎曲（尚需視其尺寸長厚比例及承受之外力），或其彎曲程度足以緩衝該系統之熱膨脹應力，故證據4 縱然使用鋁材質為間隔器44，但全文並未有任何說明及界定指出該間隔器44係可彎曲之特徵，即無法據以設想或由圖形目視而推論該間隔器44為可彎曲，故證據4 特徵與系爭專利明顯不同，未揭示系爭專利案申請專利範圍第1 項之技術特徵，亦非熟悉該項技術者所能輕易完成，故據證據4 尚難證明系爭專利申請專利範圍第1 項不具新穎性及不具進步性，而違反專利法第20條第1 項第1 款及第2 項之規定。此外，系爭專利申請專利範圍第1 、16、
28、36、40項分屬系爭專利發明之不同態樣，其細部結構當然有差異（否則又何必重複申請），但其主要技術特徵則為相同，經被告逐項就其結構及技術特徵仔細比對並歸納，其中申請專利範圍第1 、16、28、36項其主要技術特徵皆在於懸置機構有一第一端、一第二端、及該第一端與該第二端之間且位於該氣體散流盤之上的至少一可彎曲部分；該第一端連接於該背壁；該第二端連接於該氣體散流盤；以及該懸置機構圍繞著該進氣歧管中的區域，該區域延伸至該背壁與該氣體散流盤之間，並利用該懸置機構在第一端及第二端之間具有可彎曲之部分藉以達到緩衝熱阻抗及熱膨脹應力之目的，故第1 、16、28、36各項主要特徵皆為相同。至於起訴理由強調第16、28、36項並未有如第1 項強調可彎曲部分「位於該氣體散流盤之上」，惟第
16、28、36項皆已具體界定該可彎曲部分位於第一端及第二端之間，其主要特徵及原理完全相同。此外，該懸置機構與背壁或氣體散流盤是否為一體成型則並非系爭專利之必要特徵。又氣體散流盤可以為不同之形狀（圓形、方形、或其他形狀），故懸置機構可配合氣體散流盤形狀而做不同之設計，故其懸置機構是否為多數個部件組成且各部件間以間隙間隔皆非為系爭專利可專利性之必要特徵，例如證據3 之懸掛壁130 、薄璧146 等即成圓柱形。原處分針對各獨立項指出其主要特徵，並逐一與舉發證據比對，比對結果指出證據3 至5 （證據5 為西元1996年12月10日公告之美國第5,582,866 號專利案）尚難證明系爭專利申請專利範圍各獨立項不具新穎性及不具進步性，而違反專利法第20條第1 項第1 款及第2 項之規定，其中由於第16、28、36項之主要特徵與第1 項相同，故理由援引第1 項並無不妥，原處分並無違誤。原告謂被告舉發審定違反「逐項審查原則」殊為無理。另外，申請專利範圍第40項所請標的為「一種當氣體集中進入在電漿室中用於提升一氣體散流盤之溫度的方法」，其特徵為界定進氣歧管之側壁，且界定其「相對位置」為一端連接於背壁，一端則連接於氣體散流盤（可參見申請專利範圍第40項），且包含施予實質熱阻斷於該反應室壁的該區域與該氣體散流盤的該區域之間。經查證據3 所揭示實施例之「熱阻氣門（THER
MAL CHOKE ）」係利用兩共軸溝槽140 、142 間之壁146，兩個深槽140 及142 係設於面板底部邊緣，其長度受限於噴灑頭之厚度。系爭專利側壁係設於背壁及氣體散流盤之間，結構明顯不同，其可有更大的彈性來做設計以達到較大的熱阻抗。證據4 揭示之熱阻抗方法係利用具高阻抗之石英環48材質本身之特性來抵抗熱衝擊，與系爭專利特徵明顯不同，至於鋁間隔器44於證據4 中並未揭示有做為提供熱阻斷之目的及設計基礎。證據5 則未揭示如系爭專利第40項所揭示之前述特徵。因此，證據3 至5 尚難證明系爭專利申請專利範圍第40項不具新穎性及不具進步性，而有違反專利法第20條第1 項第1 款及第2 項之規定。
⒋原告訴稱「⑴參加人（即被舉發人）主張未將『一般金屬
之延展性』排除於『可彎曲』之適用範圍外，故被告認定系爭專利與證據3 、證據4 區別之基礎不存在。⑵參加人主張『懸置機構的可彎曲部分並無任何長度之限定』，因此涵蓋長度不足以容納熱膨脹之習知懸置機構，顯不具可專利性。⑶原處分及參加人主張：『第1 項及第16項2 個獨立項中，並無限制懸置機構必須有間隙分隔』，違背其說明書揭示：方形散流盤『依然不希望有一完整而不中斷的設計』，故不可實施。⑷16項、第36項及第40項欠缺『之上』之要件，無從與證據3 區別；原處分就第16項及第
36 項 之認定違反逐項原則。⑸1 項有關『之上』之更正，未有說明書支持」。被告補充說明如下：前述原告之理由1 似已模糊系爭專利之技術特徵，蓋系爭專利之技術特徵在於懸置機構的可彎曲性與懸置機構的位置，至於金屬之延展性一節，誠如被告舉發不成立審定理由所指「金屬材質（鋁材質）具有延展性，其於受到外力時有可能產生形變或彎曲，此故為金屬材質（鋁材質）之固有特性，亦為眾所皆知，然其必須有特定的設計方能應用及承受氣體流散盤之熱膨脹應力，換言之在證據3 或系爭專利之系統下操作條件下，並非只要是鋁材質就可彎曲或其彎曲程度足以緩衝該系統之熱膨脹應力。故證據3 縱然使用金屬或鋁材質為懸置壁130 ，但全文並未有任何說明及界定指出該懸置壁130 係可彎曲之特徵，即無法據以設想、或由圖形目視、或認為該懸置壁130 旁有空隙而推論該懸置壁係為可彎曲，故證據3 結構與系爭專利明顯不同，且未揭示系爭專利申請專利範圍第1 項之技術特徵，亦非熟悉該項技術者所能輕易完成，故證據3 尚難證明系爭專利申請專利範圍第1 項不具新穎性及不具進步性，而違反專利法第20條第1 項第1 款及第2 項之規定。證據4 理由同證據3，亦尚難證明系爭專利申請專利範圍第1 項不具新穎性及不具進步性，而違反專利法第20條第1 項第1 款及第2 項之規定。」，故原告稱被告認定系爭專利與證據3 、證據
4 區別之基礎不存在，其理由應不成立。原告之理由2 亦已模糊系爭專利之技術特徵，系爭專利之技術特徵在於懸置機構的可彎曲性與懸置機構的位置，至於懸置機構的可彎曲部分的長度，並非其特徵，亦無限定之必要，原告以極端之例舉稱系爭專利不具可專利性，實欠公允，其理由應不成立。原告之理由3 同樣亦已模糊系爭專利之技術特徵，故同前述理由，原告之理由3 亦應不成立。原告之理由4 稱第16項、第36項及第40項欠缺「之上」之要件，無從與證據3 區別；另稱原處分就第16項及第36項之認定違反逐項原則。同樣，原告之理由4 亦模糊系爭專利之技術特徵，系爭專利之技術特徵在於懸置機構的可彎曲性與懸置機構的位置，申請專利範圍第1 項雖經更正「之上」之要件，惟被告舉發不成立之審定理由，仍依系爭專利技術特徵「懸置機構的可彎曲性與懸置機構的位置」與證據3比對，並無原告所稱「第16項、第36項及第40項欠缺之『上之』要件，無從與證據3 區別」之情節，亦無違反逐項原則，故原告之理由4 應不成立。至於原告理由5 所稱第
1 項有關「之上」之更正，未有說明書支持一節，於被告舉發不成立之理由中已明白指出，並無原告所稱之情事，故原告之理由5 應不成立。
⒌原告另質疑系爭專利之部分申請專利範圍沒有將懸置機構
（或側壁）界定成「多片」或「四片」，系爭專利是否可以實施一節。系爭專利之技術特徵誠如前述理由所指在於「懸置機構的可彎曲性與懸置機構的位置」，懸置機構是否由多片( 或四片) 構成並非用以實施系爭專利之必要技術特徵，本局根據系爭專利說明書整體的揭示內容而經審查認為系爭專利可以實施，並且認為應該給予合理範圍的保護，系爭專利之申請專利範圍已將懸置機構之可彎曲性與位置界定明確，故申請專利範圍並沒有過廣或不當。原告以極端之例舉稱系爭專利不可實施，實欠公允。事實上，有關系爭專利懸置機構由一片構成，由參加人（即被舉發人）之說明「即使懸置機構由一片構成，系爭專利仍可以實施。即使一片無法達到與多片有相同程度的容納熱膨脹的效果，一片仍能容納熱膨脹。詳細解釋如下，在系爭專利『完整而不中斷』的設計中，儘管先假設側壁的角區域無法彎曲及擴張，由於除了角區域以外的其他區域依然可以彎曲（這是因為側壁的任何區域都具有可彎曲性），故側壁可以吸收氣體散流盤的大部分膨脹。因此，相較於傳統的剛性設計而言（傳統的剛性設計係使側壁的任何區域都無法彎曲），即使系爭專利之懸置機構由一片構成，其仍可以顯著地減少氣體散流盤的破裂或扭曲。由以上說明，可知在『完整而不中斷』的設計中，側壁的角區域並非一定會破裂，此『完整而不中斷』的設計與『多片』的設計僅具有不同程度的容納熱膨脹的效果，但並非完全無法達到容納熱膨脹的效果，『完整而不中斷』的設計仍有相當程度的容納熱膨脹的效果，原告所繪示的破裂情形僅是『完整而不中斷』」的設計在操作極限的情況，但「完整而不中斷」的設計在破裂前具有一定程度的容納熱膨脹的效果。如舊專利審查基準第1-2-21頁所述：「在技術發展空間有限之領域中，如在技術上有微小的改進，得視為具有顯然的進步」，又「發明能解決人類長久未能解決之技術問題者，得視為具有顯然的進步」，即可知即使懸置機構由一片構成，系爭專利仍可以實施。原告以模糊系爭專利之技術特徵並例舉極端之實例質疑系爭專利之可否實施，實欠公允，故原告之理由應不成立。原告亦質疑系爭專利申請專利範圍第1 項更正後之內容「可彎曲部分位於氣體散流盤之上」是否為系爭專利之技術特徵一節。第1項之更正係參加人（即被舉發人）依專利法第64條第1 項第1 款「申請專利範圍之減縮」之規定申請更正，並經被告審查准予更正（理由見舉發不成立審定理由書），其「可彎曲部分位於氣體散流盤之上」之內容當然為其整體技術特徵內容的一部分，原告欲侷限系爭專利之技術特徵為「可彎曲部分位於氣體散流盤之上」，實有模糊系爭專利技術特徵之嫌，故其理由應不成立。原告亦指稱「是否第
1 項相對於證據3 具有可專利性是因為第1 項作了『之上』的更正？第16、28、36與40項不包括『之上』的技術特徵，為何該些請求項具有可專利性？」一節。由於系爭專利申請專利範圍第1 項更正前之技術特徵內容已經足以與證據3 區分，第1 項得以與證據3 區分不是因為「之上」的更正，才有所區分，故系爭專利申請專利範圍第16、28、36與40項之可專利性與「之上」的技術特徵無涉，併此說明。
⒍綜上所述，原告模糊系爭專利之技術特徵並以極端且不合
理之實例質疑系爭專利之專利性，且對被告舉發不成立之審定理由斷章取義，實有欠公允，其理由均應不成立。
㈢參加人主張：
⒈參加人於95年12月25日提出之申請專利範圍更正本符合專
利法規定「不得超出申請時原說明書或圖式所揭露之範圍」，被告准予更正之審定係適法毫無疑義：
⑴系爭專利之說明書與圖式皆揭示且支持申請專利範圍第
1 項由「該第一端與該第二端之間的至少一可彎曲部分」修改成「該第一端與該第二端之間且位於該氣體散流盤之上的至少一可彎曲部分」之更正。按現行專利法第64條第2 項之規定：「前項更正，不得超出申請時原說明或圖式所揭露之範圍，且不得實質擴大或變更申請專利範圍」。另依現行專利審查基準，更正是否「超出申請時原說明書或圖式所揭露之範圍」係以「該發明所屬技術領域中具有通常知識者自原說明書或圖式所記載事項能直接且無歧異得知者」來判斷，並且「圖式之作用在於補充說明書文字不足的部分，使該發明所屬技術領域中具有通常知識者閱讀說明書時，得依圖式直接理解發明各個技術特徵及其所構成的技術手段…其與發明說明均得作為解釋申請專利範圍之依據。」。換言之，只要申請專利範圍更正部分能夠被原說明書或圖式之任一者所支持，則被視為符合前揭規定。根據前述申請專利範圍之解釋原則，被告並非僅根據原說明書第9 頁第16至19行來准予第1 項之更正「該懸置機構之至少一可彎曲部分係位於該氣體散流盤之上」，而是在參照原說明書第9 頁第16至19行且同時參照第4 圖來准予第1 項之更正，由於任何熟習此技藝之人士在檢視系爭專利第4圖（見本院卷㈠第220 頁），可以明顯地看出「該懸置機構之至少一可彎曲部分係位於該氣體散流盤之上」，因此第1 項更正並未超出原說明書或圖式所揭露之範圍，被告准予更正之審定符合前揭申請專利範圍之解釋原則而適法毫無疑義。
⑵系爭專利之說明書明確地敘述「懸置機構可彎曲」。相
對地，證據3 並未揭示或建議懸掛壁130 可彎曲。原處分認為單由證據3 之圖式（其顯示懸掛壁旁有空隙）無法推知一可彎曲的懸掛壁。雖然證據3 圖式顯示懸掛壁
130 旁有空隙，但其並未揭示或建議懸掛壁130 可彎曲。相反地，因為證據3 之說明書已經教示使薄壁146 作為唯一可以彎曲的構件，因而唯一合乎邏輯的推論是懸掛壁130 無法彎曲。（見證據3 第4 欄第46-51 行，「然而，薄壁146 …所以，薄壁可以在面板100 的徑向方向彎曲且折彎，藉此允許熱扭曲而僅微幅地影響噴灑頭的位置。（However, the thin wall 146…Therefore,
it can flex and bend in the radial direction of
the faceplate 100, thereby accommodating thermaldistortions while only minimally influencing theposition of the showerhead）」）另外，證據3 之薄壁146 不是位在氣體散流盤之上。所以，被告才會做出「無法據以想像、或由圖形目視、或認為該懸掛壁130旁有空隙而推論該懸掛壁係為可彎曲」之審定。此審定是合理的，因為被告是在考量系爭專利與證據3 、4 之各自說明書內文後才判定何構件為可彎曲，並且僅藉由「據以想像、或由圖形目視」（如同原告所言）無法判定何構件係可彎曲。相對地，參加人須指出，即使系爭專利之圖式（其顯示懸置機構旁有空隙）並未繪示出懸置機構之可彎曲性，但圖式清楚地顯示懸置機構之一部分是位在氣體散流盤「之上」。又，系爭專利之說明書（包括發明名稱）係一再重複地且明確地敘述懸置機構之該部分可以彎曲（見摘要、發明領域、發明目的與詳細說明）。故，藉由閱讀系爭專利之說明書內文且同時參照圖式，則可以清楚地得知「懸置機構可以彎曲」且「懸置機構之可彎曲部分係位在氣體散流盤之上」。因此，被告之結論「整體觀之，系爭專利係揭示一可彎曲的懸置機構」係適法，並未與其推論「證據3 與4 沒有揭示一可彎曲的懸掛壁」不一致。故，被告之見解在舉發程序及訴願程序之整個過程都是一致的，原告所謂「被告之見解前後矛盾」係有誤導之嫌。
⒉系爭專利之說明書已載明實施必要之所有事項，符合專利法第71條第3 款規定：
⑴無論請求項是否包含「四片」要件，請求項可以被系爭
專利說明書所支持。懸置機構「四片」並非屬於實施必要之事項。原告於起訴狀中指稱，因系爭專利第1 項及第16項並未將懸置機構界定為「四片」，因而違反專利法第71條第3 款規定。原告之理由係扭曲解釋了系爭專利說明書中將四片作為較佳實施例的敘述以及懸置機構「不希望」有一完整而不中斷側壁的敘述。即使第1 項及第16項並未包含「四片」之要件而第28項有此要件，此3 個請求項都可以被說明書支持。首先，系爭專利之特徵是在於懸置機構，其具有一位在氣體散流盤之上的可彎曲部分。此特徵可以達到「解決氣體散流盤因為熱膨脹所造成的扭曲及破裂問題」及「在處理室壁及該氣體散流盤之間施予實質熱阻抗」功效。懸置機構為四片並非用來達到這些功效的一必要特徵，並且不需被用以與引證之習知技術區分，故不需要在所有獨立項中包含「四片」要件。其次，由力學之觀點而言，懸置機構是否由四片構成與是否為可彎曲以實施並無關聯性。懸置機構是否由四片構成，僅使懸置機構角落附近之力學行為有所不同，但兩者之懸置機構均為可彎曲。換言之，無論懸置機構是否由四片構成，懸置機構均為可彎曲，原告指稱懸置機構必需由四片構成始能據以實施，顯毫無根據，洵無足採。尤其，參加人欲爭執，系爭專利說明書有提供不需要四片要件之實施例的清楚及具體說明。因此，說明書並未將懸置機構限制在四片。系爭專利說明書第16頁末行記載之實施例：「即使可彎曲側壁24為單一完整，且有著方形切面的環形物，因為散流器20之熱導機械擴張及收縮會在側壁角區域生成過量的應力，所以依然不希望有一完整而不中斷的設計…」等語，雖然說明書在後段解釋了為何不希望有一完整而不中斷的設計，然而這樣的設計僅為最佳實施例之說明，其不應限制系爭專利之申請專利範圍。況且，從另一角度觀之，說明書已經有清楚且具體地描述懸置機構或側壁為「單一完整，且有著方形切面的環形物」，其也意謂著系爭專利之懸置機構或側壁也可以是「完整而不中斷的設計」，顯然系爭專利之懸置機構為完整而不中斷的設計是可實施的。實際上，系爭專利說明書中所舉之「實施例」，僅係用於藉以幫助瞭解系爭專利之實施，並非用以限定系爭專利之申請專利範圍。特別是系爭專利說明書於第24頁「發明說明」乙節最末段明確表示：「雖然本發明以較佳實施例說明如上，此僅係用於藉以幫助瞭解本發明之實施，並非用以限定本發明之申請專利範圍；凡熟悉此技藝者於領悟本發明之精神後，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作各種更動與潤飾及等效之變化替換，因此本發明的保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者及等同領域而定」。故，由審查基準之規定、力學觀點、或系爭專利說明書內文所提供的實施例，皆說明系爭專利第1 項及第16項之懸置機構並非必須要界定為「四片」才能被認定成可據以實施，原告之主張顯不足採。
⑵系爭專利之第16項未包含「四片」要件，但第16項具有
與第1 項「至少一可彎曲部分係位於該氣體散流盤之上」相當的技術特徵，而以不同的方式來界定。原告指稱第1項 包含「位於該氣體散流盤之上」要件而第16項無此要件，然其係錯誤。參加人必須指出，雖然第16項並未以相同文字界定「位於該氣體散流盤之上」，但第16項具有與第1 項「位於該氣體散流盤之上」相當的技術特徵，而以不同的方式來界定，而被告也認知此事實。
參系爭專利第16項「…一懸置機構（suspension）有一第一端，一第二端，及該第一端與該第二端之間的至少一可彎曲部分；該第一端連接於該背壁；該第二端連接於該氣體散流盤；以及該懸置機構圍繞著該進氣歧管中的區域，該區域延伸至該進氣歧管背壁與該氣體散流盤之間，…」。原處分知悉第16項具有與第1 項「位於該氣體散流盤之上」相當的技術特徵，並且根據此基礎認定第16項相對於引證之習知技術具有可專利性。更詳細地說，原處分第6 頁第2 點：「申請專利範圍第16項所請標的為『一電漿反應室』，其特徵仍在於包括如申請專利範圍第1 項所述（即理由㈤之1 ），證據3 至5 尚難證明系爭專利申請專利範圍第16項不具新穎性及不具進步性，而違反專利法第20條第1 項第1 款及第2 項之規定」。系爭專利之第4 圖可進一步地支持此理由。顯然，被告合適地同意第16項具有與第1 項「位於該氣體散流盤之上」相當的技術特徵，而以不同的方式來界定。
⑶第1 、16項與第28項之技術內容並不相同，並且可以同
時存在。被告皆核准第1 、16項與第28項，這是因為第
1 、16項與第28項之間的技術內容不同。第1 、16項並未包含「四片」要件，而第28項有包含此要件。倘若欲使所有的獨立項都有相同的要件，則將導致該些獨立項具有相同範疇，其為專利審查基準所不准。參專利審查基準第2 篇第1 章第3.4.2 節之說明：「申請專利範圍每一項記載應簡潔，且申請專利範圍所有請求項整體之記載亦應簡潔，例如一件申請案不得有兩項以上實質相同且屬同一範疇之請求項」。第28項另再包含「四片」要件在於使第28項之範疇有別於第1 、16項。實際上，被告機關於原處分也採相同見解：「又氣體散流盤可以為不同之形狀（圓形、方形、或其他形狀），故懸置機構可配合氣體散流盤形狀而做不同之設計，故其懸置機構是否為多數個部件組成且各部件間以間隙間隔則非為系爭案之必要特徵」（第8 頁第9 至12行）。由於系爭專利之各獨立項皆有界定此可彎曲特徵，系爭專利之各獨立項揭示已屬明確，第1 項及第16項不需要再包含「四片」要件。
⑷原告於起訴狀中之指稱「系爭專利之美國及韓國對應案
皆將申請專利範圍中之懸置機構定義為『四片』」係違背事實，原告企圖誤導鈞院。原告於起訴狀中錯誤地指稱由於系爭專利已經排除「完整而不中斷的設計」，因而系爭專利之美國及韓國對應案皆將申請專利範圍中之懸置機構定義為「四片」。然而，事實並非如此，實際上美國及韓國對應案之許多請求項並未限定懸置機構需為「四片」。美國對應案（US 6,477,980）之總項數共有18項，其中並未限定懸置機構需為「四片」之項數就有12項（第1,2,3,4,9,10,11,12, 13,16,17,18 項），第2 項、第9 項及第16項清楚地涵蓋「僅具有單一片之懸置機構」或「僅具有一側壁部件之單一側壁」：「2.
A gas inlet manifold for a plasma chamber comprising：a back wall perforated by a gas inlet orifice; a gas distribution plate perforated by a number of gas outlet orifices, wherein the gas distribution plate is spaced away from the back wall; and a suspension that encircles a region with
in the gas inlet manifold extending between theback wall and the gas distribution plate, wherei
n the gas inlet orifice and the gas outlet orifi
ces are in fluid communication with said region;wherein the suspension consists of a single shee
t having a first end attached to and abutting th
e back wall and a second end attached to and abutting the gas distribution plate, and wherein substantially all of the sheet is sufficiently thi
n so as to be flexible. 」「9. A gas inlet manif
old for a plasma chamber, comprising: a top wallperforated by a gas inlet orifice; a gas distribution plate perforated by a number of gas outletorifices, wherein the gas distribution plate isspaced away from the top wall; and a side wall having one or more segments; wherein the side wal
l encircles a region within the gas inlet manif
old extending between the top wall and the gas distribution plate, so that the gas inlet orifice
and the gas outlet orifices are in fluid communication with said region; wherein each side wallsegment has an upper end attached to and abuttin
g the top wall of the gas inlet manifold and alo
wer end attached to and abutting the gas distribution plate; and wherein substantially all of ea
ch side wall segment is sufficiently thin so as
to be flexible. 」「16. A gas inlet manifold for
a plasma chamber, comprising: a back wall perforated by a gas inlet orifice; a gas distribut ionplate perforated by a number of gas outlet orifices, wherein the gas distribution plate is space
d away from the back wall; and one or more sidewall segments; wherein each side wall segme ntha
s a first end attached to and abutting the backwall of the gas inlet manifold and a second endattached to and abutting the gas distribution plate; and wherein substantially all of each sidewall segment is flexible. 」韓國對應案（No.00-000000）之總項數共有26項，其中並未限定懸置機構需為「四片」之項數有19項（第2,3,12-15,17,20,22,30-32,40-43,45,48,50 項），參加人僅列舉第13項及第43項例示如下：「13.A plasma chamber comprising:acham
ber wall that includes a gas inlet manifold topwall having one or more gas inlet orifices ; aga
s distribution plate having first and seco ndsurfaces, one or more gas outlet orifices tha texte
nd from the first surface to the second surface,
and a plurality of side surfaces distinct from t
he first and second surfaces; and a suspen sioncomprising a plurality of side walls, where in ea
ch side wall includes a flexible sheet, and wher
ein the number of side walls equals the number o
f side surfaces of the gas distribution plate; wherein a lower portion of each side wall is connected to the gas distribution plate adjacent to
a corresponding one of the side surfaces of the
gas distribution plate; and where in an uppe rportion of each side wall is connected to the gasinlet manifold top wall so as to suspend the gasdistribution plate below the gas inlet manif old
top wall. 」。「43.Apparatus for dispensing gas,comprising:: a gas distribution plate havin gfir
st and second surfaces and a plurality of side surfaces distinct from the first and second surfaces, wherein the gas distribution plate is perforated by one or more gas outlet orifices, and wherein each gas outlet orifice extends from the first surface to the second surface; and asuspens
ion comprising a plurality of side walls,whereineach side wall includes a flexible sheet, and wherein the number of side walls equals the number
of side surfaces of the gas distributionplate ;wherein a lower portion of each side wall is connected to the gas distribution platead jacent t
o a corresponding one of the side surfaces of th
e gas distribution plate. 」由前述所舉之美國及韓國對應案之申請專利範圍可明顯看出，該等申請專利範圍皆並未要求懸置機構必須是四片之設計，由此足證原告所言完全違背事實。
⒊系爭專利第16項及第36項具有與第1 項「至少一可彎曲部
分係位於該氣體散流盤之上」相當的技術特徵，而以不同的方式來界定。由於證據3 並未揭示懸置機構的可彎曲部分位於氣體散流盤「之上」，故第16項及第36項基於證據
3 具可專利性。如同上述二㈡所說明，參見系爭專利第16項，「…一懸置機構（suspension）有一第一端，一第二端，及該第一端與該第二端之間的至少一可彎曲部分；該第一端連接於該背壁；該第二端連接於該氣體散流盤；以及該懸置機構圍繞著該進氣歧管中的區域，該區域延伸至該進氣歧管背壁與該氣體散流盤之間，且其中之該進氣穿孔與該出氣穿孔為該區域的流體傳遞」，由此明顯可知，此含有至少一可彎曲部分之懸置機構乃圍成一空間區域，此空間區域存在於背壁與氣體散流盤之間。如系爭專利第
4 圖所示（見本院卷㈠第220 頁），所謂懸置機構存在於「背壁與氣體散流盤之間」即指懸置機構位在氣體散流盤的頂部之上方。故，雖然第16項並未以相同文字界定「位於該氣體散流盤之上」，但第16項具有與第1 項「位於該氣體散流盤之上」相當的技術特徵，而以不同的方式來界定。此外，被告也認知此事實，被告於訴願答辯書第5 頁第12至15行）也進一步說明：「至於訴願理由強調第16、
28、36項並未有如申請專利範圍第1 項強調可彎區部分『位於氣體散流盤之上』，惟第16、28、及36項皆已具體界定該可彎曲部分位於第一端與該第二端之間，其主要特徵及原理完全相同」。又，訴願決定亦肯認被告之見解（第16頁倒數第5 行至第17頁第4 行) ，認定：「查系爭專利申請專利範圍第16、28、及36項雖並未如其申請專利範圍第1 項強調可彎區部分『位於氣體散流盤之上』，然該等請求項皆已具體界定該可彎曲部分位於第一端與該第二端之間，故其等之主要特徵及原理與系爭專利申請專利範圍第1 項獨立項完全相同。」。由此足證，雖然第16項並未以相同文字界定「位於該氣體散流盤之上」，但第16項具有與第1 項「位於該氣體散流盤之上」相當的技術特徵，而以不同的方式來界定。另外，參見系爭專利第36項，「…提供一進氣歧管側壁，該側壁具有一第一端、一第二端及該第一端與該第二端之間的至少一可彎曲部分；…連接一進氣歧管背壁，以鄰接該進氣歧管側壁之該第一端；連接該進氣歧管側壁之該第二端至一氣體散流盤，…」。參加人欲指出，雖然第36項並未以相同文字界定「位於該氣體散流盤之上」，但第36項具有與第1 項「位於該氣體散流盤之上」相當的技術特徵，而以不同的方式來界定。由以上說明，可知系爭專利第16項及第36項已經界定懸置機構之可彎曲部分在氣體散流盤「之上」。由於證據3 並未揭示懸置機構的可彎曲部分係在氣體散流盤「之上」，第16項及第36項應獲准，原處分之審定適法無誤。
⒋參加人在舉發補充答辯書所提之原先主張：「材料具延展
性並不表示該材料的最終結構必然可彎曲」並非意指「『可彎曲部分』之範圍不包括一般金屬之延展性」，並未與參加人在專利侵權民事訴訟所提之新主張相左。參加人在舉發補充答辯書所提之原先主張：「材料具延展性並不表示該材料的最終結構必然可彎曲」（95年7 月17日提出之舉發補充答辯書第5 頁第10至11行），參加人係意指「由具有延展性之材料所構成的結構可以或不可以彎曲（取決於該結構之形狀、厚度等等）」。然而，原告在起訴狀中卻錯誤地扭取此主張，將其解讀成「『可彎曲』不包括『具延展性』」。參加人須指出，原告所指稱「申請專利範圍第1 項、第16項、第28項及第36項所稱『可彎曲部分』之範圍不包括一般金屬之延展性」係為錯誤且極難以置信之邏輯推論。相較於參加人在96年11月20日針對專利侵權民事訴訟所提出之民事準備書㈦狀之新主張：「原告（即參加人）於舉發答辯狀之陳述及智慧局舉發審定書意見中，均未將『一般金屬之延展性』排除於『可彎曲』之適用範圍外…」，可明顯得知參加人並未推翻前述原先之主張。顯然，原告欲利用錯誤邏輯推論所獲得之錯誤結果以不法手段來使系爭專利被撤銷。特別是，參加人必須指出，被告之理由不僅未與參加人於專利侵權民事訴訟所提之之新主張相左，被告在原處分中進一步地又將為何採納參加人原先主張的心證形成過程具體地詳細說明（參原處分第
5 頁第㈤-1- ⑵節) ，「金屬材質（鋁材質）具有延展性，其於受到外力時有可能產生形變或彎曲，此故為金屬材質（鋁材質）之固有特性，亦為眾所皆知，然其必須有特定的設計方能應用及承受氣體散流盤之熱膨脹應力，換言之，在證據3 或系爭專利之系統操作條件下，並非只要是鋁材質就可彎曲（尚需視其尺寸長厚比例及承受之外力），或其彎曲程度足以緩衝該系統之熱膨脹應力」。顯然，原告之指稱係錯誤，且原告有企圖誤導之嫌。
⒌系爭專利第40項以「相對位置」界定進氣歧管之側壁係設
於背壁及氣體散流盤之間，與證據3 或證據4 明顯不同，故第40項基於證據3 或證據4 具可專利性。原告於起訴狀中指稱，系爭專利第40項涵蓋證據3 或證據4 所揭示之習知技術，不具專利性。然而，請參照系爭專利第4 圖（見本院卷㈠第220 頁）。參見系爭專利第40項，「…提供一進氣歧管側壁於該電漿室中，該進氣歧管側壁具有一第一端與一第二端；放置該進氣歧管側壁於該電漿室中，以便環繞於該電漿室的進氣歧管區域；…連接一進氣歧管背壁，以便裝置該進氣歧管側壁之該第一端；及連接一氣體散流盤至該進氣歧管側壁之該第二端，…，其中該進氣歧管側壁、該進氣歧管背壁及該氣體散流盤都共同地環繞該進氣歧管區域，…，施予實質熱阻斷於該反應室的該區域與該氣體散流盤的該區域之間」。參加人欲指出，雖然第40項並未以文字界定「側壁係設於背壁及氣體散流盤之間」，但第40項以相對位置界定此特徵。證據3 或證據4 並未揭示系爭專利第40項，故第40項基於證據3 或證據4 具可專利性，原處分之審定係適法無誤。
理 由
一、按「稱發明者，謂利用自然法則之技術思想之高度創作。」、「凡可供產業上利用之發明，無下列情事之一者，得依本法申請取得發明專利：一、申請前已見於刊物或已公開使用者。…」、「發明係運用申請前既有之技術或知識，而為熟習該項技術者所能輕易完成時，雖無前項所列情事，仍不得依本法申請取得發明專利。」、「有下列情事之一者，專利專責機關應依職權撤銷其發明專利權，並限期追繳證書，無法追回者，應公告證書作廢。一、…。三、說明書或圖式不載明實施必要之事項，或記載不必要之事項，使實施為不可能或困難者。四、說明書之記載非發明之真實方法者。」分別為系爭專利核准時專利法第19條、第20條第1 項第1 款、第2 項、第71條第3 款及第4 款所明定。而對於獲准專利權之發明，任何人認有違反首揭專利法第19條至第21條或第71條第3 款或第4 款者，依法得附具證據，向專利專責機關舉發之。從而，系爭專利有無違反首揭專利法之情事而應撤銷其發明專利權，依法應由舉發人附具證據證明之，倘其證據不足以證明系爭專利有違首揭專利法之規定，自應為舉發不成立之處分。
二、參加人美商‧應用材料股份有限公司前於90年1 月16日以「電漿室中以可彎曲方式懸固之氣體散流組件」向被告智慧財產局申請發明專利，同時並以受理國家為美國，申請日為西元2000年1 月20日，申請案號為09/488,612號之專利案主張優先權。經被告編為第00000000號審查，准予專利，並於公告期滿後，發給發明第152996號專利證書（下稱系爭專利）。嗣原告於93年3 月22日提出專利舉發申請書，對系爭專利提起舉發，主張系爭專利違反核准時專利法第20條第1 項第
1 款、第2 項、第22條第4 項、第71條第3 款、第4 款及專利法施行細則第16條第2 項規定。嗣參加人於93年8 月13日提出系爭專利申請專利範圍更正本，因所援引之法律依據有誤，經被告就本件專利舉發案於94年9 月2 日進行面詢時，告知參加人應更正。參加人乃於95年1 月6 日再提出系爭專利申請專利範圍更正本，請求更正系爭專利申請專利範圍第
1 項、7 項、8 項、9 項、16項、28項及第40項，經被告審查，因其中申請專利範圍第16項及第40項有不准予更正之情事，乃以95年12月7 日（95）智專三（五）01064 字第09521047520 號函通知參加人限期重新提出更正本。參加人依被告之函知，復於95年12月25日重新提出系爭專利申請專利範圍更正本（更正部分為申請專利範圍第1 項、第7 項、第8項、第9 項、第28項及第40項）。經被告將該更正本與系爭專利91年3 月1 日公告本比較，核認該等請求項之更正，或為「申請專利範圍之縮減」，或為「誤記事項之訂正」，或為「不明瞭記載之釋明」，且均未實質擴大或變更申請專利範圍，符合專利法規定，准予更正。本件專利舉發案依系爭專利95年12月25日更正本審究。案經被告審查，為「舉發不成立」之處分。原告不服，循序提起行政訴訟，並為事實欄所載各節之主張，是本件應審酌者厥為：
⑴參加人95年12月25日所為之更正是否合法？⑵系爭專利之實施是否可能？⑶證據3 、4 可否證明系爭專利不具新潁性及進步性？
三、關於⑴參加人95年12月25日所為之更正是否合法部分：㈠按「…⑹專利權人僅繳納一次申請更正之規費，但提出多次
更正說明書或圖式時，應以最近一次所提出之更正本審查，判斷該更正本是否超出原申請時說明書或圖式所揭露之範圍以及是否實質擴大或變更原核准公告之申請專利範圍。…」為被告西元2004版專利審查基準第2 篇發明專利實體審查2-6-72頁所規定。
㈡原告固訴稱參加人既於93年8 月13日提出第一次系爭專利申
請專利範圍更正本，已刪除部分系爭專利專利權範圍，卻於提出第二次及第三次更正本中回復該已刪除之請求項，顯已構成申請專利範圍之新增，應非法之所許，且更正後之系爭專利申請專利範圍第1 項已變更實質等語。
㈢經查，本件參加人於93年8 月13日提出系爭專利申請專利範
圍更正本，並於專利更正申請書說明其係依90年10月24日修正公布之專利法第67條規定提出本件系爭專利申請專利範圍更正申請案等語。嗣被告就本件專利舉發案於94年9 月2 日舉辦面詢時，告知參加人提出系爭專利申請範圍更正本時應敘明理由，且引用之條款應依92年2 月6 日修正公布，93年
7 月1 日施行之專利法規定（參見卷附94年9 月2 日第00000000N01 號舉發案專利面詢記錄表）。嗣參加人乃於95年1月6 日提出系爭專利申請專利範圍更正本，除說明將原93年
8 月13日所提出系爭專利申請專利範圍多數更正內容（包含原申請專利範圍第28至35項）撤回外，並請求更正系爭專利申請專利範圍第1 項、7 項、8 項、9 項、16項、28項及第40項。經被告審查，認其中申請專利範圍第16項及第40項有不准予更正之情事，以95年12月7 日（95）智專三（五）01
064 字第09521047520 號函通知參加人限期重新提出更正本；參加人乃於95年12月25日重新提出系爭專利申請專利範圍更正本，主張申請專利範圍第16項回復至原核准公告之申請專利範圍，申請專利範圍第40項部分更正外，其餘申請專利範圍第1 項、7 項、8 項、9 項、28項並未更正（其內容與95年1 月16日更正本同）。本件參加人就系爭專利前後共提出3 次更正本，其中93年8 月13日所提出之更正本，業經參加人於95年1 月6 日重新提出更正本時，聲明撤回該93年8月13日更正本。而95年1 月6 日與95年12月25日申請更正之範圍相同，則被告以最近一次，即95年12月25日系爭專利申請專利範圍更正本與系爭專利91年3 月1 日公告本比較，依前述審查基準之規定，並無不合。又參加人於93年8 月13日系爭專利申請專利範圍更正本雖曾主張刪除某些請求項，惟該更正本並未經被告審查並公告，自無拘束被告之效力；況本件應以95年12月25日系爭專利申請專利範圍更正本與系爭專利91年3 月1 日公告本比較，以判斷該更正本是否超出原申請時說明書或圖式所揭露之範圍，已如前述，尚不發生如原告所稱，系爭專利之申請專利範圍有先刪除再回復致有新增之情事。原告所述，容有誤解。
㈣另參加人申請將系爭專利申請專利範圍第1 項獨立項原所載
「該第一端與該第二端之間的至少一可彎曲部分」部分，更正為「該第一端與該第二端之間且位於該氣體散流盤之上的至少一可彎曲部分」，查前述系爭專利申請專利範圍第1 項獨立項原所載部分之文義，已包含該彎曲部分可能在氣體散流盤之上方或下方，或在氣體散流盤之上、下方亦可彎曲。
且關於系爭專利懸置機構及其氣體散流盤之相對位置關係，在系爭專利說明書第9 頁第15行至第19行及第10頁第1 行至第6 行已分別記載「…進氣歧管是屬於反應室（chamber ）的內部且其底部係裝置於氣體散流盤或是散流器盤之上，其旁邊為可彎曲式的側壁或懸置機構24（suspension）…」、「…，以一細且可彎的側必（應為壁之誤繕）或是懸置機構24…，此懸置機構為可彎曲的狀態」，及第2 圖與第4 圖已揭示懸置機構之第二端（即下端）係與氣體散流盤或是散流器盤連接，且該懸置機構彎曲部分可在氣體散流盤或是散流器盤之上。故該更正後之「彎曲部分僅在氣體散流盤之上」之部分，應屬系爭專利申請專利範圍之減縮，並未超出申請時原專利說明書或圖式所揭露之範圍，亦未實質變更申請專利範圍。被告准予更正，於法尚無不合。
㈤復按現行專利法第64條第2 項之規定：「前項更正，不得超
出申請時原說明或圖式所揭露之範圍，且不得實質擴大或變更申請專利範圍」。另依現行專利審查基準，更正是否「超出申請時原說明書或圖式所揭露之範圍」係以「該發明所屬技術領域中具有通常知識者自原說明書或圖式所記載事項能直接且無歧異得知者」來判斷，並且「圖式之作用在於補充說明書文字不足的部分，使該發明所屬技術領域中具有通常知識者閱讀說明書時，得依圖式直接理解發明各個技術特徵及其所構成的技術手段…其與發明說明均得作為解釋申請專利範圍之依據。」。換言之，只要申請專利範圍更正部分能夠被原說明書或圖式之任一者所支持，則被視為符合前揭規定。根據前述申請專利範圍之解釋原則，被告並非僅根據原說明書第9 頁第16 至19 行來准予第1 項之更正「該懸置機構之至少一可彎曲部分係位於該氣體散流盤之上」，而是在參照原說明書第9 頁第16至19行且同時參照第4 圖來准予第
1 項之更正，由於任何熟習此技藝之人士在檢視系爭專利第
4 圖（見本院卷㈠第220 頁），可以明顯地看出「該懸置機構之至少一可彎曲部分係位於該氣體散流盤之上」，因此第
1 項更正並未超出原說明書或圖式所揭露之範圍，被告准予更正之審定符合前揭申請專利範圍之解釋原則而為適法，堪予認定。
四、關於⑵系爭專利之實施是否可能部分：㈠本件系爭第00000000號「電漿室中以可彎曲方式懸固之氣體
散流組件」發明專利舉發案，其申請專利範圍共計40項，其中第1 項、第16項、第28項、第36項及第40項為獨立項，餘為屬附項。而原告所提舉發證據1 為系爭專利專利說明書公告本影本，證據2 為西元2002年11月12日公告之美國第6,477,980B1 專利案（為系爭專利之美國對應案），證據3 為西元1999年3 月16日公告之美國第5,882,411 號專利案，證據
4 為西元1997年7 月15日公告之美國第5,647,911 號專利案，證據5 為西元1996年12月10日公告之美國第5,582,866 號專利案，先予敘明。
㈡原告稱：根據系爭專利說明書及圖示之內容，系爭專利說明
書已明確排除側壁係「完整而不中斷的設計」，是以側壁或懸置機構必須定義為「四片」，方始符合說明書所描述之技術特徵。若懸置機構係「完整而不中斷」之設計，則氣體散流盤在高達300 ℃的工作溫度下，將產生如說明書所描述「角區域應力過大」之問題。故，系爭專利之美國對應案及韓國對應案，一律將申請專利範圍中之懸置機構，定義為「四片」，然系爭專利除第28項之文字將懸置機構定義為「四片」之外，申請專利範圍第1 項及第16項皆因欠缺「四片」之定義，而未符合說明書所揭示之技術特徵。鑑於「申請專利範圍」乃屬核准時專利法所稱「說明書」，而系爭專利第1項及第16項申請專利範圍因欠缺記載「四片」之要件，而致無可實施或實施顯有困難，則系爭專利申請專利範圍第1 項及第16項顯該當其核准時專利法第71條第3 款所稱：「不載明實施必要之事項（按：即「四片」），使實施為不可能或困難」，而顯應構成撤銷專利之事由。同理，系爭專利第36項之「側壁」亦欠缺記載「四片」之要件，而違反核准時專利法第71條第3 款規定，顯應構成撤銷專利之事由云云。
㈢惟查：
⒈系爭專利之技術特徵在於懸置機構有一第一端、一第二端
、及該第一端與該第二端之間且位於該氣體散流盤之上的至少一可彎曲部分（第1 至39項）；該第一端連接於該背壁；該第二端連接於該氣體散流盤；以及該懸置機構圍繞著該進氣歧管中的區域，該區域延伸至該背壁與該氣體散流盤之間。至於該懸置機構與背壁或氣體流散盤是否為一體成型則並非系爭專利之特徵。又氣體散流盤可以為不同之形狀（圓形、方形、或其他形狀），故懸置機構可配合氣體散流盤形狀而做不同之設計，故其懸置機構是否為多數個部件組成且各部件間以間隙間隔則非為系爭專利之必要特徵。
⒉又系爭專利之特徵是在於懸置機構，其具有一位在氣體散
流盤之上的可彎曲部分。此特徵可以達到「解決氣體散流盤因為熱膨脹所造成的扭曲及破裂問題」及「在處理室壁及該氣體散流盤之間施予實質熱阻抗」功效。懸置機構為四片並非用來達到這些功效的一必要特徵，故不需要在所有獨立項中包含「四片」要件。其次，由力學之觀點而言，懸置機構是否由四片構成與是否為可彎曲以實施並無關聯性。懸置機構是否由四片構成，僅使懸置機構角落附近之力學行為有所不同，但兩者之懸置機構均為可彎曲。換言之，無論懸置機構是否由四片構成，懸置機構均為可彎曲，原告指稱懸置機構必需由四片構成始能據以實施，洵無足採。
⒊再者，系爭專利說明書中所舉之「實施例」，僅係用於藉
以幫助瞭解系爭專利之實施，並非用以限定系爭專利之申請專利範圍。特別是系爭專利說明書於第24頁「發明說明」乙節最末段明確表示：「雖然本發明以較佳實施例說明如上，此僅係用於藉以幫助瞭解本發明之實施，並非用以限定本發明之申請專利範圍；凡熟悉此技藝者於領悟本發明之精神後，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作各種更動與潤飾及等效之變化替換，因此本發明的保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者及等同領域而定」。足見，說明書並未將懸置機構限制在四片。故系爭專利第1項及第16項之懸置機構並非必須要界定為「四片」才能被認定成可據以實施，原告之主張顯不足採。
⒋另依系爭專利第16項「…一懸置機構（suspension）有一
第一端，一第二端，及該第一端與該第二端之間的至少一可彎曲部分；該第一端連接於該背壁；該第二端連接於該氣體散流盤；以及該懸置機構圍繞著該進氣歧管中的區域，該區域延伸至該進氣歧管背壁與該氣體散流盤之間，…」。足見系爭專利之第16項雖未包含「四片」要件，但第16項具有與第1 項「至少一可彎曲部分係位於該氣體散流盤之上」相當的技術特徵，而以不同的方式來界定。是原告此部分所述，要不足採。
五、關於⑶證據3 、4 可否證明系爭專利不具新穎性及進步性部分：
㈠查，原告就被告認證據2 非屬系爭專利申請前之先前技術，
證據5 不足以證明系爭專利申請專利範圍第1 項、第16項、第28項、第36項及第40項等各項獨立項不具新穎性及進步性；及系爭專利未違反核准時專利法第71條第3 款及第4 款部分，於訴願階段及本院未再爭執，故就此部分毋庸審議；另原告主張系爭專利違反其核准時專利法（90年10月24日修正公布）第22條第4 項及專利法施行細則第16條第2 項規定乙節。惟查，上該二條文所規定之情事，並非專利法所定得提起專利舉發之事由，故就本件專利舉發案而言，亦毋庸審究。茲就證據3 、4 可否證明系爭專利不具進步性說明如次。
㈡系爭專利申請專利範圍第1 項、第16項、第28項、第36項及第40項獨立項部分：
⒈系爭專利申請專利範圍第1 項獨立項與證據3 或證據4 比較：
證據3 揭示面板邊緣之兩個深槽彼此徑向偏移而於其間形成一薄壁，並藉此薄壁將噴灑頭與其支撐壁作熱隔絕，以及緩衝熱膨脹產生應力之原理，固與系爭專利利用可彎曲之懸置機構以達成熱阻隔及緩衝熱膨脹產生之應力之原理相同，惟二者之結構不同。證據4 雖揭示有一鋁製之間隔器，惟該鋁間隔器係用於調整該氣體散流盤至晶圓之間距。又證據3及 證據4 並未界定懸置壁或鋁間隔器係為可彎曲之特徵，而金屬材質（鋁材質）具有延展性，其在受到外力時有可能產生形變或彎曲，此為金屬材質之特性，然其必須有特定之設計方能應用及承受氣體流散盤之熱膨脹應力。換言之，在系爭專利或證據3 或證據4 之系統操作條件下，並非鋁材質即可彎曲，尚需視其尺寸長厚比例及承受之外力而定；或其彎曲程度足以緩衝該系統之熱膨脹應力，故縱證據3 之懸置壁係使用金屬或鋁材質，或證據
4 之間隔器為鋁材質，因證據3及 證據4 均未界定或說明該懸置壁或間隔器係具有可彎曲之特徵，尚難以該等構件之材質可能為金屬材質之設想，或依圖式目視，而認證據
3 之懸置壁或證據4 之間隔器係為可彎曲。且證據3 或證據4 亦未指出其可利用該懸置壁或間隔器之彎曲且程度足以達到其做為緩衝熱膨脹應力，及施予實質熱阻段之作用。是證據3 或證據4 之結構與系爭專利明顯不同，且未揭示系爭專利申請專利範圍第1 項獨立項之技術特徵，系爭專利之專利特徵亦非熟習該項技術者運用申請前既有證據
3 或證據4 之技術所能輕易完成者，是系爭專利申請範圍第1 項獨立項具新穎性及進步性。
⒉系爭專利申請專利範圍第16項、第28項及第36項獨立項與證據3 或證據4 之比較：
系爭專利申請專利範圍第16項、第28項及第36項獨立項之主要技術特徵均與系爭專利申請專利範圍第1 項獨立項之技術特徵相同，故證據3 或4 亦不足以證明系爭專利申請專利範圍第16項、28項及第36項獨立項不具新穎性及進步性，其理由與前述系爭專利申請專利範圍第1 項獨立項相同。原告又訴稱，被告忽略系爭專利申請專利範圍第16項、28項及36項僅界定「該第一端與該第二端之間的至少一可彎曲部分」，未如其第1 項尚有「且位於該氣體散流盤之上」之界定，即援引該第1 項之理由，而認上述各獨立項具新穎性及進步性，顯違反逐項審查原則等語。查系爭專利申請專利範圍第16 項 、第28項及第36項獨立項雖未如其申請專利範圍第1 項獨立項強調可彎曲部分係位於該氣體散流盤之上，然該等請求項均已具體界定該可彎曲部分位於第一端及第二端之間，故其等之主要特徵及原理與系爭專利申請專利範圍第1 項獨立項完全相同。系爭專利申請專利第16項、第28項及第36項獨立項之主要技術特徵既與其申請專利範圍第1 項獨立項相同，則被告就該等獨立項與證據3 或證據4 之比較，援引系爭專利申請專利範圍第1 項獨立項之審查理由，而認定該等獨立項具新穎性及進步性，尚無違反逐項審查原則，原告所述，核不足採。
⒊系爭專利申請專利範圍第40項獨立項與證據3 或4 比較：
原告雖謂被告認系爭專利申請專利範圍第40項已界定「側壁係設於背壁及氣體散流盤之上」，然系爭專利此項申請專利範圍並無如此界定，亦未進一步界定用何種結構或方式來施予實質熱阻斷於該反應室壁與該氣體散流盤之間等語。然查，被告於原處分理由㈤5 已載明「系爭專利申請專利範圍第40項…，其特徵為界定進氣岐管之側壁，且界定其『相對位置』為一端連接於背壁，一端則連接於氣體流散盤，…」字樣，是被告應係認定系爭專利申請專利範圍第40項已界定系爭專利側壁之兩端係分別與背壁及氣體散流盤連接，該側壁係設於背壁與氣體散流盤之間（此可見於被告於訴願答辯書理由㈡之5第35 行以下）；且依系爭專利申請專利範圍第40項所載其進氣岐管側壁具有一第一端與第二端，連接一進氣岐管背壁，以便裝置該進氣岐管側壁之該第一端；及連接一氣體散流盤至該進氣歧管側壁之該第二端，該氣體散流磐有數個出氣穿孔，所以該氣體散流盤接觸該第二端於一區間，其中該進氣岐管側壁、該進氣岐管背壁及該氣體散流盤都共同地環繞該進氣岐管區域；供應氣體經由一空孔至進氣岐管背壁，所以該氣體流進該進氣岐管區域，然後流經氣體出氣穿孔而進入該電漿室之內部；以及其中連接進氣岐管之步驟包含施予實質熱阻斷於該反應室壁之該區域與該氣體散流盤之該區域之間等語觀之，系爭專利申請專利範圍第40項確實已界定其側壁之兩端係分別與背壁及氣體散流盤連接，並界定其進氣岐管側壁、進氣岐管背壁及氣體散流盤都共同地環繞該進氣岐管區域，且其中連接進氣岐管之步驟包含施予實質熱阻斷於該反應室壁之該區域與該氣體散流般之該區域之間，是原告所言，容有誤解。又證據3 實施例所揭示之熱阻氣門係利用二共軸深槽間之壁，該二深槽係設於面板底部邊緣，其長度受限於噴灑頭之厚度。而系爭專利申請專利範圍第40項獨立項之側壁則設於背壁及氣體散流盤之間，二者之結構特徵不同；況系爭專利較證據3可 有更大之彈性來做設計以達到較大之熱阻抗。又證據4揭 示之熱阻抗方法係利用具高阻抗之石英環48材質本身之特性以抵抗熱衝擊，與系爭專利之專利特徵明顯不同，且證據4 未說明該鋁間隔器有作為提供熱阻斷之目的及設計基礎。是證據3 或4 不足證明系爭專利申請專利範圍第40項獨立項不具新穎性及進步性。另被告就系爭專利申請專利範圍第40項獨立項之審查，並未援引其申請專利範圍第1 項獨立之理由，故亦無原告所述，有違反逐項審查之情事。
六、原告訴稱，參加人既於韓國相對應案限制其「側壁的數目是
4 個」，何以於我國卻可以不限縮；參加人於舉發答辯書所論述之理由，與其於系爭專利專利侵權民事答辨狀所述理由，前後反覆不一，顯有違禁反言原則等語。經查，本件縱參加人於系爭專利之韓國相對應案中之申請專利範圍已載明「側壁的數目是4 個」等字樣，然因我國專利制度與韓國不盡相同，況我國專利制度係採屬地主義，就系爭專利申請專利範圍之更正，當依我國專利法之規定予以審查，並不受參加人於韓國所為行為之拘束。則參加人就系爭專利申請專利範圍之更正，即使未與其於韓國相對案所為之修正相同，亦無禁反言原則違反之情事。再者，專利舉發與專利侵權制度二者所規範之要件及目的並不同，參加人於系爭專利舉發答辯書所述，係針對專利法有關舉發規定及原告所提之舉發理由之內容而為之；關於專利侵權民事答辯書所載，則係針對專利侵權規定之要件與原告於民事起訴狀之內容所為，縱答辯內容並非一致，乃肇因於法律規定及兩造攻擊防禦方法不同，原告尚難執此，而謂參加人所言有違反禁反言原則，是原告所述，容有誤解。
七、綜上所述，被告認系爭專利未違反其核准時專利法第20條第
1 項第1 款、第2 項、第71條第3 款及第4 款規定，所為本件舉發不成立之處分，並無不法，訴願決定予以維持，亦無不合。原告徒執前詞，訴請撤銷，及請求被告應作成舉發成立之處分，為無理由，應予駁回。
八、兩造其餘攻擊防禦方法均與本件判決結果不生影響，故不逐一論述，併此敘明。
據上論結，本件原告之訴為無理由，爰依行政訴訟法第98條第1項前段，判決如主文。
中 華 民 國 97 年 9 月 10 日
臺北高等行政法院第二庭
審判長法 官 徐 瑞 晃
法 官 畢 乃 俊法 官 陳 金 圍上為正本係照原本作成。
如不服本判決，應於送達後20日內，向本院提出上訴狀並表明上訴理由，如於本判決宣示後送達前提起上訴者，應於判決送達後20日內補提上訴理由書（須按他造人數附繕本）。
中 華 民 國 97 年 9 月 10 日
書記官 陳 可 欣